The present application provides a surface treatment device for a long strip substrate in roll-to-roll mode, which can suppress costs and treat the strip substrate in a manner that produces almost no wrinkles. A surface treatment device includes: two canned rollers, which will be rolled in the vacuum chamber in a roll-to-roll fashion to the outer surface and cooled by circulating refrigerant inside; and a surface treatment method, which is represented by a magnetron sputtering cathode arranged in the circumferential orientation of the two canned rollers; and the two canned rollers are located in the most position except the outer one. The second pot-shaped roll besides the first pot-shaped roll on the upstream side has a gas releasing mechanism for releasing gas from the peripheral surface.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】卷对卷方式的表面处理装置及使用它的成膜方法及成膜装置
本专利技术涉及一种卷对卷方式的表面处理装置及使用它的成膜方法及成膜装置,该卷对卷方式的表面处理装置具备2个以上的罐状辊,上述罐状辊于对在真空室内以卷对卷方式搬送的长条基材进行表面处理时,将长条基材卷绕至外周面并使其冷却。
技术介绍
液晶面板、笔记型电脑、数位相机、行动电话等电子机器中使用于树脂膜上形成配线电路而成的可挠性配线基板。该可挠性配线基板可通过对在树脂膜的单面或者两面成膜金属膜而成的附有金属膜的树脂膜利用光微影法或蚀刻等薄膜技术对金属膜进行图案化加工而制作。近年来,可挠性配线基板的配线电路图案有更微细化、高密度化的倾向,伴随于此,对附有金属膜的树脂膜要求平坦且无皱褶的。作为上述附有金属膜的树脂膜的制造方法,已知有利用接着剂将金属箔贴附于树脂膜而制造的方法(3层基板的制造方法)、于金属箔涂布树脂溶液后使其干燥而制造的方法(浇铸法)、单独利用真空成膜法或者同时使用真空成膜法与湿式镀覆法于树脂膜成膜金属膜而制造的方法(金属喷敷法)等。上述制造方法中,于金属喷敷法中的真空成膜法中,使用真空蒸镀法、溅镀法、离子镀覆法、离子束溅镀法等。例如,作为溅镀法,于专利文献1中揭示有如下方法,即,于聚酰亚胺绝缘层上溅镀铬层后溅镀铜,由此形成导体层,于专利文献2中揭示有一种可挠性电路基板用材料,该可挠性电路基板用材料是由通过以铜镍合金为靶的溅镀而形成的第一金属薄膜与通过以铜为靶的溅镀而形成的第2金属薄膜按此顺序积层于聚酰亚胺膜上而成。于利用上述真空成膜法于聚酰亚胺膜等树脂膜成膜金属膜而制作附有金属膜的树脂膜的情形时,一 ...
【技术保护点】
1.一种卷对卷方式的表面处理装置,其具有:至少2个罐状辊,其等将于真空室内以卷对卷方式搬送的长条基材卷绕至外周面并利用循环于内部的冷媒使其冷却;及表面处理手段,其设置于与上述罐状辊的外周面对向的位置;其特征在于:上述至少2个罐状辊中,除位于最上游侧的罐状辊以外的至少1个罐状辊具备自外周面释放气体的气体释放机构。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.08.23 JP 2016-1627871.一种卷对卷方式的表面处理装置,其具有:至少2个罐状辊,其等将于真空室内以卷对卷方式搬送的长条基材卷绕至外周面并利用循环于内部的冷媒使其冷却;及表面处理手段,其设置于与上述罐状辊的外周面对向的位置;其特征在于:上述至少2个罐状辊中,除位于最上游侧的罐状辊以外的至少1个罐状辊具备自外周面释放气体的气体释放机构。2.根据权利要求1所述的卷对卷方式的表面处理装置,其中,具有上述气体释放机构的罐状辊于其外周厚壁部于圆周方向上隔开大致均等的间隔地遍及全周具有沿旋转轴方向延伸的多个气体导入路,所述多个气体导入路的每一个具有沿该旋转轴方向以大致均等的间隔向外周面侧开口的多个气体释放孔,并且具备于位于罐状辊的外周面中未卷绕有上述长条基材的非包覆部时使气体停止的机构。3.一种卷对卷方式的成膜装置,其中,根据权利要求1或2所述的表面处理手段为干式成膜手段。4.根据权利要求3所述的卷对卷方式的成膜装置,其中,上述干...
【专利技术属性】
技术研发人员:大上秀晴,
申请(专利权)人:住友金属矿山股份有限公司,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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