双层掩膜版及其使用方法、改善双层掩膜版的漏光方法技术

发明专利技术提供一种双层掩膜版及其使用方法、改善双层掩膜版的漏光方法，用于紫外光垂直配向技术，双层掩膜版包括第一掩膜版和第二掩膜版；所述第一掩膜版包括遮光区域以及相对设置的第一漏光图案区域和第二漏光图案区域；所述第二掩膜版设有两个且不透光，其中一个第二掩膜版位于第一漏光图案区域左侧且可以遮住第一漏光图案区域的左侧部分，另一个第二掩膜版位于第二漏光图案区域右侧且可以遮住第二漏光图案区域的右侧部分。本发明专利技术采用双层掩膜版，使得具有调节曝光量的功能，通过调整紫外光垂直配向技术的掩膜版的开口率大小，达到紫外光曝光积光量一致，改善曝光色差问题；也可以应对各种不同的需求，不需额外采购掩膜版，有利于减少成本。

【技术实现步骤摘要】
双层掩膜版及其使用方法、改善双层掩膜版的漏光方法
本专利技术涉及曝光的
，尤其涉及一种双层掩膜版及其使用方法、改善双层掩膜版的漏光方法。
技术介绍
TFT-LCD(Thinfilmtransistorliquidcrystaldisplay，薄膜晶体管液晶显示器)的显示模式主要有三种：TN(TwistedNematic扭曲向列型)、VA(VerticalAlignment多象限垂直配向型)和IPS(In-Plane-Switching平面转换型)。其中，TN显示模式是最基础、最普遍的一种显示模式，其制造简单、透过率高、成本低，广泛应用于26寸以下的显示器、笔记本电脑、手机等中小尺寸液晶产品中，其成盒制程主要为配向膜印刷(PI)、摩擦配向(Rubbing)和滴下贴合等工程。IPS显示模式则以其优秀的视野角特性、动态清晰度、色彩还原效果，成为TFT-LCD的理想显示技术，其(包括其孪生FFS)成盒制程与TN相同。VA显示模式是一种垂直配向的常黑模式，以其宽视野角、高对比度和无须摩擦配向等优势，已成为大尺寸TV用TFT-LCD的主流显示模式。VA显示技术包括聚合物稳定垂直配向技术(PolymerStabilizationVerticalAlignment,PSVA)和紫外光垂直配向技术技术(UVVerticalAlignment,UV2A)。紫外光垂直配向技术是一种利用紫外光使得液晶分子精确配向的技术，其原理是利用高精度实时追踪补偿模式的紫外光使得光敏聚合物单体材料发生光化学反应产生各向异性。高精度保证来源于Mask(掩膜版)的使用，即实现广视角，也达到产品曝光精度需求。紫外光垂直配向技术是利用掩膜版达到多畴曝光效果，掩膜版既保证产品的曝光精度，也保证配向膜曝光所需的紫外积光量的作用。如图1所示，例如24张掩膜版100同时对大基板进行曝光，曝光完成后，一张大基板切割形成几个55寸面板。每张掩膜版分两个部分：第一部分为曝光交叠区L2，即上侧的掩膜版和下侧的掩膜版存在交叠的位置；第二部分为曝光直线部(即非交叠区)L1。每张掩膜版在设备中都对应一组独立灯源，以保证光源照度均一性。紫外光垂直配向的每一张掩膜版都对应一个独立灯源，灯源与灯源之前存在照度差异。当照度出现偏差时将对灯源输出比率进行调整(实际电力输出)，或者灯源位置高度调整，但无法调整到一致，目前照度管控方式为中心值±5％，也就是存在5％的误差。当相邻2组灯源对应的照度处于监控规格上限及下限时，照度差异放大形成色差，紫外光垂直配向技术的曝光色差存在两种形态：图2所示为相邻掩膜版之间具有色差的示意图，假如一块大基板1上需要采用6块掩膜版100进行曝光，相邻掩膜版100之间具有色差区域；图3所示为曝光交叠区具有色差的示意图，上侧的掩膜版100和下侧的掩膜版100在曝光交叠区L2具有色差区域。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供改善曝光色差和应对各种不同需求的一种双层掩膜版及其使用方法、改善双层掩膜版的漏光方法。本专利技术提供一种双层掩膜版，用于紫外光垂直配向技术，其包括具有漏光图案的第一掩膜版和位于所述第一掩膜版上且可移动的第二掩膜版；所述第一掩膜版包括遮光区域以及相对设置的第一漏光图案区域和第二漏光图案区域；所述第二掩膜版设有两个且不透光，其中一个第二掩膜版位于第一漏光图案区域左侧且可以遮住第一漏光图案区域的左侧部分，另一个第二掩膜版位于第二漏光图案区域右侧且可以遮住第二漏光图案区域的右侧部分。进一步地，第一漏光图案区域和第二漏光图案区域均包括非交叠区以及位于非交叠区至少一侧曝光交叠区；所述第二掩膜版可以遮住部分所述非交叠区。进一步地，第一漏光图案区域和第二漏光图案区域均包括非交叠区以及位于非交叠区至少一侧曝光交叠区；所述第二掩膜版可以遮住部分所述曝光交叠区。进一步地，第一漏光图案区域和第二漏光图案区域均包括非交叠区以及位于非交叠区至少一侧曝光交叠区；所述第二掩膜版可以遮住部分所述非交叠区和部分所述曝光交叠区。进一步地，还包括固定装置，所述固定装置包括框架以及与两个第二掩膜版连接的线性导轨以及与线性导轨连接的马达装置；所述第一掩膜版固定在框架的下方，线性导轨固定在框架内，两个第二掩膜版位于第一掩膜版的上方且通过线性导轨固定在框架内。进一步地，还包括监控控制装置，监控控制装置包括与马达装置连接的紫外光配向监控设备以及与紫外光配向监控设备连接的曝光精度追随装置。本专利技术还提供一种改善双层掩膜版的漏光方法，其特征在于，包括如下步骤：S1：根据照射在双层掩膜版上的紫外光的紫外光照度、紫外光的照度差异、紫外曝光积光量和带动被曝光基板的移动速度计算出第一掩膜版的所需的最大的漏光开口宽度，根据所述最大的漏光开口宽度设计第一掩膜版；S2：马达装置驱动线性导轨移动并带动第二掩膜版移动，调节第一掩膜版的漏光开口率；S3：紫外光配向监控设备通过控制软件与马达装置和紫外光照度监控装置连接，依据紫外曝光积光量的计算公式计算出第一掩膜版的漏光开口宽度，马达装置依据控制软件计算出移动第二掩膜版的位置；S4：曝光精度追随装置追踪第二掩膜版和第一掩膜版之间的对位位置；S5：依据每张双层掩膜版对应的紫外光照度的差异进行第二掩膜版的位置调整，使每张第二掩膜版漏光区域的紫外光照度达到设定值。进一步地，步骤S1的第一掩膜版的所需的最大的漏光开口宽度的计算公式为：漏光宽度＝紫外曝光积光量*被曝光基板的移动速度/紫外光照度。进一步地，步骤S3中紫外曝光积光量的计算公式为：紫外曝光积光量＝紫外光照度*第一掩膜版的漏光开口/被曝光基板的移动速度。本专利技术还提供一种双层掩膜版的使用方法，包括如下步骤：S1：第一掩膜版的第一漏光图案区域和第二漏光图案区域的非交叠区的宽度和/或交叠区的宽度增加；S2：双层掩膜版固定在框架内，马达装置驱动线性导轨移动并带动第二掩膜版移动，调节第一掩膜版的漏光开口率；S3：紫外光配向监控设备通过控制软件与马达装置连接和紫外光照度监控装置连接，依据紫外曝光积光量的计算公式计算出第一掩膜版的开口宽度，马达装置依据控制软件计算值移动第二掩膜版的位置；S4：紫外光配向监控设备时时追踪曝光精度追随装置，核对第二掩膜和第一掩膜版的对位精度，监控第二掩膜版是否移动准确；S5：核对第二掩膜版的位置后，进行配向曝光，使得相邻掩膜版之间达到曝光量一致。本专利技术采用双层掩膜版，使得具有调节曝光量的功能，通过调整紫外光垂直配向技术的掩膜版的开口率大小，达到紫外光曝光积光量一致，改善曝光色差问题；也可以应对各种不同的需求，不需额外采购掩膜版，有利于减少成本。附图说明图1为现有技术采用24块掩膜版拼接后对一个基板进行曝光的示意图；图2所示现有相邻掩膜版之间具有色差的示意图；图3所示现有掩膜版的曝光交叠区的色差的示意图；图4为本专利技术双层掩膜版的结构示意图；图5为图4所示双层掩膜版的第一掩膜版的结构示意图；本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种双层掩膜版，用于紫外光垂直配向技术，其特征在于，其包括具有漏光图案的第一掩膜版和位于所述第一掩膜版上且可移动的第二掩膜版；所述第一掩膜版包括遮光区域以及相对设置的第一漏光图案区域和第二漏光图案区域；所述第二掩膜版设有两个且不透光，其中一个第二掩膜版位于第一漏光图案区域左侧且可以遮住第一漏光图案区域的左侧部分，另一个第二掩膜版位于第二漏光图案区域右侧且可以遮住第二漏光图案区域的右侧部分。/n

【技术特征摘要】
1.一种双层掩膜版，用于紫外光垂直配向技术，其特征在于，其包括具有漏光图案的第一掩膜版和位于所述第一掩膜版上且可移动的第二掩膜版；所述第一掩膜版包括遮光区域以及相对设置的第一漏光图案区域和第二漏光图案区域；所述第二掩膜版设有两个且不透光，其中一个第二掩膜版位于第一漏光图案区域左侧且可以遮住第一漏光图案区域的左侧部分，另一个第二掩膜版位于第二漏光图案区域右侧且可以遮住第二漏光图案区域的右侧部分。


2.根据权利要求1所述的双层掩膜版，其特征在于：第一漏光图案区域和第二漏光图案区域均包括非交叠区以及位于非交叠区至少一侧曝光交叠区；所述第二掩膜版可以遮住部分所述非交叠区。


3.根据权利要求1所述的双层掩膜版，其特征在于：第一漏光图案区域和第二漏光图案区域均包括非交叠区以及位于非交叠区至少一侧曝光交叠区；所述第二掩膜版可以遮住部分所述曝光交叠区。


4.根据权利要求1所述的双层掩膜版，其特征在于：第一漏光图案区域和第二漏光图案区域均包括非交叠区以及位于非交叠区至少一侧曝光交叠区；所述第二掩膜版可以遮住部分所述非交叠区和部分所述曝光交叠区。


5.根据权利要求1-4任一所述的双层掩膜版，其特征在于：还包括固定装置，所述固定装置包括框架以及与两个第二掩膜版连接的线性导轨以及与线性导轨连接的马达装置；所述第一掩膜版固定在框架的下方，线性导轨固定在框架内，两个第二掩膜版位于第一掩膜版的上方且通过线性导轨固定在框架内。


6.根据权利要求5所述的双层掩膜版，其特征在于：还包括监控控制装置，监控控制装置包括与马达装置连接的紫外光配向监控设备以及与紫外光配向监控设备连接的曝光精度追随装置。


7.一种改善权利要求6所述的双层掩膜版的漏光方法，其特征在于，包括如下步骤：
S1：根据照射在双层掩膜版上的紫外光照度、紫外光的照度差异、紫外曝光积光量和被曝光基板...

【专利技术属性】
技术研发人员：周皇，刘志诚，马国永，胡硕，邵军亮，郭理超，
申请(专利权)人：南京中电熊猫平板显示科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32