掩膜版、蒸镀装置、蒸镀方法以及掩膜版中蒸镀开口的设计方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种掩膜版、蒸镀装置、蒸镀方法以及掩膜版中蒸镀开口的设计方法，涉及显示技术领域，可以提高蒸镀过程中待蒸镀基板与掩膜版之间的对位准确性。掩膜版上设置有多个蒸镀开口、以及至少一个第一检测用开口；第一检测用开口的尺寸小于蒸镀开口的尺寸；第一检测用开口靠近至少一个蒸镀开口设置。

Mask plate, evaporation device, evaporation method and design method of evaporation opening in mask plate

【技术实现步骤摘要】
掩膜版、蒸镀装置、蒸镀方法以及掩膜版中蒸镀开口的设计方法
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种掩膜版、蒸镀装置、蒸镀方法以及掩膜版中蒸镀开口的设计方法。
技术介绍
在显示面板的制作过程中，有时需要利用开放式的掩膜版(openmask)来形成某些膜层。以显示面板为有机电致发光二极管(OrganicLightEmittingDiode，OLED)显示面板为例，可利用掩膜版来蒸镀形成发光功能层中的除发光层外的其他功能膜层。当然，对于某些型号的OLED显示面板，其发光层也可通过掩膜版来形成。如图1所示，待蒸镀基板3位于掩膜版1的上侧，蒸镀源4位于掩膜版1的下侧。由于在蒸镀工艺中，掩膜版1上的蒸镀开口需要与待蒸镀基板3上的蒸镀区对位准确，以便使蒸镀材料41在蒸镀区形成膜层，因此，掩膜版1与待蒸镀基板3之间的对位显得尤为重要。而目前掩膜版1与待蒸镀基板3之间的对位，主要依靠设置在掩膜版1上的对位孔与待蒸镀基板3上的对位标记确定，对位结构单一。因而无法有效保证蒸镀开口与蒸镀区之间对位的准确性，而对位不准确则无法保证膜层的蒸镀位置。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种掩膜版、蒸镀装置、蒸镀方法本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜版，其特征在于，所述掩膜版设置有多个蒸镀开口、以及至少一个第一检测用开口；所述第一检测用开口的尺寸小于所述蒸镀开口的尺寸；所述第一检测用开口靠近至少一个所述蒸镀开口设置。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜版，其特征在于，所述掩膜版设置有多个蒸镀开口、以及至少一个第一检测用开口；所述第一检测用开口的尺寸小于所述蒸镀开口的尺寸；所述第一检测用开口靠近至少一个所述蒸镀开口设置。2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，在所述掩膜版长度方向的两侧边缘还至少设置有两个第二检测用开口。3.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第一检测用开口为多个；每个所述蒸镀开口至少对应一个所述第一检测用开口。4.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，每个所述蒸镀开口对应两个所述第一检测用开口，且该两个第一检测用开口分别设置在所述蒸镀开口的对角位置处；或者，该两个第一检测用开口分别设置在蒸镀开口的相对两边侧。5.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，多个所述蒸镀开口分为多个蒸镀开口组，每个蒸镀开口组中包括2×2个所述蒸镀开口；在每个所述蒸镀开口组中任意相邻的两个所述蒸镀开口之间均设置有一个所述第一检测用开口。6.根据权利要求5所述的掩膜版，其特征在于，位于不同所述蒸镀开口组且任意相邻的两个所述蒸镀开口之间，还设置有一个所述第一检测用开口。7.根据权利要求6所述的掩膜版，其特征在于，所述第一检测用开口的形状为矩形。8.根据权利要求7所述的掩膜版，其特征在于，位于上下相邻的两行蒸镀开口之间的第一检测用开口，沿行方向，其长度与所述蒸镀开口的长度相等；位于左右相邻的两列蒸镀开口之间的第一检测用开口，沿列方向，其宽度与所述蒸镀开口的宽度相等。9.一种蒸镀装置，其特征在于，包括蒸镀腔室、蒸镀源、待蒸镀基板承载板、以及权利要求1-8任一项所述的掩膜版；所述掩膜版设置于所述蒸镀源的上方，所述待蒸镀基板承载板设置于所述掩膜版的上方。10.一种蒸镀方法，其特征在于，包括：利用如权利要求9所述的蒸镀装置，在待蒸镀基板上与所述蒸镀装置中掩膜版的蒸镀开口对应的蒸镀区蒸镀形成膜层，同时，在待蒸镀基板上与所述掩膜版的第一检测用开口对应...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨晓宇，罗昶，段芳芳，嵇凤丽，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11