感光性组合物、图案形成方法、固化物及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供：感光性组合物，其透光性和对于曝光的敏感度良好，通过曝光能形成经充分固化的固化物，在隔着半色调掩模进行曝光时，在形成的图案中，能在全色调曝光部与半色调曝光部之间形成充分的高度差，并且能确保半色调曝光部的充分的高度；使用该感光性组合物的图案形成方法；该感光性组合物的固化物；含有前述的感光性组合物的感光性粘接剂；以及，使用前述的感光性组合物的被粘接物的粘接方法。本发明专利技术组合使用2种以上在吸收光谱中在320nm以上且低于400nm的波长区域中具有峰、并且该峰的最大波长各不相同的肟酯化合物作为光聚合引发剂(A)，不使用在400nm以上的波长区域中的任意波长处显示10以上的克吸光系数的化合物。

【技术实现步骤摘要】
感光性组合物、图案形成方法、固化物及显示装置
本专利技术涉及感光性组合物、使用该感光性组合物的图案形成方法、使用该感光性组合物形成的固化物、以及具备该固化物的显示装置。
技术介绍
对于液晶显示装置这样的显示装置用的面板而言，绝缘膜、间隔物(spacer)这样的材料需要使从背光源这样的光源发出的光高效地透过。因此，为了形成绝缘膜、间隔物的图案，使用了通过曝光而提供透明的固化膜的感光性组合物。通过对这样的感光性组合物进行选择性曝光，从而能形成透明的固化膜的图案。另外，显示装置用的面板中，也常常形成黑色矩阵、黑色柱状间隔物(blackcolumnspacer)等已图案化的遮光性膜。在这样的用途中，也提出了各种可用于形成遮光性膜的、包含遮光剂和光聚合引发剂的感光性组合物。对于用于形成遮光性膜的感光性组合物而言，由于包含遮光剂，因而要求光聚合引发剂的敏感度更高。例如，作为包含敏感度优异的光聚合引发剂的感光性组合物，提出了含有包含9位被取代的芴环作为主骨架的肟酯化合物作为光聚合引发剂的感光性组合物(参见专利文献1。)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2016-218353号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题另外，在制造图像显示装置用的面板等时，有时在与使用感光性组合物形成的已图案化的固化膜相邻的层上配置TFT等元件。这种情况下，也常常隔着半色调掩模(halftonemask)进行曝光，并在考虑了元件的高度的基础上形成高度不同的图案。然而，对于专利文献1中记载的感光性组合物而言，虽然敏感度优异，但另一方面，存在不一定容易实现下述目的的问题：在隔着半色调掩模进行曝光时，在形成的图案中，在全色调曝光部与半色调曝光部之间充分形成高度差，并且确保半色调曝光部的充分的高度。本专利技术是鉴于上述的课题而作出的，目的在于提供：感光性组合物，所述感光性组合物的透光性和对于曝光的敏感度良好，通过曝光能形成经充分固化的固化物，在隔着半色调掩模进行曝光时，在形成的图案中，能在全色调曝光部与半色调曝光部之间形成充分的高度差，并且能确保半色调曝光部的充分的高度；使用该感光性组合物的图案形成方法；该感光性组合物的固化物；含有前述的感光性组合物的感光性粘接剂；以及，使用前述的感光性组合物的被粘接物的粘接方法。用于解决课题的手段本申请的专利技术人发现，通过在包含光聚合引发剂(A)的感光性组合物中，组合使用2种以上在吸收光谱中在320nm以上且低于400nm的波长区域中具有峰、并且该峰的最大波长各不相同的肟酯化合物作为光聚合引发剂(A)，使光聚合引发剂(A)中不含有在400nm以上的波长区域中的任意波长处显示10以上的克吸光系数的化合物，能解决上述的课题，从而完成了本专利技术。本专利技术的第1方式是一种感光性组合物，其是包含光聚合引发剂(A)的感光性组合物，光聚合引发剂(A)包含2种以上在吸收光谱中在320nm以上且低于400nm的波长区域中具有峰的肟酯化合物，光聚合引发剂(A)不包含在400nm以上的波长区域中的任意波长处显示10以上的克吸光系数的化合物，2种以上肟酯化合物的峰的最大波长各不相同。本专利技术的第2方式是一种固化物形成方法，其包括下述步骤：使用第1方式涉及的感光性组合物形成涂膜，以及对涂膜进行曝光。本专利技术的第3方式是第1方式涉及的感光性组合物的固化物。本专利技术的第4方式是一种感光性粘接剂，其含有第1方式涉及的感光性组合物。本专利技术的第5方式是一种将被粘接面粘接的方法，所述方法包括下述步骤：在相对的被粘接面中的一个面或两个面上形成由第4方式涉及的感光性粘接剂形成的粘接剂层，以及通过曝光使粘接剂层固化。专利技术的效果通过本专利技术，可提供：感光性组合物，所述感光性组合物的透光性和对于曝光的敏感度良好，通过曝光能形成经充分固化的固化物，在隔着半色调掩模进行曝光时，在形成的图案中，能在全色调曝光部与半色调曝光部之间形成充分的高度差，并且能确保半色调曝光部的充分的高度；使用该感光性组合物的图案形成方法；该感光性组合物的固化物；含有前述的感光性组合物的感光性粘接剂；以及，使用前述的感光性组合物的被粘接物的粘接方法。具体实施方式《感光性组合物》本专利技术涉及的感光性组合物包含光聚合引发剂(A)。光聚合引发剂(A)包含2种以上在吸收光谱中在320nm以上且低于400nm的波长区域中具有峰的肟酯化合物。其中，关于2种以上肟酯化合物，峰的最大波长各不相同。因此，在对上述的感光性组合物进行曝光时，容易充分利用曝光光，感光性组合物的敏感度优异。将2种以上肟酯化合物的上述的峰的最大波长中的、处于最长波长侧的最大波长记为λmax-r，将处于最短波长侧的最大波长记为λmax-b时，λmax-r与λmax-b之差优选为20nm以上。对于上限而言，例如为70nm以下，优选为50nm以下。另外，λmax-r优选在350nm以上且400nm以下的范围内，λmax-b优选在320nm以上且360nm以下的范围内。这种情况下，即使在用于感光性组合物的曝光的曝光光的波长区域宽时，也容易将曝光光的能量高效地用于固化，无论光源是哪种，均容易实现良好的敏感度。另外，光聚合引发剂(A)不包含在400nm以上的波长区域中的任意波长处显示10以上的克吸光系数的化合物。光聚合引发剂优选不包含在400nm以上的波长区域中的任意波长处显示5以上的克吸光系数的化合物，更优选不包含显示1以上的克吸光系数的化合物。光聚合引发剂(A)包含在400nm以上的波长区域中的任意波长处显示10以上的克吸光系数的化合物时，存在感光性组合物的透光性低的倾向。因此，有时作为感光性组合物的敏感度下降，或者，难以通过半色调曝光形成具有所期望的高度的图案。然而，对于上述的感光性组合物而言，由于不包含在400nm以上的波长区域中的任意波长处显示10以上的克吸光系数的化合物作为光聚合引发剂(A)，因而透光性优异。结果，容易充分利用曝光光，容易通过半色调曝光形成具有所期望的高度的图案。另外，在使用感光性组合物作为感光性粘接剂时，常常较厚地涂布感光性粘接剂。然而，对于含有包含光聚合引发剂(A)的感光性组合物的感光性粘接剂而言，如上所述，透光性优异，因而即使涂布得较厚，感光性粘接剂也良好地固化。另外，使用上述的感光性组合物，通过半色调曝光形成图案时，容易在形成的图案中于全色调曝光部与半色调曝光部之间充分形成高度差。如上所述，光聚合引发剂(A)组合地包含2种以上光聚合引发剂。其中，如上文所述，光聚合引发剂(A)必须包含2种以上肟酯化合物。光聚合引发剂(A)中包含的各光聚合引发剂的含量在不妨碍本专利技术的目的的范围内没有特别限制。相对于光聚合引发剂(A)的质量而言的各光聚合引发剂的含量的比率优选为1质量％以上，更优选为5质量％以上，进一步优选为10质量％以上，特别优选为20质量％以上。另外，相对于光聚合引发剂(A)的质量而言的各光聚合引发剂的含量的比率优选为99质量％以下，更优选为95质量％以下，进一步优选为90质量％以下，特别优选为80质量％以下。另外，相对于光聚合引发剂(A)的质量而言的具有λmax-r的肟酯化合物的含量的比率优选为1质量％以上且99质量％以下，更优选为5质量％以上且95质量％以下，进一步优选为10质量％以上且90质量％以下，特别优选为本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.感光性组合物，其是包含光聚合引发剂(A)的感光性组合物，其包含2种以上在吸收光谱中在320nm以上且低于400nm的波长区域中具有峰的肟酯化合物，所述光聚合引发剂(A)不包含在400nm以上的波长区域中的任意波长处显示10以上的克吸光系数的化合物，2种以上所述肟酯化合物的所述峰的最大波长各不相同。

【技术特征摘要】
2017.07.21 JP 2017-1422631.感光性组合物，其是包含光聚合引发剂(A)的感光性组合物，其包含2种以上在吸收光谱中在320nm以上且低于400nm的波长区域中具有峰的肟酯化合物，所述光聚合引发剂(A)不包含在400nm以上的波长区域中的任意波长处显示10以上的克吸光系数的化合物，2种以上所述肟酯化合物的所述峰的最大波长各不相同。2.如权利要求1所述的感光性组合物，其中，将2种以上所述肟酯化合物的所述峰的最大波长中的、处于最长波长侧的最大波长记为λmax-r，将处于最短波长侧的最大波长记为λmax-b时，所述λmax-r与所述λmax-b之差为20nm以上。3.如权利要求1或2所述的感光性组合物，其中，所述光聚合引发剂(A)包含由下述式(a1)表示且满足下述(1)～(3)中的至少1个条件的肟酯化合物(A1)、和由下述式(a2)表示的肟酯化合物(A2)，[化学式1]式(a1)中，R1为一价有机基团，R2为可以具有取代基的烃基、或可以具有取代基的杂环基，R3为一价有机基团，R4为一价有机基团，R5和R6各自独立地为可以具有取代基的苯环、或可以具有取代基的萘环，m1、m2、及m3各自为0或1；(1)R1包含-OR7表示的基团，R7为卤代烷基，(2)m2为1，R4包含-OR7表示的基团，R7为卤代烷基，(3)R3为可以具有取代基的支链状...

【专利技术属性】
技术研发人员：片野彰，引田二郎，盐田大，
申请(专利权)人：东京应化工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP