药液泄漏防止装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术的目的在于提供一种药液泄漏防止装置，其预防药液从待机状态下的药液喷射喷嘴泄漏，从而可提高清洗工艺的经济性，防止工艺事故。用于实现所述目的的本实用新型专利技术的药液泄漏防止装置包括：药液喷射喷嘴，其向基板的表面喷射药液；药液供给部，其向所述药液喷射喷嘴供给所述药液；气体供给部，其用于将残留于所述药液喷射喷嘴内部的所述药液吹出来并排出至外部。

Drug leakage prevention device

The purpose of the utility model is to provide a leak prevention device for liquid medicine, which prevents liquid medicine from leaking from the liquid medicine jet nozzle in standby state, thereby improving the economy of cleaning process and preventing process accidents. The medicine leakage prevention device of the utility model for realizing the purposes includes: a medicine liquid jet nozzle, which sprays the medicine liquid to the surface of the substrate; a medicine liquid supply part, which supplies the medicine liquid to the medicine liquid jet nozzle; and a gas supply part, which is used to blow out and discharge the medicine liquid remaining in the medicine liquid jet nozzle to the outside.

【技术实现步骤摘要】
药液泄漏防止装置
本技术涉及一种药液泄漏防止装置，更加详细地，涉及一种如下装置：在完成用于清洗基板的药液喷射工艺后，对残留于药液喷射喷嘴的药液进行去除，防止待机状态下的药液泄漏。
技术介绍
通常，在半导体制造工艺中，多次反复进行绝缘膜及金属物质的蒸镀(Deposition)、蚀刻(Etching)、光刻胶(Photoresist)的涂覆(Coating)、显影(Develop)、去胶(Asher)或者颗粒等杂质的去除等，从而制作出微细的图案的排列。随着所述工艺的进行，在半导体基板内会残留通过蚀刻或者杂质去除工艺没有完全去除的杂质。随着半导体装置的微型化的趋势，在收率和可靠性方面，去除如包括微粒子在内的金属杂质、有机污染物、自然氧化膜一样的杂质的重要性也正在增加。因为所述杂质是左右半导体装置的性能和收率的重要要素，所以在进行用于制造半导体装置的各个工艺之前应经过清洗工艺。如上所述，为了去除残留于基板表面的如包括微粒子在内的金属杂质、有机污染物、自然氧化膜一样的表面薄膜等的多种对象物而实施用于制造半导体装置的基板的清洗工艺。通常，半导体基板的湿式清洗装置分为批次式(batchtype)和单一式(singletype)，批次式是将多个基板浸渍于装满有化学溶液的清洗槽(Bath)内并处理的方式，单一式是使得一张基板水平配置并旋转的同时进行处理的方式。在所述单一式清洗装置中进行如下工艺：向高速旋转的基板的表面喷射清洗剂，用离心力清洗基板表面；用超纯水(DI)进行冲洗处理；在基板表面利用类似于液态的异丙醇(IPA:IsopropylAlcohol)的干燥液来使得基板干燥。所述单一式清洗装置包括药液喷射喷嘴，药液喷射喷嘴用于向基板的表面喷射清洗剂。图1是示出用于向基板喷射清洗剂的喷嘴及与其相连接的阀的构成的图。参照图1，包括：清洗剂供给部10，其用于供给清洗剂；喷嘴40，其用于向基板喷射所述清洗剂供给部10供给的清洗剂；清洗剂供给阀20，其用于对所述清洗剂的供给与否进行控制；吸入阀30，其用于在完成清洗工艺后对残留于喷嘴40内部的清洗剂进行吸入；连接管道50，其对所述清洗剂供给部10、清洗剂供给阀20、吸入阀(SuckBackValve)30及喷嘴40进行连接并提供清洗剂的流动路径。当进行清洗工艺时，清洗剂供给阀20被打开，从而向基板喷射清洗剂供给部10供给的清洗剂，进而实现清洗。若完成如上所述的清洗，则关闭清洗剂供给阀20并中断向基板喷射清洗剂。在此情况下，清洗剂积累在喷嘴40的下端部，之后，如此积累并残留在喷嘴40的内部及端部的清洗剂降落到腔室底面或降落到基板上，从而可能发生工艺事故。为了防止所述工艺事故而设置有吸入阀30。在关闭所述清洗剂供给阀20后，使得吸入阀30操作，并对残留于喷嘴40内部的清洗剂进行吸入，从而防止清洗剂的降落。所述吸入阀(SuckBackValve)30形成有用于收容被吸入至内部的清洗剂的空间，并且能够以规定的压力吸入。但是，在所述吸入阀30产生不良的情况下，清洗剂降落到基板或者腔室底面，从而存在使得污染及工艺事故发生的问题。此外，由于所述吸入阀30的内部结构复杂，因此存在产生故障的可能性大的问题。作为示出如上所述的现有基板处理装置的技术，公开了韩国登记专利第10-998849号。
技术实现思路
本技术是为了解决如上所述的所有问题而提出的，其目的在于提供一种药液泄漏防止装置，药液泄漏防止装置可防止药液从药液喷射喷嘴降落，从而预防工艺事故，并且避免药液的损失，进而提高经济性。用于实现如上所述的目的的本技术的药液泄漏防止装置包括：药液喷射喷嘴，其向基板的表面喷射药液；药液供给部，其向所述药液喷射喷嘴供给所述药液；喷管，其连接所述药液喷射喷嘴和所述药液供给部并成为药液的供给流路；气体供给部，其与所述喷管相连接并供给气体，气体用于将残留于所述药液喷射喷嘴内部的所述药液吹出来并排出至外部。所述药液泄漏防止装置还可包括：药液供给阀，其用于控制流入所述喷管的所述药液的供给；第一管，其连接所述喷管和所述气体供给部；第一阀，其设置于所述第一管，对从所述气体供给部流入所述喷管的所述气体的流路进行开闭。此外，所述药液泄漏防止装置还可包括：第二管，其从所述喷管的一侧分支出来；第二阀，其设置于所述喷管和所述第二管连接的部分，对通过所述第二管向外部排出的所述药液的流路进行开闭。所述气体供给部供给的所述气体可以是氮气(N2)。在所述第一管上可设置有压力计。此外，所述药液泄漏防止装置可包括药液感知部，药液感知部可对通过所述第二管降落的所述药液进行感知。所述药液感知部可构成为区域传感器，区域传感器位于所述第二管下侧，并且包括多个发光部和多个受光部。此外，所述药液感知部可以是泄漏感知传感器，泄漏感知传感器位于所述第二管上，若液体接触到两个电极之间，则使得电流流动，从而泄漏感知传感器感知所述药液的降落。此外，所述药液感知部可包括警报装置，若感知到通过所述第二管降落的所述药液，则警报装置响起警报。根据本技术的药液泄漏防止装置，通过第一管从气体供给部供给至药液喷射喷嘴的气体将药液喷射喷嘴内部的残存药液挤出并释放，从而可以预防因药液从药液喷射喷嘴泄漏而发生的工艺事故。此外，设置有压力计和第一阀，从而适当地对从气体供给部向药液喷射喷嘴供给的气体的量进行调节，并且可控制气体和药液的进出。此外，通过第二管和第二阀使得药液降落，从而去除残存于药液喷射喷嘴内部的药液，并且在药液感知部对降落的药液进行感知，从而可确认药液供给阀的泄漏与否并改正缺陷。附图说明图1是表示用于通过现有技术向基板喷射药液的药液喷射喷嘴及与其相连接的阀的构成的图。图2是表示基板处理装置的立体图。图3是概略地表示基板处理装置的内部结构的截面图。图4是表示在图3的基板处理装置中药液喷射喷嘴在待机区域正在待机的状态的平面图。图5是表示药液积累在药液喷射喷嘴内部的状态的图。图6是概略地表示根据本技术的一个实施例的与气体供给部相连接的药液泄漏防止装置的构成的截面图。图7是概略地表示根据本技术的一个实施例的包括气体供给部、第二管、感知杯的药液泄漏防止装置的截面图。图8是概略地表示根据本技术的一个实施例的包括气体供给部、第二管、泄漏感知传感器的药液泄漏防止装置的截面图。图9是表示本技术的基板处理方法的流程图。具体实施方式以下，参照附图，对针对本技术的优选实施例的构成及作用进行如下详细说明。参照图2至图5，对根据本技术的药液泄漏防止装置的构成进行说明。根据本技术的一个实施例的基板处理装置包括：腔室100，其收容基板W并用于执行清洗工艺；旋转夹头122，其可旋转地设置于所述腔室100内，支撑所述基板W；回收腔室110，其设置为与所述旋转夹头122隔开一定间隔并包围所述基板W，并且用于收集从所述基板W飞散出来的药液；药液泄漏防止装置，其用于防止药液从药液喷射喷嘴133泄漏。所述基板W可以是成为半导体基板的硅片。但是，本技术并非限于此，所述基板W可以是用作类似于LCD(液晶显示器，liquidcrystaldisplay)、PDP(等离子显示板，plasmadisplaypanel)的平板显示装置的玻璃等的透明基板。此外，所述基板本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种药液泄漏防止装置，其特征在于，包括：药液喷射喷嘴，其向基板的表面喷射药液；药液供给部，其向所述药液喷射喷嘴供给所述药液；喷管，其连接所述药液喷射喷嘴和所述药液供给部并成为药液的供给流路；气体供给部，其与所述喷管相连接并供给气体，气体用于将残留于所述药液喷射喷嘴内部的所述药液吹出来并排出至外部。

【技术特征摘要】
2017.05.11 KR 10-2017-00587501.一种药液泄漏防止装置，其特征在于，包括：药液喷射喷嘴，其向基板的表面喷射药液；药液供给部，其向所述药液喷射喷嘴供给所述药液；喷管，其连接所述药液喷射喷嘴和所述药液供给部并成为药液的供给流路；气体供给部，其与所述喷管相连接并供给气体，气体用于将残留于所述药液喷射喷嘴内部的所述药液吹出来并排出至外部。2.根据权利要求1所述的药液泄漏防止装置，其特征在于，还包括：药液供给阀，其用于控制流入所述喷管的所述药液的供给；第一管，其连接所述喷管和所述气体供给部；第一阀，其设置于所述第一管，对从所述气体供给部流入所述喷管的所述气体的流路进行开闭。3.根据权利要求2所述的药液泄漏防止装置，其特征在于，还包括：第二管，其从所述喷管的一侧分支出来；第二阀，其设置于所述喷管和所述第二管相连接的部分，对通过所述第二管向外部排出的...

【专利技术属性】
技术研发人员：李载鸿，郑基正，李在元，金炯剟，李俊弧，
申请(专利权)人：凯斯科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：韩国,KR