一种硅片清洗机制造技术

本实用新型专利技术公开了一种硅片清洗机，包括机架，所述机架上依次设置有多个清洗槽，清洗槽被隔板和过滤网分隔为清洗室和进料室，所述进料室上设置有进料口，清洗室通过排料口与下一级清洗槽的清洗室连通，本实用新型专利技术使用时清洗室内清洗液的上层清液通过排料口进入到下一级清洗槽中，杂质被清洗室底部的过滤网阻挡在进料室内，从而实现清洗液的循环利用和硅片的逐级清洗，大大提高了硅片的清洗质量和清洗效果；同时本实用新型专利技术还通过电机和偏心轮实现了清洗架在清洗室内的往复运动，其与传统的静置清洗方式相比，对硅片上的顽固污渍清洗更加彻底，大大降低了硅片表面的污渍残留，提高了硅片的清洗效果。

A Silicon Wafer Cleaner

The utility model discloses a silicon wafer cleaning machine, which comprises a rack. The rack is successively provided with several cleaning grooves, the cleaning groove is divided into a cleaning chamber and a feeding chamber by a partition board and a filter screen. The feeding chamber is provided with a feeding inlet, and the cleaning chamber is connected with the cleaning chamber of the next cleaning trough through a discharge outlet. When the utility model is used, the upper clean liquid of the cleaning chamber is discharged through a drain. When the inlet enters the next cleaning tank, impurities are blocked by the filter screen at the bottom of the cleaning chamber into the feeding chamber, thereby realizing the recycling of cleaning liquid and the step-by-step cleaning of silicon wafers, greatly improving the cleaning quality and cleaning effect of silicon wafers; at the same time, the utility model realizes the reciprocating movement of the cleaning rack in the cleaning chamber through an electric motor and an eccentric wheel, which is compared with the traditional static cleaning method. Compared with the traditional method, the stubborn stains on the silicon wafer are cleaned more thoroughly, which greatly reduces the residual stains on the surface of the silicon wafer and improves the cleaning effect of the silicon wafer.

【技术实现步骤摘要】
一种硅片清洗机
本技术涉及半导体加工设备
，具体涉及一种硅片清洗机。
技术介绍
太阳能是一种可再生资源，因其具有广泛的来源和极低的获取成本而成为应用最广泛的新能源种类之一，现有技术中主要通过太阳能电池板将光能转化为电能加以利用，而太阳能电池板根据使用材质的不同又氛围硅太阳能电池、有机太阳能电池等，其中硅太阳能电池是应用最成熟的一种太阳能电池板；硅太阳能电池板所使用的单晶硅片在加工过程中极易附着颗粒、有机物、金属等杂质，这些杂质如果不能及时清除将严重影响太阳能电池的性能，而现有技术中的清洗设备的清洗效果较差，同时其在清洗硅片的同时还会产生大量的废水，远远不能满足现有技术的要求，因此需要一种清洗效果更好的清洗装置。公开号为CN206435531U的中国技术专利于2017年8月25日公开了一种循环节水式太阳能硅片预清洗设备，包括清洗槽，所述清洗槽一侧固定设置有L型挂架，L型挂架包括固定设置在清洗槽一侧的竖板和位于清洗槽上的横板，横板前后侧均设置有横向滑轨，横板上设置有沿横向滑轨往复运动的提拉机构，提拉机构下端连接有镂空清洗箱，清洗槽下端设置有出水口，出水口通过管道连接有处理池，处理池本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种硅片清洗机，包括机架（1），其特征在于：所述机架（1）上依次设置有多个清洗槽（2）；所述清洗槽（2）内被隔板分隔为清洗室（3）和进料室（4），所述清洗室（3）与进料室（4）之间通过滤网（5）隔离，所述清洗室（3）通过排料口（6）与下一极清洗槽（2）的进料室（4）连通；所述机架（1）两侧设置有滑轨（7）和滑槽（8），所述滑轨（7）上设置有多个与清洗室（3）相适配的清洗架（9）；所述机架（1）上还滑动设置有滑杆（10），所述滑杆（10）穿过滑槽（8）与清洗架（9）相连；所述机架（1）上还设置有电机（11），所述电机（11）与滑杆（10）之间通过偏心轮（12）和连杆（13）相连。

【技术特征摘要】
1.一种硅片清洗机，包括机架（1），其特征在于：所述机架（1）上依次设置有多个清洗槽（2）；所述清洗槽（2）内被隔板分隔为清洗室（3）和进料室（4），所述清洗室（3）与进料室（4）之间通过滤网（5）隔离，所述清洗室（3）通过排料口（6）与下一极清洗槽（2）的进料室（4）连通；所述机架（1）两侧设置有滑轨（7）和滑槽（8），所述滑轨（7）上设置有多个与清洗室（3）相适配的清洗架（9）；所述机架（1）上还滑动设置有滑杆（10），所述滑杆（10）穿过滑槽（8）与清洗架（9）相连；所述机架（1）上还设置有电机（11），所述电机（11）与滑杆（10）之间通过偏心轮（12）和连杆（13）相连。2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗机，其特征在于：所述进料室（4）上还设置有进料管（14），所述排料口（6）内设置有过滤网（5）。3.根据权利要求1所述的一种硅片清洗机，其特征在于：所述机架上还设置有控制器（15），所述清洗室（3...

【专利技术属性】
技术研发人员：陆敏，
申请(专利权)人：四川晶美硅业科技有限公司，
类型：新型
国别省市：四川,51