一种彩膜基板及其制造方法技术

本发明专利技术公开了一种彩膜基板，属于液晶显示领域，包括：显示区以及位于显示区周围的非显示区，所述显示区包括第一黑色矩阵、通过第一黑色矩阵限定的像素区、位于每个像素区的色阻层以及覆盖色阻层的第一平坦化层，所述色阻层部分覆盖第一黑色矩阵，所述非显示区包括整面铺设的第二黑色遮光层、覆盖第二黑色遮光层的垫层以及覆盖垫层的第二平坦化层，所述垫层和第二黑色遮光层的总高度等于色阻层的高度，在不增加显示区的厚度的情况下，让显示区和非显示区平整的彩膜基板，可以解决周边显示不良的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种彩膜基板及其制造方法
本专利技术涉及液晶显示
，尤其涉及一种彩膜基板及其制造方法。
技术介绍
液晶显示器具有体积小、功耗低、无辐射等有点，近年来得到了迅速发展，目前在平板显示器市场具有主导地位，液晶显示面板包括阵列基板、彩膜基板以及设置在阵列基板和彩膜基板之间的液晶层，彩膜基板的结构一般如图1所示，包括显示区1和非显示区2，所述显示区1包括第一黑色矩阵5、第一黑色矩阵5限定的像素区，覆盖像素区的色阻层6、以及覆盖色阻层的第一平坦化层8，所述非显示区2包括第二黑色遮光层9，靠近显示区1边缘的重叠像素色阻层14，以及部分覆盖第二黑色遮光层9和完全覆盖重叠像素色阻层14的第二平坦层13。重叠像素色阻层14与色阻层6同一工艺形成，因此会导致非显示区2中靠近显示区1边缘的地方高度明显高于显示区1的高度，进一步导致支撑柱3的高度不一致，在进行后续的成盒工艺时，非显示区2和显示区1的盒厚不均，支撑柱3会对膜层产生划伤，容易产生周边显示不良。现有技术中，可以通过增加第一平坦层的厚度来实现显示区和非显示区的厚度相同，但是通过该方法，会导致显示区的厚度增加，降低光透过率，从而降低显示效果。
技术实现思路
为了解决上述问题，提供了一种彩膜基板及其制造方法，能够在不增加显示区的盒厚的情况下，保证显示区和非显示区盒厚一致，解决周边显示不良的问题。同时使用半透掩膜版技术，没有增加新的制程，保证了经济性。本专利技术公开了一种彩膜基板，包括：显示区以及位于显示区周围的非显示区，所述显示区包括第一黑色矩阵、通过第一黑色矩阵限定的像素区、位于每个像素区的色阻层以及覆盖色阻层的第一平坦化层，所述色阻层部分覆盖第一黑色矩阵，所述非显示区包括整面铺设的第二黑色遮光层、覆盖第二黑色遮光层的垫层以及覆盖垫层的第二平坦化层，所述垫层和第二黑色遮光层的总高度等于色阻层的高度。优选的，所述第一黑色矩阵和第二黑色遮光层同时形成，所述第一平坦层和第二平坦层一体成型且同时形成。优选的，所述像素区包括多个子像素区，所述色阻层包括多个单色色阻层，每个单色色阻层对应一个子像素区。优选的，所述垫层为第三黑色遮光层，所述第二黑色遮光层与第三黑色遮光层一体成型，所述第一黑色矩阵、第二黑色遮光层以及第三黑色遮光层同时形成。优选的，所述垫层为虚拟像素层，所述虚拟像素层与色阻层同时形成。优选的，所述虚拟像素层为单色色阻层或者多个单色色阻层的结合。优选的，所述垫层为第三平坦化层，所述第三平坦化层与第二平坦化层一体成型，所述第三平坦化层、第二平坦化层和第一平坦化层同时形成。本专利技术还提供了一种制造上述彩膜基板的方法：该方法包括以下步骤：S1，在玻璃基板上形成一层黑色矩阵材料层；S2，通过半透掩膜版对黑色矩阵材料层进行曝光，所述半透掩膜版包括位于非显示区的全透区及位于显示区的半透区和全遮区；S3，通过显影和烘烤，在非显示区形成第二黑色遮光层和第三黑色遮光层，在显示区形成矩阵排列的第一黑色矩阵；S4，在显示区分别形成多个单色色阻层，多个单色色阻层组成色阻层，且其中一个单色色阻层的高度等于第二黑色遮光层和第三黑色遮光层的总高度；S5，在第三黑色遮光层和色阻层上整面铺设平坦层材料并形成位于显示区的第一平坦层和位于非显示区的第二平坦层。优选的，所述的黑色矩阵材料层、单色色阻层、平坦层材料都为负性材料。优选的，所述全透区的光透过率为100％，所述全遮区的光透过率为0％，所述半透区的光透过率为10-30％。本专利技术还提供了一种制造上述彩膜基板的方法：该方法包括以下步骤：S1，在玻璃基板上形成一层黑色矩阵材料层；S2，通过掩膜版对黑色矩阵材料层进行曝光、显影和烘烤，形成位于非显示区内的第二黑色遮光层和形成位于显示区的第一黑色矩阵，第二黑色遮光层在非显示区中整面铺设，第一黑色矩阵在显示区中阵列排布，第二黑色遮光层和第一黑色矩阵的高度相同；S3，依序形成每个单色色阻层，通过半透掩膜版对单色色阻层进行曝光、显影和烘烤，所述半透掩膜版包括位于显示区的全遮区和全透区以及位于非显示区的半透区和全遮区，多个单色色阻层形成位于显示区的色阻层，单个或多个单色色阻层位于非显示区的虚拟像素层，且其中一个单色色阻层的高度等于虚拟像素层和第二黑色遮光层的总高度；S4，在色阻层和虚拟像素层上整面铺设平坦层材料并同时形成第一平坦层和第二平坦层。优选的，所述的黑色矩阵材料层、单色色阻层、平坦层材料都为负性材料。优选的，所述全透区的光透过率为100％，所述全遮区的光透过率为0％，所述半透区的光透过率为10-30％。本专利技术还提供了一种制造上述彩膜基板的方法：该方法包括以下步骤：S1，在玻璃基板上形成一层黑色矩阵材料层；S2，通过掩膜版对黑色矩阵材料层进行曝光、显影和烘烤，形成位于非显示区内的第二黑色遮光层和形成位于显示区的第一黑色矩阵，第二黑色遮光层在非显示区中整面铺设，第一黑色矩阵在显示区中阵列排布，第二黑色遮光层和第一黑色矩阵的高度相同；S3，在显示区分别形成多个单色色阻层，多个单色色阻层组成色阻层；S4，在色阻层和第二黑色遮光层上铺设平坦层材料，通过半透掩膜版对平坦层材料进行曝光、显影和烘烤，所述半透掩膜版包括位于显示区的半透区以及位于非显示区的全透区，同时形成位于显示区的第一平坦层和位于非显示区的第三平坦层和第二平坦层。优选的，所述的黑色矩阵材料层、单色色阻层、平坦层材料都为负性材料。优选的，所述全透区的光透过率为100％，所述半透区的光透过率为10-30％。与现有技术相比，本专利技术提供了一种在不增加显示区的厚度的情况下，让显示区和非显示区平整的彩膜基板，通过该彩膜基板，可以解决周边显示不良的问题。本专利技术还提供了一种使用半透掩膜版进行彩膜基板制作的方法，通过半透掩膜版的使用，可以减少生产制程工序，提升经济效益。附图说明图1为现有技术彩膜基板结构示意图；图2为本专利技术实施例一结构示意图；图3为本专利技术实施例二结构示意图；图4为本专利技术实施例三结构示意图；图5-6为本专利技术第一实施例制造方法示意图；图7-9为本专利技术第二实施例制造方法示意图；图10-11为本专利技术第三实施例制造方法示意图。附图标记列表：1-显示区，2-非显示区，3-支撑柱，4-玻璃基板，5-第一黑色矩阵，6-色阻层，71-红色色阻层，72-绿色色阻层，73蓝色色阻层，8-第一平坦层，9-第二黑色遮光层，10-第三黑色遮光层，11-虚拟像素层，111-红色色阻层、112-绿色色阻层、113-蓝色色阻层，12-第三平坦层，13-第二平坦层，14-重叠像素色阻层，15-平坦层，16-全透区，17-半透区，18-全遮区，19-半透掩膜版，20-黑色矩阵材料层，21-单色色阻层，22-平坦层材料。具体实施方式下面结合附图和具体实施例，进一步阐明本专利技术，应理解这些实施例仅用于说明本专利技术而不用于限制本专利技术的范围，在阅读了本专利技术之后，本领域技术人员对本专利技术的各种等价形式的修改均落于本申请所附权利要求所限定的范围。为使图面简洁，各图中只示意性地表示出了与本专利技术相关的部分，它们并不代表其作为产品的实际结构。另外，以使图面简洁便于理解，在有些图中具有相同结构或功能的部件，仅示意性地绘示了其中的一个，或仅标出了其中的一个。在本文中，“一个”不仅表示“仅此一个”，也可以表示“多于一个”的情形本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种彩膜基板，包括：显示区以及位于显示区周围的非显示区，所述显示区包括第一黑色矩阵、通过第一黑色矩阵限定的像素区、位于每个像素区内的色阻层以及覆盖色阻层的第一平坦化层，其特征在于：所述色阻层部分覆盖第一黑色矩阵，所述非显示区包括整面铺设的第二黑色遮光层、覆盖第二黑色遮光层的垫层以及覆盖垫层的第二平坦化层，所述垫层和第二黑色遮光层的总高度等于色阻层的高度。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板，包括：显示区以及位于显示区周围的非显示区，所述显示区包括第一黑色矩阵、通过第一黑色矩阵限定的像素区、位于每个像素区内的色阻层以及覆盖色阻层的第一平坦化层，其特征在于：所述色阻层部分覆盖第一黑色矩阵，所述非显示区包括整面铺设的第二黑色遮光层、覆盖第二黑色遮光层的垫层以及覆盖垫层的第二平坦化层，所述垫层和第二黑色遮光层的总高度等于色阻层的高度。2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于：所述第一黑色矩阵和第二黑色遮光层同时形成，所述第一平坦层和第二平坦层一体成型且同时形成。3.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于：所述像素区包括多个子像素区，所述色阻层包括多个单色色阻层，每个单色色阻层对应一个子像素区。4.根据权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于：所述垫层为第三黑色遮光层，所述第二黑色遮光层与第三黑色遮光层一体成型，所述第一黑色矩阵、第二黑色遮光层以及第三黑色遮光层同时形成。5.根据权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于：所述垫层为虚拟像素层，所述虚拟像素层与色阻层同时形成。6.根据权利要求5所述的彩膜基板，其特征在于：所述虚拟像素层为单色色阻层或者多个单色色阻层的结合。7.根据权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于：所述垫层为第三平坦化层，所述第三平坦化层与第二平坦化层一体成型，所述第三平坦化层、第二平坦化层和第一平坦化层同时形成。8.一种制造权利要求4所述彩膜基板的方法：其特征在于：该方法包括以下步骤：S1，在玻璃基板上形成一层黑色矩阵材料层；S2，通过半透掩膜版对黑色矩阵材料层进行曝光，所述半透掩膜版包括位于非显示区的全透区及位于显示区的半透区和全遮区；S3，通过显影和烘烤，在非显示区形成第二黑色遮光层和第三黑色遮光层，在显示区形成矩阵排列的第一黑色矩阵；S4，在显示区分别形成多个单色色阻层，多个单色色阻层...

【专利技术属性】
技术研发人员：李世春，金潘，祝宏勋，许家诚，王志军，
申请(专利权)人：南京中电熊猫平板显示科技有限公司，南京中电熊猫液晶显示科技有限公司，南京华东电子信息科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32