一种气浴装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供的一种气浴装置，包括：基板；气浴模组，所述气浴模组的上表面与所述基板连接，其中，所述气浴模组包括多个气浴单元，所述多个气浴单元首尾相连通，构成中心位置具有第一通孔的所述气浴模组；托板，所述托板位于所述气浴模组的下表面，将所述气浴模组于所述基板进行固定连接。解决了现有技术中紧凑的气浴单元管道密布占用过多空间，且气流容易形成遮挡，造成工作环境的流场紊乱，进而影响温度、气压等参数的均匀度的技术问题。达到了减少管道多杂带来的空间占用与安装问题，多个气浴单元组合后相互联通，形成大面积的静压腔室，提高了气流均匀度的技术效果。

An Air Bath Device

【技术实现步骤摘要】
一种气浴装置
本专利技术涉及微环境控制
，尤其涉及一种气浴装置。
技术介绍
在半导体行业的光学参数的精密检测、光刻领域，欲得到高质量的检测精度或电子元器件，检测设备或光刻设备在工作时对工作环境有严格的要求，必须具备保持其工作环境的稳定性，因此都需要对工作环境压力、温度、湿度、气浴进行精密控制，保证压力、温度、湿度的稳定以及流场的均匀度。目前一般的环境控制系统，通常采用标准一体化的气浴单元，多是均布于环境控制系统的顶部，对整个密封腔室进行统一送风和控制。这种方法适用于开放结构的设备的环境控制，但如果设备的结构过于紧凑和复杂，就会对气流形成遮挡，造成工作环境的流场紊乱，进而影响温度、气压等参数的均匀度。申请专利技术人在实现本申请实施例中技术方案的过程中，发现上述现有技术至少存在如下技术问题：现有技术中紧凑的气浴单元管道密布占用过多空间，且气流容易形成遮挡，造成工作环境的流场紊乱，进而影响温度、气压等参数的均匀度。
技术实现思路
本专利技术实施例提供了一种气浴装置，解决了现有技术中紧凑的气浴单元管道密布占用过多空间，且气流容易形成遮挡，造成工作环境的流场紊乱，进而影响温度、气压等参数的均匀度的技术问题。鉴于上述问题，本专利技术实施例提供了一种气浴装置，所述装置包括：基板；气浴模组，所述气浴模组的上表面与所述基板连接，其中，所述气浴模组包括多个气浴单元，所述多个气浴单元首尾相连通，构成中心位置具有第一通孔的所述气浴模组；托板，所述托板位于所述气浴模组的下表面，将所述气浴模组于所述基板进行固定连接。进一步的，所述气浴单元包括：进气口，所述进气口位于所述气浴单元的一侧；均流孔，所述均流孔均匀分布于所述气浴单元的下表面上。进一步的，所述基板包括：光学部件，所述光学部件设置在所述基板与所述气浴模组像连接的一面，位于所述气浴模组的第一通孔位置；法兰，所述法兰设置在所述基板上，位于所述光学部件外围，与所述托板连接，对所述气浴模组进行固定。进一步的，所述装置还包括：锁紧环，所述锁紧环设置在所述光学部件与所述法兰之间，位于所述光学部件外缘轮廓位置，且与所述气浴模组第一通孔内壁连接。进一步的，所述装置还包括：第一凸起，所述第一凸起位于所述锁紧环外侧壁；第二凸起，所述第二凸起位于所述气浴模组第一通孔内侧壁，且所述第二凸起与所述第一凸起相匹配，通过所述第一凸起和所述第二凸起将所述锁紧环与所述气浴模组进行卡紧。进一步的，所述第一凸起与所述第二凸起的数量相同。进一步的，所述装置还包括：第三凸起，所述第三凸起位于所述锁紧环与所述托板连接面；第二通孔，所述第二通孔位于所述托板与所述第三凸起相对应处，使得所述第三凸起能够从所述第二通孔中穿过；第四凸起，所述第四凸起位于所述托板第二通孔一侧，且所述第四凸起侧面具有第三通孔，通过螺栓从所述第三通孔穿过，推动所述第三凸起，使所述第一凸起与所述第二凸起锁紧。进一步的，所述第二通孔和/或所述第三凸起和/或所述第四凸起的数量相同。进一步的，所述第二通孔的长度大于所述第三凸起的横截面长度。本申请实施例中的上述一个或多个技术方案，至少具有如下一种或多种技术效果：在本专利技术实施例提供的一种气浴装置，包括：基板；气浴模组，所述气浴模组的上表面与所述基板连接，其中，所述气浴模组包括多个气浴单元，所述多个气浴单元首尾相连通，构成中心位置具有第一通孔的所述气浴模组；托板，所述托板位于所述气浴模组的下表面，将所述气浴模组于所述基板进行固定连接。解决了现有技术中紧凑的气浴单元管道密布占用过多空间，且气流容易形成遮挡，造成工作环境的流场紊乱，进而影响温度、气压等参数的均匀度的技术问题。达到了减少管道多杂带来的空间占用与安装问题，多个气浴单元组合后相互联通，形成大面积的静压腔室，提高了气流均匀度的技术效果。上述说明仅是本专利技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本专利技术的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本专利技术的上述和其它目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举本专利技术的具体实施方式。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例的一种气浴装置的结构示意图。图2为本专利技术实施例的一种气浴装置的气浴模组结构示意图。图3为本专利技术实施例的一种气浴装置的锁紧环结构示意图。图4为本专利技术实施例的一种气浴装置的锁紧环与气浴模组卡合的局部放大图。图5为本专利技术实施例的一种气浴装置的锁紧环与托板连接的局部放大图。附图标记说明：基板1，光学部件11，法兰12，气浴模组2，气浴单元21，进气口211，均流孔212，托板3，锁紧环4，第一凸起5，第二凸起6，第三凸起7，第二通孔8，第四凸起9，螺栓10。具体实施方式本专利技术实施例提供了一种气浴装置，用于解决现有技术中紧凑的气浴单元管道密布占用过多空间，且气流容易形成遮挡，造成工作环境的流场紊乱，进而影响温度、气压等参数的均匀度的技术问题本专利技术提供的技术方案总体思路如下：包括：基板；气浴模组，所述气浴模组的上表面与所述基板连接，其中，所述气浴模组包括多个气浴单元，所述多个气浴单元首尾相连通，构成中心位置具有第一通孔的所述气浴模组；托板，所述托板位于所述气浴模组的下表面，将所述气浴模组于所述基板进行固定连接。为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。本专利技术实施例的一种气浴装置，请参考图1，所述装置包括：基板1、气浴模组2和托板3。具体而言，基板1为大致工字型薄片状结构，中部矩形区域面积较大，四角的突起上分别留有固定基板1的螺纹孔，基板1作为装置的底板，其上留有后续部件安装的位置。所述气浴模组2的上表面与所述基板1连接，其中，所述气浴模组2包括多个气浴单元21，所述多个气浴单元21首尾相连通，构成中心位置具有第一通孔的所述气浴模组2；具体而言，气浴模组2由多个气浴单元21拼装而成，气浴单元21为矩形的一角向内凹陷1/4圆的形状，每个气浴单元21上圆弧两端的位置具有能与彼此拼装的细微结构，4个气浴单元21首尾相连通拼装到一起后，中心位置形成圆形通孔的气浴模组2，气浴模组2安装在基板上合适的位置，安装完成后，气浴模组2的上表面与基板1的下表面贴合，基板1上的部件从圆形通孔的位置伸出。所述托板3位于所述气浴模组2的下表面，将所述气浴模组2于所述基板1进行固定连接。具体而言，托板3呈十字形，中心位置为圆环结构，圆环的内径与气浴模组2中心位置形成的圆形通孔直径相同，十字形托板3安装完成后，上表面与气浴模组2的下表面贴合，圆环与气浴模组2的圆形通孔保持位置同心，圆环上四个片状延伸覆盖住多个气浴单元21拼装形成的拼装缝，使得结构更为稳定可靠。多个气浴单元21组合后相互联通，可形成大面积的静压腔室，提高了气流的均匀度，同时四块气浴单元本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种气浴装置，其特征在于，所述装置包括：基板；气浴模组，所述气浴模组的上表面与所述基板连接，其中，所述气浴模组包括多个气浴单元，所述多个气浴单元首尾相连通，构成中心位置具有第一通孔的所述气浴模组；托板，所述托板位于所述气浴模组的下表面，将所述气浴模组于所述基板进行固定连接。

【技术特征摘要】
1.一种气浴装置，其特征在于，所述装置包括：基板；气浴模组，所述气浴模组的上表面与所述基板连接，其中，所述气浴模组包括多个气浴单元，所述多个气浴单元首尾相连通，构成中心位置具有第一通孔的所述气浴模组；托板，所述托板位于所述气浴模组的下表面，将所述气浴模组于所述基板进行固定连接。2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述气浴单元包括：进气口，所述进气口位于所述气浴单元的一侧；均流孔，所述均流孔均匀分布于所述气浴单元的下表面上。3.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述基板包括：光学部件，所述光学部件设置在所述基板与所述气浴模组像连接的一面，位于所述气浴模组的第一通孔位置；法兰，所述法兰设置在所述基板上，位于所述光学部件外围，与所述托板连接，对所述气浴模组进行固定。4.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括：锁紧环，所述锁紧环设置在所述光学部件与所述法兰之间，位于所述光学部件外缘轮廓位置，且与所述气浴模组第一通孔内壁连接。5.如权利要求4所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：齐威，孟璐璐，齐月静，王宇，宗明成，李璟，陈进新，卢增雄，杨光华，张清洋，苏佳妮，
申请(专利权)人：中国科学院微电子研究所，
类型：发明
国别省市：北京,11