一种非均匀等高梯度细胞捕获芯片的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种非均匀等高梯度细胞捕获芯片的制备方法，其步骤：1、基底的选择及处理：基底是玻璃、石英或者硅；清洗，去除玻璃表面的油污等杂质；2、刻蚀掩膜制备：对玻璃基底进行烘干处理，得到要刻蚀的区域；3、湿法刻蚀：将选择的基底经过刻蚀掩膜处理后，按照旋转速率将基底旋转放入到刻蚀液中，使基底在刻蚀液中的旋转角度，得到不同等高面的非均匀等高梯度的结构。4、打孔；5、盖片与基底的组合制备微流芯片：选取盖片与基底进行组合制备微流芯片，得到具有得到不同等高面的非均匀等高梯度细胞捕获芯片。方法易行，操作简便，加工简单，效率高，具有良好的生物化学稳定性并且芯片细胞捕获面大而且长的特点的微流芯片。

【技术实现步骤摘要】
一种非均匀等高梯度细胞捕获芯片的制备方法
本专利技术涉及一种快速制备微流芯片的技术，更具体涉及一种非均匀等高梯度细胞捕获芯片的制备方法。
技术介绍
微流芯片在化学、食品、环境、医学等科学领域提供了很大的分析检验平台，是微分析系统的核心。微流芯片的专利技术及应用给促使了一些分析的微型化、高效化、自动化及便捷化。极大的节省了一些生物和化学实验对贵重生物和化学试剂的消耗,也大大的提高了分析效率、降低了费用。通常制作微流芯片的主要材料有石英、玻璃和硅片以及一些高聚物等。使用高聚物制作的微流芯片，其制作方便，但是也具有本身的一些缺点，其缺点可以概括为耐热性和稳定性差，生物兼容性不够广，不能满足长期的一些检测需求。而玻璃、石英制作的微流芯片其耐热性和稳定性较好，传统的以玻璃、石英制作的微流芯片，其制作工艺包括光刻和化学刻蚀，但是这些工艺制作出来的微流芯片结构过于线性单一、简单，不能制作出一些特殊非均匀形状结构的微流芯片。目前制备的微流芯片主要采用光刻和化学刻蚀，如专利号为ZL200610019354.6，专利技术名称为：一种微流芯片及利用微流芯片制备聚合物微球的一种方法，公开日为：2008年11本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种非均匀等高梯度细胞捕获芯片的制备方法，其步骤是：（1）、基底的选择及处理：选取玻璃、石英或者硅为基底；将基底进行清洗，去除基底表面的油污杂质；（2）、刻蚀掩膜制备：对清洗好的基底在50℃~100℃的烘箱中进行烘干处理，烘干处理之后在基底的上下表面粘附防腐蚀胶膜，并且通过激光切割，把即将要刻蚀的区域部分切出来，除去切割出来的防腐蚀胶膜，得到要刻蚀的区域；（3）、湿法刻蚀：将选择的基底经过刻蚀掩膜制备处理之后，通过旋转夹具，按照0.01mm/min‑1mm/min的旋转速率将基底旋转放入到刻蚀液中，使基底在刻蚀液中的旋转角度从0°到90°，通过调整旋转夹具的旋转速率，得到不同等高面的非均匀等高...

【技术特征摘要】
1.一种非均匀等高梯度细胞捕获芯片的制备方法，其步骤是：（1）、基底的选择及处理：选取玻璃、石英或者硅为基底；将基底进行清洗，去除基底表面的油污杂质；（2）、刻蚀掩膜制备：对清洗好的基底在50℃~100℃的烘箱中进行烘干处理，烘干处理之后在基底的上下表面粘附防腐蚀胶膜，并且通过激光切割，把即将要刻蚀的区域部分切出来，除去切割出来的防腐蚀胶膜，得到要刻蚀的区域；（3）、湿法刻蚀：将选择的基底经过刻蚀掩膜制备处理之后，通过旋转夹具，按照0.01mm/min-1mm/mi...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘侃，项坚真，陈婷，方义，邹恒，
申请(专利权)人：武汉友芝友医疗科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42