【技术实现步骤摘要】
半导体装置
本说明书公开的技术涉及半导体装置。
技术介绍
在日本特开2017-55044号公报中公开了半导体装置。该半导体装置具备:半导体元件,具有信号焊盘;密封体,密封半导体元件;以及引线,连接于信号焊盘。引线从位于密封体的外部的第1端延伸至位于密封体的内部的第2端,在密封体的内部经由键合线(Bondingwire)连接于信号焊盘。从引线的第1端延伸至第2端的上表面具有:接合区间,接合键合线;以及粗糙面区间,位于密封体的内部,并且该粗糙面区间的表面粗糙度比接合区间大。根据这样的结构,由于设置于引线的粗糙面区间而引线与密封体的粘合性提高。
技术实现思路
在上述半导体装置的制造工序中,通过激光照射而在引线形成粗糙面区间,接着,在引线的接合区间接合键合线。关于这一点,当对引线实施激光照射时,有时微小的碎片(例如氧化物)从照射部位飞散,引线的表面被污染。特别是,当这样的碎片附着于接合区间时,引线与键合线之间的接合强度有可能会不足。本说明书提供能够解决或者改善这样的问题的技术。本说明书公开的技术被具体化为半导体装置。该半导体装置具备:半导体元件,具有信号焊盘;密封体,密封半导 ...
【技术保护点】
1.一种半导体装置,具备:半导体元件,具有信号焊盘;密封体,密封所述半导体元件;以及引线,从位于所述密封体的外部的第1端延伸至位于所述密封体的内部的第2端,在所述密封体的内部经由键合线连接于所述信号焊盘,从所述引线的所述第1端延伸至所述第2端的上表面具有:接合区间,接合所述键合线;以及粗糙面区间,位于所述密封体的内部,并且所述粗糙面区间的表面粗糙度比所述接合区间大,所述粗糙面区间的至少一部分位于比所述接合区间靠下方的位置。
【技术特征摘要】
2017.10.31 JP 2017-2113361.一种半导体装置,具备:半导体元件,具有信号焊盘;密封体,密封所述半导体元件;以及引线,从位于所述密封体的外部的第1端延伸至位于所述密封体的内部的第2端,在所述密封体的内部经由键合线连接于所述信号焊盘,从所述引线的所述第1端延伸至所述第2端的上表面具有:接合区间,接合所述键合线;以及粗糙面区间,位于所述密封体的内部,并且所述粗糙面区间的表面粗糙度比所述接合区间大,所述粗糙面区间的至少一部分位于比所述接合区间靠下方的位置。2.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,所述粗糙面区间的整体位于比所述接合区间靠下方的位置。3.根据权利要求1或者2所述的半导体装置,其中,所述粗糙面区间朝向所述接合区间向上方倾斜。4.根据权利要求1至3中的任意一项所述的半导体装置,其中,所述引线的所述上...
【专利技术属性】
技术研发人员:武直矢,儿玉幸雄,大岛正范,
申请(专利权)人:丰田自动车株式会社,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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