一种冷却站制造技术

本实用新型专利技术提供了一种冷却站，包括：冷却腔体；用于放置待冷却物的支架，所述支架设置于所述冷却腔体内；以及用于侦测所述待冷却物是否在预设位置范围内的侦测元件，所述侦测元件设置于所述冷却腔体内。本实用新型专利技术通过在冷却腔体内设置侦测元件，其用于侦测待冷却物是否在预设位置范围内，以减少晶圆位置偏移造成晶圆破损，并降低机台宕机率，提高晶圆生产效率。

A Cooling Station

The utility model provides a cooling station, which comprises a cooling chamber body, a bracket for placing a cooling object in the cooling chamber body, and a detection element for detecting whether the cooling object is within the preset position range, and the detection element is arranged in the cooling chamber body. The utility model detects whether the cooling object is in the preset position range by installing a detection element in the cooling chamber, so as to reduce the wafer damage caused by the wafer position offset, reduce the probability of machine stand down and improve the wafer production efficiency.

【技术实现步骤摘要】
一种冷却站
本技术涉及集成电路制造领域，特别是涉及一种冷却站。
技术介绍
随着科技的快速发展，高科技电子产品使用于日常生活已是相当普遍，例如手机、主板、数字相机等电子产品，该类电子产品内部皆装设并布满许多半导体器件，而半导体器件的材料来源就是晶圆，为了能够满足各式高科技电子产品的大量需求，故晶圆代工产业皆以如何更加快速且精确制造出晶圆为目标，不断地进行研发与改良突破。在晶圆的加工过程中，晶圆从工作腔体中出来时温度一般在80℃至170℃之间，需要经过冷却站将温度冷却至一定范围(例如是≤50℃)才可以进行后续操作。而当冷却站整体发生倾斜未被及时纠正，以及，晶圆通过传送手臂放入冷却站或自冷区站取出时位置发生偏移，都会造成晶圆之间相互发生摩擦、碰撞或与冷却站的腔体内壁发生碰撞，从而造成晶圆破损，严重时甚至引起机台宕机，影响晶圆生产效率。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种冷却站，以减少因晶圆位置偏移造成晶圆破损，并降低机台宕机率，提高晶圆生产效率。为了解决上述问题，本技术提出了一种冷却站，包括：冷却腔体；用于放置待冷却物的支架，所述支架设置于所述冷却腔体内；以及用于侦测所述待冷却物是否在预设位置范围内的侦测元件，所述侦测元件设置于所述冷却腔体内。可选的，所述冷却腔体包括：相对设置的上内壁和下内壁；以及连接所述上内壁和下内壁多个侧内壁。可选的，所述支架包括：多个凸起部分，所述多个凸起部分分别设置于所述冷却腔体的多个侧内壁上，所述多个凸起部分共同构成一承载面，所述承载面用于放置所述待冷却物。可选的，所述侦测元件包括：多对光电传感器，每对光电传感器分别设置在所述冷却腔体的上内壁和下内壁，每对光电传感器的连线均垂直于所述承载面，待冷却物超出预设位置范围时至少一对光电传感器的信号被阻断。可选的，所述待冷却物为晶圆，每三个凸起部分共同构成一承载面。可选的，所述侦测元件包括至少为3对光电传感器。可选的，所述冷却腔体为长方体结构。可选的，所述冷却腔体设置有用于待冷却物出入的开口。可选的，还包括：用于显示所述侦测元件状态的显示元件，所述显示元件设置于所述冷却腔体上。可选的，所述冷却腔体的材质为不锈钢。由于采用了以上技术方案，本技术具有以下有益效果：本技术提供的一种冷却站，通过在冷却腔体内设置侦测元件，其用于侦测待冷却物(例如是晶圆)是否在预设位置范围内，以减少晶圆位置偏移造成晶圆破损，并降低机台宕机率，提高晶圆生产效率。附图说明图1为本技术一实施例提供的冷却站的示意图；图2为本技术一实施例的光电传感器的位置示意图。附图标记说明：100-冷却腔体；101-上内壁；102-下内壁；104-后侧内壁；105-左侧内壁；106-右侧内壁；200-侦测元件；210-光电传感器；300-支架；310-凸起部分；400-待冷却物；500-显示元件。具体实施方式下面将结合示意图对本技术的一种冷却站进行更详细的描述，其中表示了本技术的优选实施例，应该理解本领域技术人员可以修改在此描述的本技术，而仍然实现本技术的有利效果。因此，下列描述应当被理解为对于本领域技术人员的广泛知道，而并不作为对本技术的限制。为了清楚，不描述实际实施例的全部特征。在下列描述中，不详细描述公知的功能和结构，因为它们会使本技术由于不必要的细节而混乱。应当认为在任何实际实施例的开发中，必须做出大量实施细节以实现开发者的特定目标，例如按照有关系统或有关商业的限制，由一个实施例改变为另一个实施例。另外，应当认为这种开发工作可能是复杂和耗费时间的，但是对于本领域技术人员来说仅仅是常规工作。在下列段落中参照附图以举例方式更具体地描述本技术。根据下面说明，本技术的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本技术实施例的目的。以下列举冷却站的较优实施例，以清楚说明本技术的内容，应当明确的是，本技术的内容并不限制于以下实施例，其他通过本领域普通技术人员的常规技术手段的改进亦在本技术的思想范围之内。本技术的核心思想在于，通过在冷却腔体内设置侦测元件，其用于侦测待冷却物(例如是晶圆)是否在预设位置范围内，以减少因晶圆位置偏移造成晶圆破损，并降低机台宕机率，提高晶圆生产效率。图1为本实施例提供的冷却站的示意图，如图1所示，该冷却站至少包括：冷却腔体100；用于放置待冷却物的支架300；用于侦测所述待冷却物是否在预设位置范围内的侦测元件200。所述冷却腔体100包括：相对设置的上内壁101和下内壁102；以及连接所述上内壁101和下内壁102的多个侧内壁，例如是后侧内壁104、左侧内壁105以及右侧内壁106。所述冷却腔体100设置有用于待冷却物出入的开口。在本实施例中，所述冷却腔体100例如是长方体结构，所述开口设置在所述冷却腔体100的一侧壁上，例如是设置在所述冷却腔体100的前侧壁上。所述冷却腔体100的材质例如是不锈钢。所述支架的数量可以为多个，以使得一个冷却站可以同时冷却多个待冷却物，相邻的两个所述支架之间的距离较佳的为7mm～8mm。在其他实施例中，所述支架也可以通过其他结构来支撑待冷却物，例如框体结构。所述支架300设置于所述冷却腔体100内，所述支架300包括：多个凸起部分310，所述多个凸起部分310分别设置于所述冷却腔体100的多个侧内壁上例如是后侧内壁104、左侧内壁105以及右侧内壁106，所述多个凸起部分310共同构成一承载面，所述承载面用于放置所述待冷却物，每三个凸起部分310共同构成一承载面。在本实施例中，所述待冷却物例如是待冷却的晶圆，所述多个凸起部分310例如是三个凸起部分310，且该三个凸起部分310共同构成一承载面。图2为本实施例的光电传感器的位置示意图。如图2所示，同时请参阅图1，所述侦测元件200设置于所述冷却腔体100内，所述侦测元件200包括：多对光电传感器210，每对光电传感器210分别设置在所述冷却腔体100的上内壁101和下内壁102，每对光电传感器210的连线均垂直于所述承载面，待冷却物400超出预设位置范围时至少一对光电传感器210的信号被阻断。由上可知，通过在所述冷却腔体100中增加设置所述多对光电传感器210，可以侦测待冷却物400例如是晶圆在冷却站放置时或拿取时的位置是否在预设位置范围内，以减少晶圆位置偏移造成晶圆破损，并降低机台宕机率，提高晶圆生产效率。在本实施例中，所述侦测元件200包括3对光电传感器210，其分别设置在所述冷却腔体相对设置的上内壁101、下内壁102上，例如是嵌设在所述冷却腔体100的上内壁101、下内壁102上，且每对所述光电传感器210沿所述冷却腔体100高度方向正对设置。每对所述光电传感器210的其中一个光电传感器210例如是发出信号，另一个光电传感器210例如是接收信号。每对所述光电传感器210位于所述待冷却物的预设位置外，且距离该预设位置例如是0～1cm的地方，所述多对光电传感器210分散设置在距离该预设位置外的例如是0～1cm的环上。当所述待冷却物例如是晶圆时，所述环为圆环。较佳地，相邻两对所述光电传感器210所在位置分别到所述待冷却物的预设位置本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种冷却站，其特征在于，包括：冷却腔体；用于放置待冷却物的支架，所述支架设置于所述冷却腔体内；以及用于侦测所述待冷却物是否在预设位置范围内的侦测元件，所述侦测元件设置于所述冷却腔体内。

【技术特征摘要】
1.一种冷却站，其特征在于，包括：冷却腔体；用于放置待冷却物的支架，所述支架设置于所述冷却腔体内；以及用于侦测所述待冷却物是否在预设位置范围内的侦测元件，所述侦测元件设置于所述冷却腔体内。2.如权利要求1所述的冷却站，其特征在于，所述冷却腔体包括：相对设置的上内壁和下内壁；以及连接所述上内壁和下内壁的多个侧内壁。3.如权利要求2所述的冷却站，其特征在于，所述支架包括：多个凸起部分，所述多个凸起部分分别设置于所述冷却腔体的多个侧内壁上，所述多个凸起部分共同构成一承载面，所述承载面用于放置所述待冷却物。4.如权利要求3所述的冷却站，其特征在于，所述侦测元件包括：多对光电传感器，每对光电传感器分别设置在所述冷却腔体的上内壁和下内壁，每对...

【专利技术属性】
技术研发人员：薛荣华，阚保国，刘家桦，叶日铨，
申请(专利权)人：德淮半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32