光学邻近效应修正模型及其建立方法和掩膜板的形成方法技术

一种光学邻近效应修正模型及其建立方法和掩膜板的形成方法，建立方法包括：提供若干参考图形；对所述参考图形进行阈值获取处理，所述阈值获取处理的方法包括：以参考图形为掩膜进行第一模拟曝光处理，获取参考光强分布；根据所述参考图形获取测试掩膜板；以所述测试掩膜板为掩膜进行测试曝光处理，获取测试图形，所述测试图形具有测试尺寸；通过测试图形和参考光强分布获取阈值信息，所述阈值信息用于在所述参考光强分布中获取第一矫正图形，所述第一矫正图形具有第一矫正尺寸，所述第一矫正尺寸与所述测试尺寸相等；获取与所述参考图形对应的参考信息；建立参考信息和阈值信息的对应关系模型。所述方法建立的光学邻近效应修正模型的精度较高。

Optical proximity correction model and its establishment method and mask formation method

【技术实现步骤摘要】
光学邻近效应修正模型及其建立方法和掩膜板的形成方法
本专利技术涉及半导体制造
，尤其涉及一种光学邻近效应修正模型及其建立方法和掩膜板的形成方法。
技术介绍
光刻技术是半导体制作技术中至关重要的一项技术，能够实现将图形从掩模板中转移到硅片表面，形成符合设计要求的半导体产品。随着设计尺寸的不断缩小，设计尺寸已经接近或者小于光刻过程中使用的光波波长，光的衍射效应和干涉效应变得越来越明显，导致实际形成的光刻图案相对于掩膜板上的图案发生严重畸变，最终在硅片上经过光刻形成的实际图形变得和设计图形不同，这种现象被称为光学邻近效应(OPE：OpticalProximityEffect)。为了减小光学邻近效应引起的光刻图形的畸变，常用方法是光学邻近效应修正方法(opticalproximitycorrection，OPC)。光学邻近效应修正方法通常分为两大类：基于规则的方法和基于模型的方法。基于规则的方法需要事先建立矫正规则数据库，实际处理中只需通过查找数据库便可以得到矫正数据，实现对掩膜板图形的矫正，因此这种方法在处理大规模集成电路版图时速度快，功能强；基于模型的方法需要事先选择适当的光学模型，实际处理中利用光学模型模拟光刻成像的过程，实现对掩膜板图形的矫正，因此这种方法需要消耗较多的时间和空间，但是矫正结果的精确度较高。然而，现有技术形成的数学模型进行的光学邻近效应矫正的精度较低且耗时较大。
技术实现思路
本专利技术解决的问题是提供一种光学邻近效应修正模型及其建立方法和掩膜板的形成方法，能够提高光学邻近效应修正的精度、并降低时间成本。为解决上述问题，本专利技术提供一种光学邻近效应修正模型的建立方法，包括：提供若干参考图形；对所述参考图形进行阈值获取处理，获取阈值信息和参考信息，所述阈值获取处理的方法包括：以参考图形为掩膜进行第一模拟曝光处理，获取参考光强分布；根据所述参考图形获取测试掩膜板；以所述测试掩膜板为掩膜进行测试曝光处理，获取测试图形，所述测试图形具有测试尺寸；通过测试图形和参考光强分布获取阈值信息，所述阈值信息用于在所述参考光强分布中获取第一矫正图形，所述第一矫正图形具有第一矫正尺寸，所述第一矫正尺寸与所述测试尺寸相等；获取与所述参考图形对应的参考信息；重复所述阈值获取处理至获取若干参考信息以及相应的阈值信息；建立参考信息和阈值信息的对应关系模型。可选的，所述阈值信息包括光强阈值，所述参考光强分布中光强大于和等于所述光强阈值的位置信息构成的图形为第一矫正图形。可选的，还包括：根据测试图形获取若干参考光强分布和的初始光强阈值。可选的，所述阈值信息包括所述初始光强阈值和阈值误差，或者所述阈值信息包括光强阈值；获取所述阈值误差的方法包括：通过所述测试图形和参考光强分布获取测试光强阈值，所述参考光强分布中光强大于和等于所述测试光强阈值的位置信息构成的图形为所述第一矫正图形；根据所述测试光强阈值与初始光强阈值之差，获取阈值误差。可选的，当所述阈值信息包括光强阈值时，获取所述光强阈值的方法包括：通过所述阈值误差对所述初始光强阈值进行补偿，获取光强阈值。可选的，所述参考信息包括参考光强分布信息和参考几何特征信息中的一种或两种组合；获取所述参考光强分布信息的方法包括：获取参考光强分布信息处理和获取参考几何特征信息处理中的一种或两种组合；获取所述参考光强分布信息处理的方法包括：根据所述参考光强分布获取参考光强分布信息；获取所述参考几何特征信息处理的方法包括：根据所述参考图形获取参考几何特征信息。可选的，所述参考光强分布信息包括：光强最大值、光强最小值、光强最小值的坐标、光强在拐点处的斜率和拐点坐标中的一种或多种组合。可选的，当所述参考图形为多边形时，所述参考几何特征信息包括：所述参考图形各边边长、顶角角度和各顶角之间距离中的一种或多种组合；当所述参考图形为不规则图形时，所述参考几何特征信息包括：所述参考图形沿各方向尺寸中的一种或多种组合。可选的，所述测试图形为多边形，所述测试尺寸包括所述测试图形各边的边长和测试图形的对角线长度中的一种或多种组合；所述第一矫正图形为多边形，所述第一矫正尺寸包括所述测试图形各边的边长和测试图形的对角线长度中的一种或多种组合。可选的，还包括：提供光源信息；通过所述光源信息对所述参考图形进行第一模拟曝光处理；所述测试曝光处理的方法包括：根据所述光源信息获取测试光源；通过所述测试光源对所述测试掩膜板进行测试曝光处理。可选的，所述光源信息包括光波波长、脉宽和功率。本专利技术技术方案还提供一种光学邻近效应修正模型。可选的，所述参考信息包括参考光强分布信息和参考几何特征信息中的一种或两种组合；所述参考光强分布信息包括：光强最大值、光强最小值、光强最小值的坐标、光强在拐点处的斜率和拐点坐标中的一种或多种组合；所述参考几何特征信息包括：各方向的尺寸中的一种或多种组合。可选的，所述阈值信息包括光强阈值，所述参考光强分布中光强大于和等于所述光强阈值的位置信息构成的图形为第一矫正图形，所述第一矫正图形，所述第一矫正图形具有第一矫正尺寸，所述第一矫正尺寸与所述测试尺寸相等；或者，所述阈值信息包括初始光强阈值和阈值误差，所述初始光强阈值与阈值误差之和等于光强阈值，所述参考光强分布中光强大于和等于所述光强阈值的位置信息构成的图形为第一矫正图形，所述第一矫正图形。本专利技术技术方案还提供一种掩膜板的形成方法，包括：提供目标图形；提供光学邻近效应修正模型；根据所述目标图形获取初始目标掩膜板图形；根据所述光学邻近效应修正模型对所述初始目标掩膜板图形进行修正处理，获取目标掩膜板图形，所述修正处理的方法包括：以所述初始目标掩膜板图形为掩膜进行第二模拟曝光处理，获取目标光强分布；获取所述目标图形对应的对比信息，所述对比信息与所述参考信息对应；对所述对比信息在所述对应关系模型的参考信息中进行第一比较处理，获取目标参考信息；通过所述对应关系模型获取与所述目标参考信息对应的阈值信息，得到目标阈值信息；根据所述目标阈值信息和目标光强分布获取第二矫正图形；根据所述第二矫正图形与目标图形对所述初始目标掩膜图形进行矫正处理；重复第二模拟曝光处理至矫正处理的步骤，直至获取目标掩膜板图形；根据所述目标掩膜板图形形成掩膜板。可选的，获取目标参考信息的方法包括：进行循环比较处理，所述循环比较处理的方法包括：使所述对比信息分别与所述参考信息进行比较，获取比较误差；重复所述循环比较的步骤至所述比较误差小于预设值时，获取进行本次循环比较处理的参考信息得到目标参考信息；或者，获取目标参考信息的方法包括：使所述对比信息分别与若干所述参考信息进行比较，获取若干比较误差；获取最小比较误差对应的参考信息作为目标参考信息。可选的，所述光学邻近效应修正模型还包括光源信息；通过所述光源信息进行第二模拟曝光处理。可选的，所述阈值信息包括光强阈值；获取所述第二矫正图形的方法包括：获取所述目标光强分布中光强大于和等于光强阈值的若干位置信息；根据若干所述位置信息构成的图形获取第二矫正图形。可选的，所述阈值信息包括初始光强阈值和阈值误差；获取所述第二矫正图形的方法包括：通过所述阈值误差对所述初始光强阈值进行补偿，获取目标光强阈值；获取所述目标光强分布中光强大于或等于目标光强阈值的若干位置信本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学邻近效应修正模型的建立方法，其特征在于，包括：提供若干参考图形；对所述参考图形进行阈值获取处理，获取阈值信息和参考信息，所述阈值获取处理的方法包括：以参考图形为掩膜进行第一模拟曝光处理，获取参考光强分布；根据所述参考图形获取测试掩膜板；以所述测试掩膜板为掩膜进行测试曝光处理，获取测试图形，所述测试图形具有测试尺寸；通过测试图形和参考光强分布获取阈值信息，所述阈值信息用于在所述参考光强分布中获取第一矫正图形，所述第一矫正图形具有对应于所述测试尺寸的第一矫正尺寸，所述第一矫正尺寸与所述测试尺寸相等；获取与所述参考图形对应的参考信息；重复所述阈值获取处理至获取若干参考信息以及相应的阈值信息；建立参考信息和阈值信息的对应关系模型。

【技术特征摘要】
1.一种光学邻近效应修正模型的建立方法，其特征在于，包括：提供若干参考图形；对所述参考图形进行阈值获取处理，获取阈值信息和参考信息，所述阈值获取处理的方法包括：以参考图形为掩膜进行第一模拟曝光处理，获取参考光强分布；根据所述参考图形获取测试掩膜板；以所述测试掩膜板为掩膜进行测试曝光处理，获取测试图形，所述测试图形具有测试尺寸；通过测试图形和参考光强分布获取阈值信息，所述阈值信息用于在所述参考光强分布中获取第一矫正图形，所述第一矫正图形具有对应于所述测试尺寸的第一矫正尺寸，所述第一矫正尺寸与所述测试尺寸相等；获取与所述参考图形对应的参考信息；重复所述阈值获取处理至获取若干参考信息以及相应的阈值信息；建立参考信息和阈值信息的对应关系模型。2.如权利要求1所述的光学邻近效应修正模型的建立方法，其特征在于，所述阈值信息包括光强阈值，所述参考光强分布中光强大于和等于所述光强阈值的位置信息构成的图形为第一矫正图形；获取所述光强阈值的方法包括：根据所述测试图形在所述参考光强分布中获取光强阈值。3.如权利要求1所述的光学邻近效应修正模型的建立方法，其特征在于，还包括：根据若干测试图形和若干参考光强获取初始光强阈值。4.如权利要求3所述的光学邻近效应修正模型的建立方法，其特征在于，所述阈值信息包括所述初始光强阈值和阈值误差；获取所述阈值误差的方法包括：通过所述测试图形在所述参考光强分布中获取测试光强阈值，所述参考光强分布中光强大于和等于所述测试光强阈值的位置信息构成的图形为所述第一矫正图形；根据所述测试光强阈值与初始光强阈值之差，获取阈值误差。5.如权利要求3所述的光学邻近效应修正模型的建立方法，其特征在于，所述阈值信息包括光强阈值；获取所述光强阈值的方法包括：通过所述测试图形在所述参考光强分布中获取测试光强阈值，所述参考光强分布中光强大于和等于所述测试光强阈值的位置信息构成的图形为所述第一矫正图形；根据所述测试光强阈值与初始光强阈值之差，获取阈值误差；通过所述阈值误差对所述初始光强阈值进行补偿，获取光强阈值。6.如权利要求1所述的光学邻近效应修正模型的建立方法，其特征在于，所述参考信息包括参考光强分布信息和参考几何特征信息中的一种或两种组合；获取所述参考光强分布信息的方法包括：获取参考光强分布信息处理和获取参考几何特征信息处理中的一种或两种组合；获取所述参考光强分布信息处理的方法包括：根据所述参考光强分布获取参考光强分布信息；获取所述参考几何特征信息处理的方法包括：根据所述参考图形获取参考几何特征信息。7.如权利要求6所述的光学邻近效应修正模型的建立方法，其特征在于，所述参考光强分布信息包括：光强最大值、光强最小值、光强最小值的坐标、光强在拐点处的斜率和拐点坐标中的一种或多种组合。8.如权利要求6所述的光学邻近效应修正模型的建立方法，其特征在于，当所述参考图形为多边形时，所述参考几何特征信息包括：所述参考图形各边边长、顶角角度和各顶角之间距离中的一种或多种组合；当所述参考图形为不规则图形时，所述参考几何特征信息包括：所述参考图形沿各方向的尺寸中的一种或多种组合。9.如权利要求1所述的光学邻近效应修正模型的建立方法，其特征在于，所述测试图形为多边形，所述测试尺寸包括所述测试图形各边的边长和测试图形的对角线长度中的一种或多种组合；所述第一矫正尺寸为对应于所述测试尺寸的方向上，所述第一矫正图形的尺寸。10.如权利要求1所述的光学邻近效应修正模型的建立方法，其特征在于，还包括：提供光源信息；通过所述光源信息进行第一模拟曝光处理；所述测试曝光处理的方法包括：根据所述光源信息获取测试光源；通过所述测试光源对所述测试掩膜板进行测试曝光处理。11.如权利要求10所述的光学邻近效应修正模型的建...

【专利技术属性】
技术研发人员：沈泫，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造上海有限公司，中芯国际集成电路制造北京有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31