基板对准装置、基板处理装置和基板处理方法制造方法及图纸

公开了一种基板对准装置、基板处理装置和使用基板对准装置的基板处理方法。基板对准装置和基板处理装置包括支承板和连接至支承板以对转基板的位置的多个引导单元。各引导单元包括用于将基板对准到适当位置的对准销和具有用于支承对准的基板的边缘区域支承表面的固定体，固定部固定地连接至支承板。对准销相对于固定部的支承表面绕对准销的中心轴线为可旋转的，从而快速地对准基板，并因此防止了通过传送机械手在多个处理腔室之间传送的基板脱离或对其他装置具有负面影响。

Substrate Alignment Device, Substrate Processing Device and Substrate Processing Method

A substrate alignment device, a substrate processing device and a substrate processing method using a substrate alignment device are disclosed. The substrate alignment device and the substrate processing device comprise a support plate and a plurality of guiding units connected to the support plate to counter the position of the substrate. Each guiding unit includes an alignment pin for aligning the substrate to an appropriate position and a fixture having a supporting surface in the edge area of the substrate for supporting alignment, which is fixedly connected to the supporting plate. The alignment pin is rotatable relative to the supporting surface of the fixed part around the central axis of the alignment pin, thus aligning the substrate quickly, and thus preventing the base plate from detaching or having a negative impact on other devices transmitted between multiple processing chambers by the transmission manipulator.

【技术实现步骤摘要】
基板对准装置、基板处理装置和基板处理方法相关申请的交叉引用本申请要求于2017年10月12日提交韩国工业产权局、申请号为10-2017-0132263的韩国专利申请的优先权和权益，其全部内容通过引用结合在本申请中。
本文中描述的本专利技术构思的实施例涉及基板对准装置、基板处理装置和基板处理方法；尤其涉及一种基板对准装置、基板处理装置和基板处理方法，其中，用于对准基板的引导单元旋转以使由与基板的摩擦而引起的磨损最小化，从而增加耐用寿命。
技术介绍
执行诸如沉积、光刻、蚀刻和清洁等的各种过程，以制造半导体设备。用于执行一些过程的装置具有多个腔室。基板在任一个腔室中被处理，然后被传送到另一个腔室。例如，用于执行光刻过程的基板处理装置包括涂覆腔室、烘烤腔室和边缘曝光腔室等，涂覆腔室用于使用如光刻胶的光敏材料涂覆基板，烘烤腔室用于在使用光敏材料涂覆基板之前或之后加热或冷却基板，边缘曝光腔室用于在基板的边缘区域上执行曝光过程。基板按预设顺序传送至腔室。基板必须放置于单元上的预定正确位置，该单元在腔室中支承基板。当基板在未对准的状态下被处理时，很可能发生工艺失败。例如，当基板的边缘区域在基板未对准本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于对准基板的装置，所述装置包括：支承板；和多个引导单元，其连接至所述支承板并配置为对准所述基板的位置，其中，各所述引导单元包括：对准销，其配置为将所述基板对准到适当位置；和固定体，其具有配置为支承对准的所述基板的边缘区域的支承表面，所述固定部固定地连接至所述支承板，和其中，所述对准销相对于所述固定部的所述支承表面围绕所述对准销的中心轴线为可旋转的。

【技术特征摘要】
2017.10.12 KR 10-2017-01322631.一种用于对准基板的装置，所述装置包括：支承板；和多个引导单元，其连接至所述支承板并配置为对准所述基板的位置，其中，各所述引导单元包括：对准销，其配置为将所述基板对准到适当位置；和固定体，其具有配置为支承对准的所述基板的边缘区域的支承表面，所述固定部固定地连接至所述支承板，和其中，所述对准销相对于所述固定部的所述支承表面围绕所述对准销的中心轴线为可旋转的。2.根据权利要求1所述的装置，其中，所述对准销包括：倾斜部，其具有朝向底部逐渐增加的横截面的圆锥的或截头圆锥的形状；和主体，其从所述倾斜部向下延伸至所述固定部且具有垂直于所述支承板的侧面。3.根据权利要求2所述的装置，其中，当所述基板沿所述倾斜部下落时，所述对准销旋转。4.根据权利要求2所述的装置，其中，所述主体具有小于所述基板的厚度的高度。5.根据权利要求2所述的装置，其中，所述主体具有等于所述基板的厚度的一半的高度。6.根据权利要求2至5中任一项所述的装置，其中，所述主体和所述支承表面中的一个具有插入突出物且另一个具有所述插入突出物插入到其中的凹槽。7.根据权利要求6所述的装置，其中，所述插入突出物具有圆柱形且具有小于所述凹槽的内径的直径。8.根据权利要求6所述的装置，其中，将轴承安装在所述插入突出物上或插入到所述凹槽中。9.根据权利要求1至5中任一项所述的装置，其中，所述固定部包括：支承体，其具有所述支承表面；和支承轴，其从所述支承体延伸且固定地连接至所述支承板。10.一种用于对准基板的装置，所述装置包括：支承板；和多个引导单元，其连接至所述支承板并配置为对准所述基板的位置，其中，各所述引导单元包括对准销，其中，所述对准销包括：倾斜部，其具有朝向底部逐渐增加的横截面的圆锥的或截头圆锥的形状，以及主体，其从所述倾斜部向下延伸至所述固定部且具有垂直于所述支承板的侧面，且其中，所述主体具有小于所述基板的厚度的高度。11.根据权利要求10所述的装置，其中，所述主体的高度等于所述基板的厚度的一半。12.一种用于处理基板的...

【专利技术属性】
技术研发人员：严基象，崔哲珉，洪南基，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR