掩膜板及其制作方法、蒸镀设备、气相沉积设备技术

技术编号:21733501 阅读:61 留言:0更新日期:2019-07-31 18:12
本发明专利技术提供了一种掩膜板及其制作方法、蒸镀设备、气相沉积设备,属于显示技术领域。其中,掩膜板,包括框架和固定在所述框架上的掩膜板本体,所述掩膜板本体包括交叉设置的多条掩膜条,交叉设置的多条掩膜条形成多个具有开口的掩膜单元,在所述掩膜板与水平面平行放置时,所述多个掩膜条朝向水平面一侧的表面的高度差不大于预设阈值。本发明专利技术的技术方案用于解决掩膜板上的掩膜单元的开口的位置与衬底基板上的相应的位置出现偏差,导致实际膜层边界与设计值差异明显的问题。

Mask plate and its fabrication method, evaporation equipment and vapor deposition equipment

【技术实现步骤摘要】
掩膜板及其制作方法、蒸镀设备、气相沉积设备
本专利技术涉及显示
,特别是指一种掩膜板及其制作方法、蒸镀设备、气相沉积设备。
技术介绍
在显示领域,OLED(有机发光二极管)显示由于其优异特性,被认为是下一代的平面显示器新兴应用技术。在OLED显示面板的制作过程中,需采用公共金属掩膜板(OpenMetalMask)将公共膜层(如电子传输层、空穴注入层等)以蒸镀的方式沉积在衬底基板(如玻璃基板)相对应的位置。一套公共金属掩膜板由框架(Frame)和掩膜板主体(OpenMask)组成,掩膜板主体包括交叉设置的多条掩膜条(rib),交叉设置的掩膜条形成多个具有开口的掩膜单元(cell)。在实际蒸镀过程中,掩膜板在蒸镀腔室中会因重力而产生下垂,使得掩膜板上的掩膜单元的开口的位置与衬底基板上的相应的位置出现偏差,导致实际蒸镀膜层边界与设计值差异明显。此外,同一掩膜板上不同位置的掩膜单元的偏差不同,无法通过掩膜板和衬底基板对位进行更正。最终导致产品蒸镀膜层工艺偏差较大,甚至可能导致产品不良并且不利于窄边框设计。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种掩膜板及其制作方法、蒸镀设备、气相本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜板,包括框架和固定在所述框架上的掩膜板本体,所述掩膜板本体包括交叉设置的多条掩膜条,交叉设置的多条掩膜条形成多个具有开口的掩膜单元,其特征在于,在所述掩膜板与水平面平行放置时,所述多个掩膜条朝向水平面一侧的表面的高度差不大于预设阈值。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板,包括框架和固定在所述框架上的掩膜板本体,所述掩膜板本体包括交叉设置的多条掩膜条,交叉设置的多条掩膜条形成多个具有开口的掩膜单元,其特征在于,在所述掩膜板与水平面平行放置时,所述多个掩膜条朝向水平面一侧的表面的高度差不大于预设阈值。2.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述多个掩膜条朝向水平面的一侧表面位于同一平面。3.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述掩膜板包括第一掩膜条和第二掩膜条,所述第一掩膜条与所述掩膜板的中心的距离小于所述第二掩膜条与所述掩膜板的中心的距离,所述第二掩膜条的平均厚度大于所述第一掩膜条的平均厚度。4.根据权利要求1或3所述的掩膜板,其特征在于,从远离所述掩膜板的中心到靠近所述掩膜板的中心的方向上,所述掩膜条的厚度逐渐减小。5.一种蒸镀设备,其特征在于,包括如权利要求1-4中任一项所述的掩膜板。6.一种气相沉积设备,其特征在于,包括如权利要求1-4中任一项所述的掩膜板。7.一种掩膜板的制作方法,其特征在于,包括:对采用测试掩膜板进行成膜的过程进行模拟仿真,所述测试掩膜板包括框架和固定在所述框架上的掩膜板本体,所述掩膜板本体包括交叉设置的多条测试掩...

【专利技术属性】
技术研发人员:王裕蒋志亮王格
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司成都京东方光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:北京,11

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