【技术实现步骤摘要】
连续均匀镀膜的调节方法
本专利技术属于镀膜
，特别涉及一种连续均匀镀膜的调节方法。
技术介绍
传统Batch真空镀膜机，基片脱气约30分钟之后才开始镀膜。待镀基片从大气环境进入真空环境的连续镀膜机，之后在很短的时间(一般为2-5分钟)内就开始镀膜，基片表面的杂质气体难以完全清除。杂质气体会影响靶的溅射率，造成基板行进方向上镀制的膜层厚度不均匀，溅射率越大，膜层厚度越厚。如图3所示，现有解决方案为：第一种方案，在进口区CM1、CM2、CM3腔室对镀膜框架(即图3中的英文字母KJ)上的基片进行加热。其缺点是：部分基片不耐温，方法有局限性。其中CM表示腔室，CM后面的数字表示腔室的编号；KJ表示镀膜框架，KJ后面的数字表示镀膜框架的编号，镀膜框架由CM1进入，并向CM5一侧移动。第二种方案，CM2腔室增加Polycold冷阱，捕捉杂质气体。缺点是：Polycold价格高，且镀膜框架在CM2腔室停留时间短，脱气效果不好。一套Polycold需要50万元人民币。第三种方案，进口区增加离子处理系统，如霍尔离子源、考夫曼离子源、射频离子源、线性离子源等等。缺点是：价格非常...
【技术保护点】
1.一种连续均匀镀膜的调节方法，其特征在于包括以下步骤：1）通过光度计、椭偏仪或台阶仪测试当前玻璃上各位置的膜层厚度，进而掌握膜厚变化规律；2）在旋转阴极（1）的A管（101）与CM3腔室边缘处，加装光电感应器（2）；光电感应器（2）与控制器电连接，控制器与旋转阴极（1）电连接；3）当KJ1到达光电感应器（2）的位置时，计时器计时“0”秒，根据掌握的膜厚变化规律，降低或升高A管（101）的转速r；降低转速r会降低溅射率s，从而降低镀膜厚度，升高转速r会增加溅射率s，从而增加镀膜厚度；4）KJ1继续行驶T1秒后，恢复A管（101）至正常转速r；再经过T2秒后，计时器计时恢复至...
【技术特征摘要】
1.一种连续均匀镀膜的调节方法，其特征在于包括以下步骤：1）通过光度计、椭偏仪或台阶仪测试当前玻璃上各位置的膜层厚度，进而掌握膜厚变化规律；2）在旋转阴极（1）的A管（101）与CM3腔室边缘处，加装光电感应器（2）；光电感应器（2）与控制器电连接，控制器与旋转阴极（1）电连接；3）当KJ1到达光电感应器（2）的位置时，计时器计时“0”秒，根据掌握的膜厚变化规律，降低或升高A管（101）的转速r；降低转速r会降低溅射率s，从而降低镀膜厚度，升高转速r会增加溅射率s，从而增加镀膜厚度；4）KJ1继续行驶T1秒后，恢复A管（101）至正常转速r；再经过T2秒后，计时器计时恢复至“0”秒状态；5）当KJ2到达光电感应器（2）的位置时，根据KJ2行进方向膜厚变化规律，降低或升高A管（101）的转速r；6）KJ2继续行驶T1秒后，恢复A管（101）至正常转速r；再经过T2秒后，计时器计时恢复至“0”秒状态；7）重复步骤5）和步骤6），依次完成KJ3至KJN的镀膜。2.根据权利要求1所述的连续均匀镀膜的调节方法，其特征在于：T1为每个框架KJ镀膜周期时间。3.根据权利要求2所述的连续均匀镀膜的调节方法，其特征在于：T2为框架KJN与下一个框架KJN+1间隔镀膜时间。4.根据权利要求3所述的连续均匀镀膜的调节方法，其特征在于：当KJ1达到光电感应器（2）处时，光电信号gd=1；当框架KJ1完全离开光电感应器（2）时，光电信号gd=0；KJ2达到光电感应器（2）处时，光电信号gd=1；当...
【专利技术属性】
技术研发人员：方凤军，何建军，崔继文，李会社，杜圣峰，
申请(专利权)人：宜昌南玻显示器件有限公司，中国南玻集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。