一种提高孔层边缘图形工艺窗口的SRAF方法技术

本发明专利技术提供一种提高孔层边缘图形工艺窗口的SRAF方法，至少包括：提供边缘图形；在所述边缘图形的上方、下方加入水平摆放的辅助图形；同时在该边缘图形的外侧加入竖直摆放的辅助图形；在所述边缘图形外侧的斜上方、斜下方分别加入辅助图形。孔状图形边缘处的工艺窗口较小，本发明专利技术用PW model拟合对比不同SRAF尺寸和位置，得出合理的SRAF加法，能够有效提高边缘孔图形的对比度，对后期OPC出版图形具有指导意义，从而提高孔层的工艺制作质量。

A SRAF Method for Improving the Process Window of Hole Layer Edge Graphics

【技术实现步骤摘要】
一种提高孔层边缘图形工艺窗口的SRAF方法
本专利技术涉及半导体光学近似修正领域，特别是涉及一种提高孔层边缘图形工艺窗口的SRAF方法。
技术介绍
辅助图形(Sub-ResolutionAssistFeature)常用于提高光刻工艺的对比度(contrast)，图形的景深(DOF,depthoffocus)和工艺冗余度(tolerance)。特别地，孔状图形具有较小工艺窗口(如图一)，SRAF的应用是极有必要。在拟合孔状图形光强分布(Aerialintensitycutline)时，我们发现边缘处的图形对比度更低。因此，如何加入合适的SRAF对于孔层的整体表现至关重要。如图1a所示，图1a显示为现有技术中边缘图形的SRAF加法，其中方形孔为版图，条形为SRAF。图1b显示为PW模型拟合得到的边缘四个方孔的cutline结果。由此可见，现有技术中对于孔层边缘图形的SRAF加法会出现拟合度不高而导致边缘图形对比度低的现象。因此，需要提出一种新的SRAF方法来解决上述问题。
技术实现思路
鉴于以上所述现有技术的缺点，本专利技术的目的在于提供一种提高孔层边缘图形工艺窗口的SRAF方法，用于解决现有技术中对于孔层边缘图形的SRAF加法会出现拟合度不高而导致边缘图形对比度低的问题。为实现上述目的及其他相关目的，本专利技术提供一种提高孔层边缘图形工艺窗口的SRAF方法，提高孔层边缘图形工艺窗口的SRAF方法，其特征在于，所述方法至少包括以下步骤：步骤一、提供边缘图形；步骤二、在所述边缘图形的上方、下方加入水平摆放的辅助图形；同时在该边缘图形的外侧加入竖直摆放的辅助图形；步骤三、在所述边缘图形外侧的斜上方、斜下方分别加入辅助图形。优选地，步骤一中所述的边缘图形为孔层中通孔的边缘图形。优选地，所述边缘图形的形状为正方形。优选地，步骤一中的所述边缘图形为孤立图形。优选地，在所述孤立图形的上方和下方加入水平摆放的辅助图形包括第一辅助图形和位于所述第一辅助图形之外的第二辅助图形；同时在该孤立图形的左边和右边分别加入竖直摆放的辅助图形包括第一辅助图形和位于所述第一辅助图形之外的第二辅助图形。优选地，所述第一辅助图形和所述第二辅助图形的形状都为条形，并且所述第一辅助图形的长度小于所述第二辅助图形的长度。优选地，在所述边缘图形为孤立图形的斜上方、斜下方分别加入的辅助图形包括在该孤立图形的左上方、左下方、右上方和右下方分别加入所述形状为条形的第三辅助图形和位于所述第三辅助图形之外的第二辅助图形，并且所述第二、第三辅助图形的位置摆放分别与所述孤立图形呈45度。优选地，所述形状为条形的第三辅助图形的长度小于所述形状为条形的第二辅助图形的长度。优选地，所述边缘图形为一维排列的通孔图形中的边缘图形。优选地，在所述边缘图形的上方和下方分别加入水平摆放的辅助图形包括平行且投影于所述一维排列的通孔图形的条形辅助图形和分别位于该条形辅助图形之外的另一条形辅助图形。优选地，在所述边缘图形的外侧加入竖直摆放的辅助图形包括第一辅助图形和位于所述第一辅助图形之外的第二辅助图形。优选地，在所述一维排列的通孔图形的所述边缘图形的斜上方、斜下方分别加入的辅助图形包括形状为条形的第三辅助图形和位于该第三辅助图形之外的第二辅助图形，并且所述第二、第三辅助图形的位置摆放分别与该边缘图形呈45度。优选地，所述形状为条形的第三辅助图形的长度小于所述形状为条形的第二辅助图形的长度。优选地，所述方法用于基于规则插入技术。如上所述，本专利技术的提高孔层边缘图形工艺窗口的SRAF方法，具有以下有益效果：孔状图形边缘处的工艺窗口较小，本专利技术用PWmodel拟合对比不同SRAF尺寸和位置，得出合理的SRAF加法，能够有效提高边缘孔图形的对比度，对后期OPC出版图形具有指导意义，从而提高孔层的工艺制作质量。附图说明图1a显示为现有技术中边缘图形的SRAF加法；图1b显示为PW模型拟合得到的边缘四个方孔的cutline结果；图2显示为本专利技术的提高孔层边缘图形工艺窗口的SRAF方法的流程示意图；图3显示为本专利技术中边缘图形为孤立图形的SRAF加法示意图；图4a为孤立图形加入两根sbar的cutline结果；图4b为在图4a中sbar的基础上延伸sbar长度后的cutline结果；图4c为在图4b中sbar的基础上在孤立图形的四个角上加入第二套SRAF的cutline结果；图4d显示为本专利技术的边缘图形为孤立图形时SRAF加法的cutline结果；图5显示为本专利技术的一维排列的通孔图形中的边缘图形的SRAF加法示意图；图6a显示为没有采用被专利技术的SRAF加法前一维排列的通孔图形中边缘图形的cutline结果；图6b显示为本专利技术的一维排列的通孔图形中边缘图形SRAF加法的cutline结果。具体实施方式以下通过特定的具体实例说明本专利技术的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本专利技术的其他优点与功效。本专利技术还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本专利技术的精神下进行各种修饰或改变。请参阅图2至图6b。需要说明的是，本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本专利技术的基本构想，遂图式中仅显示与本专利技术中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局型态也可能更为复杂。实施例一如图2所示，图2显示为本专利技术的提高孔层边缘图形工艺窗口的SRAF方法的流程示意图，本专利技术提供一种提高孔层边缘图形工艺窗口的SRAF方法，所述方法至少包括以下步骤：步骤一、提供边缘图形；本专利技术中所述的边缘图形为孔层中通孔的边缘图形。所述孔层中通孔的图形以版图要求的排列方式呈现，所述边缘图形的位置处于所排列的通孔图形的边缘位置，也就是说临近该边缘图形的至少一侧没有其他版图图形。而本实施例中进一步地，所述边缘图形的形状为正方形。也就是说，所述边缘图形在版图上的形状为正方形。而本实施例中优选地，步骤一中的所述边缘图形为孤立图形。如图3所示，图3显示为本专利技术中边缘图形为孤立图形的SRAF加法。参考图3，所述边缘图形01的形状为正方形，也就是说临近该边缘图形的四周没有其他版图图形。步骤二、在所述边缘图形的上方、下方加入水平摆放的辅助图形；同时在该边缘图形的外侧加入竖直摆放的辅助图形；本实施例中，在所述孤立图形的上方和下方加入水平摆放的辅助图形包括第一辅助图形和位于所述第一辅助图形之外的第二辅助图形。如图3所示，在所述边缘图形(孤立图形01)的上方和下方的位置分别加入辅助图形，其中临近该孤立图形01的上方和下方的辅助图形为第一辅助图形001，在所述第一辅助图形001的上方和下方为第二辅助图形002，也就是说所述第二辅助图形002位于所述第一辅助图形001之外。本实施例中在该孤立图形01的左边和右边分别加入竖直摆放的辅助图形包括第一辅助图形和位于所述第一辅助图形之外的第二辅助图形。如图3所示，也就是说，临近所述孤立图形的左边和右边的分别加入了第一辅助图形001，在所述孤立图形01左边和右边的所述第一辅助图形001之外分别加入第二辅助图形002，也就是说，在所述孤立图形01左边和右边竖直摆放的第一辅助图形00本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种提高孔层边缘图形工艺窗口的SRAF方法，其特征在于，所述方法至少包括以下步骤：步骤一、提供边缘图形；步骤二、在所述边缘图形的上方、下方加入水平摆放的辅助图形；同时在该边缘图形的外侧加入竖直摆放的辅助图形；步骤三、在所述边缘图形外侧的斜上方、斜下方分别加入辅助图形。

【技术特征摘要】
1.一种提高孔层边缘图形工艺窗口的SRAF方法，其特征在于，所述方法至少包括以下步骤：步骤一、提供边缘图形；步骤二、在所述边缘图形的上方、下方加入水平摆放的辅助图形；同时在该边缘图形的外侧加入竖直摆放的辅助图形；步骤三、在所述边缘图形外侧的斜上方、斜下方分别加入辅助图形。2.根据权利要求1所述的提高孔层边缘图形工艺窗口的SRAF方法，其特征在于：步骤一中所述的边缘图形为孔层中通孔的边缘图形。3.根据权利要求2所述的提高孔层边缘图形工艺窗口的SRAF方法，其特征在于：所述边缘图形的形状为正方形。4.根据权利要求3所述的提高孔层边缘图形工艺窗口的SRAF方法，其特征在于：步骤一中的所述边缘图形为孤立图形。5.根据权利要求4所述的提高孔层边缘图形工艺窗口的SRAF方法，其特征在于：在所述孤立图形的上方和下方加入水平摆放的辅助图形包括第一辅助图形和位于所述第一辅助图形之外的第二辅助图形；同时在该孤立图形的左边和右边分别加入竖直摆放的辅助图形包括第一辅助图形和位于所述第一辅助图形之外的第二辅助图形。6.根据权利要求5所述的提高孔层边缘图形工艺窗口的SRAF方法，其特征在于：所述第一辅助图形和所述第二辅助图形的形状都为条形，并且所述第一辅助图形的长度小于所述第二辅助图形的长度。7.根据权利要求6所述的提高孔层边缘图形工艺窗口的SRAF方法，其特征在于：在所述边缘图形为孤立图形的斜上方、斜下方分别加入的辅助图形包括在该孤立图形的左上方、左下方、右上方和右下方分别加入所述形状为条形的第三辅助图形和位于所述第三辅助图形之外的第二辅助图形，并且所述第二、第三辅助图形的位置摆放分别与所述孤立图形呈45度。...

【专利技术属性】
技术研发人员：解为梅，刘雪强，于世瑞，
申请(专利权)人：上海华力集成电路制造有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31