一种用于磁控溅射机镀膜的控制板制造技术

技术编号:20204319 阅读:50 留言:0更新日期:2019-01-25 21:46
本实用新型专利技术提供一种用于磁控溅射机镀膜的控制板,包括基板和复数个三角形贴板;所述三角形贴板设置在所述基板的表面上,并与所述基板一体成型;所述三角形贴板具有倾斜面,所述倾斜面与所述基板的表面的夹角为θ,其中,0≤θ

A Control Board for Coating Magnetron Sputtering Machine

The utility model provides a control board for coating magnetron sputtering machine, including a base plate and a plurality of triangular patches; the triangular patches are arranged on the surface of the base plate and formed in one with the base plate; the triangular patches have an inclined surface, the inclined surface and the angle of the surface of the base plate is theta, where 0 < theta.

【技术实现步骤摘要】
一种用于磁控溅射机镀膜的控制板
本技术涉及零部件领域,尤其涉及一种用于磁控溅射机镀膜的控制板。
技术介绍
现有市面上的磁控溅射机溅射出来的粒子动能可达10~20eV,从而使得用磁控溅射机在基底材料例如玻璃或陶瓷上能形成致密的高质量的光学薄膜,且由于入射粒子部分动能转化成热能,使得基板的温度随镀膜时间的延长可接近或超过100℃。但在软化温度为130℃的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)塑料板上镀膜时却并不适合。为防止温度过高,磁控溅射机一般在较低功率下向PMMA塑料板溅射粒子,导致粒子覆盖PMMA的密度降低。此外,一般磁控溅射出来的粒子大多是垂直入射到基板上,粒子在基板平面并没有水平的迁移速率,故在低功率下,磁控溅射机在PMMA上镀的光学薄膜质量较差。对比发现,虽然蒸发镀膜机粒子入射能量低,但是非垂直角入射基底,故在基底上有水平迁移速率,从而能弥补基底表面的缺陷,能在PMMA上获得较高质量的光学薄膜。可惜的是蒸发镀膜机量产能力和稳定性不如磁控溅射机。未来的手机盖板、车载玻璃等都朝着质量更轻而光学性能与玻璃差不多的塑料板如PMMA方向发展。因此,生产出量产力高、稳定性好的磁控溅射机在,使其能在本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于磁控溅射机镀膜的控制板,其特征在于,包括基板和复数个三角形贴板;所述三角形贴板设置在所述基板的表面上,并与所述基板一体成型;所述三角形贴板具有倾斜面,所述倾斜面与所述基板的表面的夹角为θ,其中,0≤θ

【技术特征摘要】
1.一种用于磁控溅射机镀膜的控制板,其特征在于,包括基板和复数个三角形贴板;所述三角形贴板设置在所述基板的表面上,并与所述基板一体成型;所述三角形贴板具有倾斜面,所述倾斜面与所述基板的表面的夹角为θ,其中,0≤θ&lt;90°。2.根据权利要求1所述的一种用于磁控溅射机镀膜的控制板,其特征在于,所述三角形贴板为铝制得的三角形贴板。3....

【专利技术属性】
技术研发人员:尹凡华周伟杰
申请(专利权)人:信利光电股份有限公司
类型:新型
国别省市:广东,44

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