The invention relates to the field of advanced packaging technology for integrated circuits, in particular to a semiconductor device and a correction method for correcting the warpage of a plastic-encapsulated flat plate containing an integrated circuit chip. Semiconductor devices include: load-bearing structures, including load-bearing zones for plastic-encapsulated flat plates, which are planar; vacuum channels, which are located on load-bearing structures and connected with load-bearing zones, are used to vacuum the gap between plastic-encapsulated flat plates and load-bearing zones; pressure structures, which are set above load-bearing structures and move back and forth perpendicular to load-bearing zones, and pressure structures. It has a pressing end corresponding to the plastic-encapsulated plate and used to exert corrective pressure on the non-exposed chip of the plastic-encapsulated plate. The contact surface between the pressing end and the plastic-encapsulated plate is a plane. The heating structure is set on the bearing structure and/or the pressing structure for heating and heating the plastic-encapsulated plate. The semiconductor device of the present invention is not easy to damage the bare chip in rectification and has good rectification effect.
【技术实现步骤摘要】
一种用于矫正塑封平板翘曲的半导体装置及矫正方法
本专利技术涉及集成电路先进封装
,具体涉及一种用于矫正包含集成电路芯片的塑封平板翘曲的半导体装置及矫正方法。
技术介绍
板级扇出封装由于其自身的特点,具有较高的产能,近年来一直被集成电路封测业界所关注,未来可望成为扇出封装的主要生产技术之一,特别是对于相对较多引脚的小芯片封装,其生产成本无疑具有巨大的吸引力。在扇出封装当中,塑封成型重构晶圆或大尺寸平板是必不可少的步骤,通常芯片按照封装设计版图,由贴片机将测试良好的芯片(known-gooddie)重新组合成可以继续工艺集成的晶圆或者平板。然而,由于芯片与塑封材料弹性模量、热膨胀系数等物理参数的差别,冷却后的塑封晶圆或者大尺寸平板往往不能保持表面平整,都呈现不同程度的翘曲,翘曲程度一般与弹性模量、膨胀系数差别大小、以及塑封料里面含有的填充材料所决定。经过热压注塑重构成型的平板尺寸也是影响翘曲程度的关键参数,平板的尺寸越大,翘曲的程度就越明显。比如塑封平板的尺寸从300x300毫米(长x宽)加大到600x600毫米,在使用同样的芯片与塑封材料,甚至同一样的工艺参数,尺寸较大的平板要呈现较大程度的翘曲。从材料挑选、匹配、工艺优化、芯片尺寸的选择等方面的开发工作可适量减小尺寸平板的翘曲程度,但是即使花费更大的制造成本,都无法在热压注塑工艺中取得满意的平整度,在封装芯片和材料改变以后,以前的经验往往不合适,还需要再去调试、研发。因此使用用于矫正平板翘曲的仪器很有必要,在使用仪器矫正平整后,对于各种各样的芯片尺寸大小、减薄芯片的厚度、塑封原料与填充材料比例、各种注 ...
【技术保护点】
1.用于矫正包含集成电路芯片的塑封平板翘曲的半导体装置,其特征在于,包括:承载结构(3),包括用于承载所述塑封平板(5)的承载区,所述承载区为平面设置;真空通道,设于所述承载结构(3)上,且与所述承载区连通设置,用于对所述塑封平板(5)和所述承载区之间的间隙施加真空;压制结构,设置于所述承载结构(3)上方且沿垂直于所述承载区方向往返移动,所述压制结构具有与所述塑封平板(5)对应设置且用于对所述塑封平板(5)无裸露芯片处施加矫正压力的压制端(4),所述压制端(4)与所述塑封平板(5)的接触面为平面;加热结构,设于所述承载结构(3)和/或所述压制结构上,用于对所述塑封平板(5)加热升温。
【技术特征摘要】
1.用于矫正包含集成电路芯片的塑封平板翘曲的半导体装置,其特征在于,包括:承载结构(3),包括用于承载所述塑封平板(5)的承载区,所述承载区为平面设置;真空通道,设于所述承载结构(3)上,且与所述承载区连通设置,用于对所述塑封平板(5)和所述承载区之间的间隙施加真空;压制结构,设置于所述承载结构(3)上方且沿垂直于所述承载区方向往返移动,所述压制结构具有与所述塑封平板(5)对应设置且用于对所述塑封平板(5)无裸露芯片处施加矫正压力的压制端(4),所述压制端(4)与所述塑封平板(5)的接触面为平面;加热结构,设于所述承载结构(3)和/或所述压制结构上,用于对所述塑封平板(5)加热升温。2.根据权利要求1所述的用于矫正包含集成电路芯片的塑封平板翘曲的半导体装置,其特征在于,所述压制端(4)为与所述塑封平板(5)周缘形状适配的环形结构,以对所述塑封平板(5)的周缘施加矫正压力。3.根据权利要求1所述的用于矫正包含集成电路芯片的塑封平板翘曲的半导体装置,其特征在于,所述真空通道为与所述承载区表面连通设置的沟槽和/或孔道,所述真空通道包括至少一个延伸至所述承载结构(3)外部设置的连接口。4.根据权利要求3所述的用于矫正包含集成电路芯片的塑封平板翘曲的半导体装置,其特征在于,所述真空通道为与所述承载区对应设置的沟槽。5.根据权利要求4所述的用于矫正包含集成电路芯片的塑封平板翘曲的半导体装置,其特征在于,所述沟槽包括若干直线流道和若干弧形流道,若干所述直线流道平行排布,相邻两个所述直线流道的首尾通过所述弧形流道连通。6.根据权利要求5所述的用于矫正包含集成电路芯片的塑封平板翘曲的半导体装置,其特征在于,所述沟槽还包括用于与真空系统连接的第一连接口以及用于流通惰性气体的第二连接口。7.根据权利要求1所述的用于矫正包含集成电路芯片的塑封平板翘曲的半导体装置,其特征在于,还包括设置于所述压制结构上、且套设在所述压制端(4)外侧的保护圈(2),所述压制端(4)对所述塑封平板(5)施加压力时,所述保护圈(2)套设于所述塑封平板(5)外缘以防止所述塑封...
【专利技术属性】
技术研发人员:姚大平,
申请(专利权)人:华进半导体封装先导技术研发中心有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏,32
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