温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。
一种光学邻近效应修正模型及其建立方法和掩膜板的形成方法，建立方法包括：提供若干参考图形；对所述参考图形进行阈值获取处理，所述阈值获取处理的方法包括：以参考图形为掩膜进行第一模拟曝光处理，获取参考光强分布；根据所述参考图形获取测试掩膜板；以所...该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司授权不得商用。