The utility model discloses a silicon wafer cleaning device with automatic feeding, including a main body, which is composed of an upper body and a lower body. The lower body is provided with a water storage box, and the rear outer wall of the lower body is equipped with a suction pipe in the upper area of the water storage box. The upper inner wall of the lower body and the corresponding position of the water storage box are provided with a first filter plate and a first filter plate. A rotating pin is installed below, and a sewage pipe is arranged on the right outer wall of the lower body. The device is equipped with a first electric push rod and a conveyor belt. The user only uses the time set up on the timer, and then the material is placed on the material placement board. The timer will directly control the number of push rods at a certain time so that the quantity of each cleaning is fixed. At the same time, the material will be placed on the material placement board. The conveyor belt is conveyed to the bearing plate, and then the material is pushed into the basket through the pushing drum. The operation is simple and convenient without manual operation. It can realize automatic feeding, and its practicability is strong.
【技术实现步骤摘要】
一种具有自动进料的硅片清洗设备
本技术属于清洗设备
,具体涉及一种具有自动进料的硅片清洗设备。
技术介绍
半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。会导致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。而清洗机常用的是物理清洗。在目前市场上常见的硅片清洗机普遍面临着当人们使用设备时,其设备进料大部分都是通过人工手动操作的,其操作繁琐复杂,且需要浪费大量的人力物力,其实用性不强;且大多数硅片的外壁残留有大量的杂物,若直接进行超声波清洗,其清洗后的杂质极易堵塞超声波清洗池,导致设备不能正常使用,其经济效益较低实用性不强;且大多数设备在使用时,超声波清洗池其清洗速度使一定的,若物料表面杂质较多极易造成杂质残留,使得使用者必须要花费大量精力再次清洗,其操作繁琐清洗效果差实用性不强;且大多数硅片的放置架只能放置一种类型的硅片,如较厚的硅片,若需要清洗较薄的硅片时,若直接清洗就会造成混料,使用者清洗后需要花费大量时间筛分,其操作繁琐实用性不强。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种具有自动进料的硅片清洗设备,以解决上述
技术介绍
中提出的当人们使用设备时,其设备进料大部分都是通过人工手动操作的,其操作繁琐复杂,且需要浪费大量的人力物力,其实用性不强;且大多数硅片的外壁残留有大量的杂物,若直接进行超声波清洗,其清洗后的杂质极易堵塞超声波清洗池,导致设备不能正常使用,其经济效益较低实用性不强;且大多数设备在使用时,超声波清洗池其清洗 ...
【技术保护点】
1.一种具有自动进料的硅片清洗设备,包括主体(1),其特征在于:所述主体(1)由上机体(2)和下机体(3)组成,所述下机体(3)内设置有储水盒(4),且下机体(3)的后方外壁在储水盒(4)的上方区域安装有抽水管(5),所述下机体(3)的上方内壁与储水盒(4)对应位置处设置有第一滤板(6),所述第一滤板(6)的下方安装有转动销,所述下机体(3)的右侧外壁设置有排污管(7),所述上机体(2)由左工作罩(9)和右工作罩(10)组成,所述左工作罩(9)的上方外壁设置有水箱(20),所述水箱(20)由进水口、输水管、抽水管和水泵组成,且水箱(20)的右侧安装有抽气泵(21),所述上机体(2)的左侧外壁设置有进料口(11),所述进料口(11)内安装有物料放置板(12),所述物料放置板(12)的左侧外壁安装有定时器(13),所述定时器(13)的右侧安装有第一电动推杆(14),所述第一电动推杆(14)的右侧安装有推板(15),所述上机体(2)的左侧外壁在进料口(11)的下方区域开设有电源接口,且上机体(2)的左侧外壁在进料口(11)的上方区域安装有控制开关,所述物料放置板(12)的下方安装有输送带(1 ...
【技术特征摘要】
1.一种具有自动进料的硅片清洗设备,包括主体(1),其特征在于:所述主体(1)由上机体(2)和下机体(3)组成,所述下机体(3)内设置有储水盒(4),且下机体(3)的后方外壁在储水盒(4)的上方区域安装有抽水管(5),所述下机体(3)的上方内壁与储水盒(4)对应位置处设置有第一滤板(6),所述第一滤板(6)的下方安装有转动销,所述下机体(3)的右侧外壁设置有排污管(7),所述上机体(2)由左工作罩(9)和右工作罩(10)组成,所述左工作罩(9)的上方外壁设置有水箱(20),所述水箱(20)由进水口、输水管、抽水管和水泵组成,且水箱(20)的右侧安装有抽气泵(21),所述上机体(2)的左侧外壁设置有进料口(11),所述进料口(11)内安装有物料放置板(12),所述物料放置板(12)的左侧外壁安装有定时器(13),所述定时器(13)的右侧安装有第一电动推杆(14),所述第一电动推杆(14)的右侧安装有推板(15),所述上机体(2)的左侧外壁在进料口(11)的下方区域开设有电源接口,且上机体(2)的左侧外壁在进料口(11)的上方区域安装有控制开关,所述物料放置板(12)的下方安装有输送带(16),所述上机体(2)的后方外壁与输送带(16)对应位置处安装有转动电机(22),所述输送带(16)的下方安装有限流板(18),且输送带(16)的右侧安装有承载板(17),所述承载板(17)的上方安装有推料转筒(19),所述上机体(2)的前方外壁与推料转筒(19)对应位置处安装有推料电机,所述右工作罩(10)的右侧外壁开设有取料口(26),所述右工作罩(10)的右侧外壁在取料口(26)的下方区域安装有取料安置板(27),且且右工作罩(10)的右侧外壁在取料口(26)的上方区域安装有丝杠转动电机(28),所述丝杠转动电机(28)的左侧安装有丝杠固定套(29),所述丝杠固定套(29)内安装有...
【专利技术属性】
技术研发人员:马胜南,
申请(专利权)人:南轩天津科技有限公司,
类型:新型
国别省市:天津,12
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。