一种陶瓷靶材加工用烧结装置制造方法及图纸

技术编号:21862132 阅读:45 留言:0更新日期:2019-08-14 05:38
本实用新型专利技术涉及一种陶瓷靶材加工用烧结装置,特别涉及靶材加工设备领域。本实用新型专利技术包括前端传送装置、烧结腔、真空发生装置、靶材坯体;前端传送装置包括滚轮、驱动装置、皮带、皮带轮、输送带;烧结腔包括上盖、加固密封件、压力传感器、液压系统、保温层、加热装置、第一推拉式仓门、第二推拉式仓门、放置平台。本实用新型专利技术克服了现有技术中陶瓷靶材烧结时,会出现烧后的成品陶瓷靶材变形或者产生坑坑洼洼不平整,导致靶材的质量受到损害的问题。本实用新型专利技术通过运用真空发生装置将烧结腔内部的压力降低,通过液压系统间接带动下压模具的运动,防止靶材坯体的加工后的外形弯曲,降低靶材烧结后的质量下降问题。

A Sintering Device for Processing Ceramic Targets

【技术实现步骤摘要】
一种陶瓷靶材加工用烧结装置
本技术涉及靶材加工设备领域,特别涉及一种陶瓷靶材加工用烧结装置。
技术介绍
溅射是制备薄膜材料的主要技术,它利用离子源产生的离子,在真空中经过加速聚集,靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料,不同功率密度、不同输出波形、不同波长能够制造出不同的靶材。随着科技的发展靶材在各个方面都得到广泛的应用,中国靶材产业发展也不断扩大自己的规模和生产技术,产出的靶材的品牌已经达到国际顶端的技术水平。尤其在陶瓷靶材的制造过程中,为了固定靶材的形状,需要对其进行烧制,但是在烧制过程中会发现有些陶瓷靶材在原料运送进烧结炉时是外形完好的,但是在烧结成型之后表面会变形,甚至产生坑坑洼洼不平整的状态。因此现有技术存在缺陷,需要改进。
技术实现思路
(1)要解决的技术问题本技术克服了现有技术中陶瓷靶材在烧结的过程中,往往会出现原料的表面平整,但烧出来后的成品陶瓷靶材变形或者产生坑坑洼洼不平整,导致靶材的质量受到损害的问题。本技术是提供一种减少成品陶瓷靶材烧结后产生变形的陶瓷靶材加工用烧结装置。(2)技术方案为了解决上述技术问题,本技术提供了这样一种陶瓷靶材加工用烧结装置,包括前端传送装置、烧结腔本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种陶瓷靶材加工用烧结装置,其特征在于:包括前端传送装置(1)、烧结腔(2)、真空发生装置(3)、靶材坯体(4);所述前端传送装置(1)包括滚轮(11)、驱动装置(12)、皮带(13)、皮带轮(14)、输送带(15),所述滚轮(11)设在所述前端传送装置(1)的底部,所述驱动装置(12)通过所述皮带(13)和所述皮带轮(14)连接,所述皮带轮(14)上设有所述输送带(15);所述烧结腔(2)为立式腔体,所述烧结腔(2)设于所述前端传送装置(1)的传送末端,上盖(23)通过加固密封件(24)加固在所述烧结腔(2)的顶部,所述上盖(23)的外侧上设有压力传感器(22),液压系统(21)设在所述...

【技术特征摘要】
1.一种陶瓷靶材加工用烧结装置,其特征在于:包括前端传送装置(1)、烧结腔(2)、真空发生装置(3)、靶材坯体(4);所述前端传送装置(1)包括滚轮(11)、驱动装置(12)、皮带(13)、皮带轮(14)、输送带(15),所述滚轮(11)设在所述前端传送装置(1)的底部,所述驱动装置(12)通过所述皮带(13)和所述皮带轮(14)连接,所述皮带轮(14)上设有所述输送带(15);所述烧结腔(2)为立式腔体,所述烧结腔(2)设于所述前端传送装置(1)的传送末端,上盖(23)通过加固密封件(24)加固在所述烧结腔(2)的顶部,所述上盖(23)的外侧上设有压力传感器(22),液压系统(21)设在所述烧结腔(2)的上方,所述液压系统(21)包括设在所述烧结腔(2)内部的下压杆(211),所述下压杆(211)和连接杆(212)相连,所述连接杆(212)的下方设有下压模具(213),所述下压模具(213)的形状和靶材坯体(4)的形状相互匹配...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈魁赵小虎陈躬德
申请(专利权)人:福建省创飞新材料科技有限公司
类型:新型
国别省市:福建,35

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