用于光学器件的基板及具备其的光学器件封装制造技术

本发明专利技术涉及一种用于光学器件的基板及具备其的光学器件封装，尤其，涉及一种可通过降低形成在用于光学器件的基板的用于光学元件的空腔的倾斜面的表面粗糙度而将光损耗最小化的用于光学器件的基板及具备其的光学器件封装。

【技术实现步骤摘要】
用于光学器件的基板及具备其的光学器件封装
本专利技术涉及一种用于光学器件的基板及具备其的光学器件封装，尤其，涉及一种通过降低用于光学器件的基板的倾斜面的表面粗糙度而将光损耗最小化的用于光学器件的基板及具备其的光学器件封装。
技术介绍
光学器件封装是指安装光学器件而产生光的装置。在此情况下，光学器件是指接收电信号而产生光的元件。这种光学器件中的发光二极管(LightEmittingDiode，LED)不仅效率高于以往的光学器件，而且可产生高亮度的光，因此广泛地使用在显示器领域。可在用于光学器件的基板设置光学器件等而制造光学器件封装。作为有关像上述内容一样设置光学器件的用于光学器件的基板的专利，已知有韩国注册专利第10-1757197号(以下，称为“专利文献1”)中所记载的内容。专利文献1的光学元件基板包括：导电层；绝缘层，将导电层电分离；空腔，包括相对于包括绝缘层的区域具有指定的深度的槽；光学元件，配置到空腔的下部中心；以及透镜，在空腔的上部覆盖空腔。然而，专利文献1通过工具加工形成相对于包括绝缘层的区域具有指定的深度的空腔，在通过如上所述的工具加工形成空腔的情况下，存在因空腔的倾斜面的表面粗糙度而反射率下降的问题。以往，并未积极尝试对具有如专利文献1的构造的基板解决因工具加工产生的表面粗糙度的问题。另一方面，用于光学器件的基板例如可使用在作为射出光的装置的紫外线(Ultraviolet，UV)曝光装置而印刷特定图案。作为有关这种UV曝光装置的专利，已知有韩国公开专利第10-2017-0015075号(以下，称为“专利文献2”)及韩国公开专利第10-2017-0029917号(以下，称为“专利文献3”)中所记载的内容。专利文献2的曝光装置包括：曝光用玻璃基板；曝光台；驱动单元，使曝光台驱动；曝光用光源模块单元，包括在电路基板上以矩阵形态的阵列构造安装搭载多个紫外线发光元件的光源面板而出射曝光用照明光；以及光学系统。在专利文献2中，从曝光用光源模块单元出射的照明光通过光学系统聚光而通过光罩照射到玻璃基板，由此形成在光罩的曝光图案转印到玻璃基板而执行曝光制程。专利文献3的曝光装置包括：LED光源，配置有多个按照LED元件阵列排列的多LED芯片；准直器，将紫外线光束转换成平行光而输出；积分器，提高通过准直器的紫外线光束的均匀度而输出；以及球面镜。专利文献3是通过对基板照射图案曝光用紫外线光束而将描绘在光罩的多个图案曝光转印到基板上。在此情况下，专利文献2为了执行曝光制程，需较长地保持从曝光用光源模块单元出射的照明光的光程。然而，因空腔的倾斜面的表面粗糙度而反射率较低，因此产生发生漫反射而曝光装置的光程变短的问题。另外，在专利文献3中，只有较长地保持输出通过准直器出射的紫外线光束的积分器的光程，才可在基板上顺利地执行曝光转印。然而，与上述专利文献2的问题相同，专利文献3因形成到基板上的空腔的倾斜面的表面粗糙度而反射率较低，因此发生漫反射而光程变短。因此，在将用于光学器件的基板使用在如上所述的曝光装置的情况下，需改善可不产生UV光损耗而较长地形成光程的用于光学器件的基板构造。[现有技术文献][专利文献](专利文献1)韩国注册专利第10-1757197号(专利文献2)韩国公开专利第10-2017-0015075号(专利文献3)韩国公开专利第10-2017-0029917号
技术实现思路
[专利技术要解决的问题]本专利技术是为了解决上述问题而提出，其目的在于提供一种可通过降低形成在用于光学器件的基板的用于光学元件的空腔的倾斜面的表面粗糙度而将光损耗最小化的用于光学器件的基板及具备其的光学器件封装。另外，本专利技术的目的在于提供一种对UV曝光装置更优选的用于光学器件的基板及具备其的光学器件封装。[解决问题的手段]本专利技术的一特征的用于光学器件的基板的特征在于包括：第一金属部件及第二金属部件；垂直绝缘层，配置到所述第一金属部件与所述第二金属部件之间，使所述第一金属部件与所述第二金属部件电绝缘；以及用于光学元件的空腔；形成所述用于光学元件的空腔的倾斜面的表面粗糙度(Ra)满足“1nm≤Ra≤100nm”。另外，所述用于光学器件的基板的特征在于：以所述用于光学器件的基板的水平截面面积越朝下方则越小的方式形成所述用于光学器件的基板的下部。另外，所述用于光学器件的基板的特征在于包括：第一金属部件及第二金属部件；垂直绝缘层，配置到所述第一金属部件与所述第二金属部件之间，使所述第一金属部件与所述第二金属部件电绝缘；以及用于光学元件的空腔；形成所述用于光学元件的空腔的倾斜面是绝缘层与金属反射层积层而形成。另外，所述用于光学器件的基板的特征在于包括：第一金属部件及第二金属部件；垂直绝缘层，配置到所述第一金属部件与所述第二金属部件之间，使所述第一金属部件与所述第二金属部件电绝缘；以及用于光学元件的空腔；形成所述用于光学元件的空腔的倾斜面的上部倾斜面的截面形状为四边形，下部倾斜面的截面形状为圆形。另外，所述用于光学器件的基板的特征在于：形成所述用于光学元件的空腔的倾斜面的上部倾斜面及下部倾斜面的表面粗糙度(Ra)满足“1nm≤Ra≤100nm”。本专利技术的另一特征的用于光学器件的基板及具备其的光学器件封装的特征在于包括：用于光学器件的基板，其具备第一金属部件及第二金属部件、配置到所述第一金属部件与第二金属部件之间而使所述第一金属部件与第二金属部件电绝缘的垂直绝缘层及用于光学元件的空腔；发光元件，安装到所述用于光学元件的空腔内；以及透光部件，以覆盖所述用于光学元件的空腔的形态形成；形成所述用于光学元件的空腔的倾斜面的表面粗糙度(Ra)满足“1nm≤Ra≤100nm”。[专利技术效果]如上所述的本专利技术的用于光学器件的基板及具备其的光学器件封装具有如下效果。本专利技术的用于光学器件的基板及具备其的光学器件封装降低形成用于光学元件的空腔的倾斜面的表面粗糙度，由此例如在使用在UV曝光装置的情况下，减少因表面粗糙度引起的漫反射而将UV光损耗最小化，不仅较长地确保UV光程，而且可有效地聚光。因此，本专利技术的光学器件封装中形成在本专利技术的用于光学器件的基板的用于光学元件的空腔的倾斜面的表面粗糙度形成为可将光损耗最小化的表面粗糙度，由此可提升光学器件封装的光效率。另外，本专利技术的用于光学器件的基板在以用于光学器件的基板的水平截面面积越朝下方则越小的形状形成用于光学器件的基板的下部而配置多个光学器件封装的情况下，减小接着到用于光学器件的基板的下端面的接着剂的接合面积，由此具有可彼此接近地配置光学器件封装的效果。另外，本专利技术的用于光学器件的基板在基板的下部具备绝缘部，由此可获得如下效果：在配置多个光学器件封装的情况下，绝缘部可作为接合到用于光学器件的基板的下端面的接合剂的收容空间发挥功能而防止短路(short)。另外，本专利技术的用于光学器件的基板在形成用于光学元件的空腔的倾斜面积层绝缘层与金属反射层，所述用于光学元件的空腔形成到用于光学器件的基板，由此可去除光反射阻碍要素而获得更高的反射率。另外，本专利技术的用于光学器件的基板中形成到用于光学器件的基板的用于光学元件的空腔的倾斜面的上部倾斜面与下部倾斜面以不同的形状形成而有效地聚光来射出，由此具有可去除会在光学器件封装之间产生的阴影的效果。附本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于光学器件的基板，其特征在于，包括：第一金属部件及第二金属部件；垂直绝缘层，配置到所述第一金属部件与所述第二金属部件之间，使所述第一金属部件与所述第二金属部件电绝缘；以及用于光学元件的空腔；且形成所述用于光学元件的空腔的倾斜面的表面粗糙度Ra满足1nm≤Ra≤100nm。

【技术特征摘要】
2017.11.24 KR 10-2017-01585911.一种用于光学器件的基板，其特征在于，包括：第一金属部件及第二金属部件；垂直绝缘层，配置到所述第一金属部件与所述第二金属部件之间，使所述第一金属部件与所述第二金属部件电绝缘；以及用于光学元件的空腔；且形成所述用于光学元件的空腔的倾斜面的表面粗糙度Ra满足1nm≤Ra≤100nm。2.根据权利要求1所述的用于光学器件的基板，其特征在于，以所述用于光学器件的基板的水平截面面积越朝下方则越小的方式形成所述用于光学器件的基板的下部。3.一种用于光学器件的基板，其特征在于，包括：第一金属部件及第二金属部件；垂直绝缘层，配置到所述第一金属部件与所述第二金属部件之间，使所述第一金属部件与所述第二金属部件电绝缘；以及用于光学元件的空腔；且形成所述用于光学元件的空腔的倾斜面是绝缘层与金属反射层积层而形成。4.一种用于光学器件...

【专利技术属性】
技术研发人员：安范模，朴胜浩，宋台焕，
申请(专利权)人：普因特工程有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR