The invention discloses a photoresist composition and a color filter. The photoresist composition comprises a resin matrix of 4 to 10 parts by weight, a colorant of 5 to 8 parts by weight, a free radical polymeric monomer of more than 0 and less than or equal to 5 parts by weight, a free radical photoinitiator of greater than 0 and less than or equal to 0.2 parts by weight, and a cationic photoinitiator of greater than 0 and less than or equal to 0.002 parts by weight, wherein the maximum absorption wavelength of the cationic photoinitiator is in the medium. Solvents in the range of 280 to 400 nanometers and 70 to 80 parts by weight. The photoresist composition is not affected by active oxygen atoms, is beneficial to improving the adhesion between the photoresist composition and the substrate, and is suitable for color photoresist compositions with high color gamut or high color concentration.
【技术实现步骤摘要】
光刻胶组合物及彩色滤光片
本专利技术涉及液晶显示面板
,尤其涉及一种光刻胶组合物及彩色滤光片。
技术介绍
液晶显示器(liquidcrystaldisplay,LCD)是目前市场中应用最广泛的现实产品。例如,薄膜晶体管液晶显示器(thinfilmtransistorliquidcrystaldisplay,TFT-LCD)主要包括彩色滤光片(colorfilter,CF)基板、液晶、薄膜晶体管(ThinFilmTransistor,TFT)基板三个组成部分。CF基板上的红、绿、蓝(即RGB)三色像素点分别对应薄膜晶体管基板上的三个子像素,三个子像素合成一个像素。液晶显示器的色彩显示主要是依靠彩色滤光片基板上RGB三色像素点实现的。RGB三色像素点则是通过RGB三种不同体系的光刻胶成膜形成设计需求的图案结构,进而完成协助显示颜色。RGB负性光刻胶(photoresist)是在光刻胶混合物中加入光引发剂、分散树脂、颜料/染料(着色剂)、反应性单体等,并通过紫外线(UV)光照下进行固化反应而形成图案。在RGB负性光刻胶的膜厚达到一定厚度时,在光固化反应过程中,底层与表层反应程度不一致,容易产生光刻胶剥落(peeling)等问题。上述光刻胶剥落的问题,可通过提升光刻胶材料与基板之间的附着力来克服。一般而言,可通过提高底层反应程度及硬化度来提高附着力。但是,在实际制程中,RGB涂布之前会进行超紫外光(EUV)或者深紫外光(DUV)的清洗过程。这个清洗过程中会产生一些活性氧原子,这些活性氧原子会对自由基聚合的引发剂产生影响,造成引发剂失去活性,而无法提高附着力。 ...
【技术保护点】
1.一种光刻胶组合物,其特征在于:所述光刻胶组合物包含:4至10重量份的树脂基体;5至8重量份的着色剂;大于0且小于或等于5重量份的自由基聚合单体;大于0且小于或等于0.2重量份的自由基光引发剂;大于0且小于或等于0.002重量份的阳离子光引发剂,其中所述阳离子光引发剂的最大吸收波长在介于280至400纳米之间;及70至80重量份的溶剂。
【技术特征摘要】
1.一种光刻胶组合物,其特征在于:所述光刻胶组合物包含:4至10重量份的树脂基体;5至8重量份的着色剂;大于0且小于或等于5重量份的自由基聚合单体;大于0且小于或等于0.2重量份的自由基光引发剂;大于0且小于或等于0.002重量份的阳离子光引发剂,其中所述阳离子光引发剂的最大吸收波长在介于280至400纳米之间;及70至80重量份的溶剂。2.如权利要求1所述的光刻胶组合物,其特征在于:所述阳离子光引发剂选自于二芳基碘鎓盐及其衍生物所组成的一族群。3.如权利要求2所述的光刻胶组合物,其特征在于:所述二芳基碘鎓盐的衍生物是由下列所组成的一族群所选出:其中:R1是CnH2n+1、OCnH2n+1、C(CH3)3或NO2,其中8<n<20;及X-是BF4-、PF6-、SbF6-或AsF6-。4.如权利要求1所述的光刻胶组合物,其特征在于:所述树脂基体中包含有丙烯酸树脂及其衍生物中的至少一种。5.如权利要求4所述的光刻胶组合物,其特征在于:所述丙烯酸树脂的衍生物包含环氧丙...
【专利技术属性】
技术研发人员:李颖,
申请(专利权)人:深圳市华星光电技术有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
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