纳米压印用复制模、其制造方法及纳米压印用复制模制造装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种纳米压印用复制模、其制造方法及纳米压印用复制模制造装置。本发明专利技术的纳米压印用复制模的特征在于，包括：基底，其由塑料膜形成；转印部，其形成于所述基底；以及导膜，其能够分离地形成于基底，且形成有中孔以使所述转印部能够露出，且形成所述转印部的外周面晕开并固化而形成的异物，所述转印部由树脂形成，且形成有凹凸状的图案。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】纳米压印用复制模、其制造方法及纳米压印用复制模制造装置
本专利技术涉及一种纳米压印用复制模、其制造方法及纳米压印用复制模制造装置。
技术介绍
纳米压印工艺作为一种替代露光(expose)和显影(develop)光刻胶(photoresist)来在基板(substrate)上部形成图案(pattern)的光刻工艺(photolithographyprocess)的技术，是一种将形成有图案的冲压模具转印(stamping)至基板上部的树脂来在基板上部形成图案的工艺。此时，使用于纳米压印工艺的冲压模具的图案通过转印至复制模的图案来而形成。通常，如图1所图示，冲压模具2通过贴附了形成有图案PT的复制模1的卷对卷(rolltoroll)装备的卷5时，复制模1的图案PT被转印至冲压模具2来在冲压模具2上形成图案PT，如图2所图示，图案PT通过依次被转印至复制模1、冲压模具2及基板3而形成。然而，以往的复制模1由镍(Ni)、铜(Cu)等金属材质形成，因而存在图案的精度低、制造工艺复杂、制造单价高的问题。上述作为
技术介绍
说明的事项仅用于增进对本专利技术的背景的理解，不能被理解为相当于已为本领域的一般的技术人员所知的现有技术。
技术实现思路
技术问题本专利技术的目的在于，提供一种由树脂形成，因而图案精度高、制造工艺简单、制造单价低的纳米压印用复制模、其制造方法及纳米压印用复制模制造装置。技术方案用于达成这种目的的本专利技术的纳米压印用复制模的特征在于，包括：基底，其由塑料膜形成；转印部，其形成于所述基底；以及导膜，其能够分离地形成于基底，且形成有中孔以使所述转印部能够露出，且形成所述转印部的外周面晕开并固化而形成的异物，所述转印部由树脂形成，且形成有凹凸状的图案。用于达成这种目的的本专利技术的纳米压印用复制模的特征在于，包括：基底，其由塑料膜形成；转印部，其形成于所述基底；以及导膜，其能够分离地形成于基底，且形成有中孔以使所述转印部能够露出，且形成所述转印部的外周面晕开并固化而形成的异物，所述转印部通过向形成于所述导膜的中孔填充树脂而形成。在所述基底的一面可以形成有具有弹性的垫层。用于达成这种目的的本专利技术的纳米压印用复制模制造装置包括：填充部，其通过在导膜的中孔中填充树脂来形成转印部，所述导膜能够分离地形成于基底，且形成有中孔以使形成于所述基底的所述转印部能够露出，且形成所述转印部的外周面晕开并固化而形成的异物；加压部，其在一侧贴附有母模，通过上下升降所述母模来将所述母模的图案转印至所述转印部；以及照射部，其向所述加压部方向照射光。用于达成这种目的的本专利技术的纳米压印用复制模制造方法包括：填充步骤，即向导膜的中孔中填充树脂来形成转印部，所述导膜能够分离地形成于基底，且形成有中孔以使形成于所述基底的所述转印部能够露出，且形成所述转印部的外周面晕开并固化而形成的异物；图案形成步骤，即将母模移动至所述转印部，并通过对所述母模加压来形成图案；固化步骤，即通过向所述转印部照射光来固化所述转印部；以及去除步骤，即去除所述导膜。专利技术的效果根据本专利技术，能够实现如下多种效果。第一，具有改善图案的精度的优点。第二，具有制造工艺简单的优点。第三，具有制造单价较低的优点。附图说明图1是卷对卷装备的构成图。图2是形成复制模、冲压模具、基板的图案的顺序图。图3是本专利技术的纳米压印用复制模的结构图。图4是对本专利技术的纳米压印用复制模的另一实施例的结构图。图5是对本专利技术的纳米压印用复制模的异物的去除的结构图。图6是示出对本专利技术的纳米压印用复制模的异物的去除的平面图的图。具体实施方式本专利技术的目的、特定优点及新特征将在下面结合附图所描述的详细说明和实施例中变得更容易理解。值得注意的是，在本说明书中对各图的构成要素标记参考编号时，就相同的构成要素而言，即使在不同的图中标示，也尽量使其具有相同的编号。此外，尽管第一、第二等术语可以用于说明多种构成要素，但所述构成要素不限于所述术语。所述术语仅用作区分一个构成要素与另一个构成要素的目的。此外，在说明本专利技术的过程中，当判断对相关公知技术的具体说明反而多余地使本专利技术的主旨不清楚时，省略其详细说明。如图3所示，本专利技术的纳米压印用复制模包括：基底10；以及转印部20：其形成于基底10。基底10发挥支撑转印部20的功能，可以由基板(substrate)、膜(film)等形成，而膜(film)中又尤其可以使用塑料膜，本专利技术人将作为塑料膜的一种的PET膜(Polyethylenephthalatefilm)用作基底10。转印部20由树脂(resin)形成，为了后续工艺，优选由通过紫外线(ultraviolet，UV)，电子束(electronbeam，EB)等光(light)固化的光固化树脂(lightcurableresin)形成。转印部20可以形成为圆形，通过由母模转印(stamping)，在转印部20上形成与形成于母模的图案(pattern)对应的图案。亦即，通过转印(stamping)形成于母模的一面的凹凸状的图案在转印部20上形成与上述母模的图案对应的凹凸状的图案，换言之，在复制模上形成与母模的图案相反的图案。例如，当形成于母模的凹状图案被转印至复制模时，在复制模的转印部20上形成与凹状图案相反的凸状图案；形成于复制模的转印部20上的凸状图案被转印至冲压模具，在冲压模具上形成凹状图案；形成于冲压模具的凹状图案被转印至基板，在基板上形成凸状图案。复制模的图案被转印至冲压模具，而冲压模具的图案被转印至基板，因而形成于复制模的图案与形成于基板的图案相同，而与形成于冲压模具的图案相反。一方面，母模可以是硅片(Siwafer)、石英(quartz)等。如此，复制模由树脂形成，而非由镍、铜等金属形成，因而具有改善图案精度的优点。此外，传统的复制模通过对镍、铜等金属实施电镀的方式制造，而本专利技术的复制模则通过转印形成，因而具有简化制造工艺、改善生产速度、降低制造单价的优点。如图4至图6所示，本专利技术的纳米压印用复制模包括：基底10、转印部20、导膜30、垫层40。将母模转印至复制模时，复制模的转印部20的外周面有可能会被晕开而形成异物P。亦即，与转印前的转印部20的外周面相比，转印后的转印部20的外周面被扩散而晕开，晕开部分固化后形成异物P。形成异物P的复制模被转印至冲压模具所存在的问题是，冲压模具的图案受损而发生缺陷。因此，为防止冲压模具的图案受损，防止形成或去除复制模的转印部20的异物P是极为重要的因素。为去除形成于转印部20的异物P，本专利技术引入了导膜30。亦即，通过使形成有与转印部20对应的中孔的导膜30位于基底10，防止转印部20的外周面上形成异物P。下面对导膜30进行详细说明。如图5和图6所示，导膜30形成有对应于转印部20的形状的中孔。当转印部20为圆形时，导膜30的中孔也同样形成为圆形以与之对应。因此，转印部20通过中孔向外部露出，当将母模转印至复制模时，异物P形成于导膜30上，而不是形成于转印部20的外周面。之后，去除导膜30即可轻松地一并去除形成于导膜30的异物P。如此，通过利用导膜30去除异物P，可以防止将复制模转印至冲压模具时转印部20上形成异物P，从而可以防止冲压模具图案受损，进而防止发生缺陷。一方面，为了将复制模转印至冲压本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种纳米压印用复制模，其特征在于，包括：基底，其由塑料膜形成；转印部，其形成于所述基底；以及导膜，其能够分离地形成于基底，且形成有中孔以使所述转印部能够露出，且形成所述转印部的外周面晕开并固化而形成的异物，所述转印部由树脂形成，且形成有凹凸状的图案。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.07.08 KR 10-2016-00866141.一种纳米压印用复制模，其特征在于，包括：基底，其由塑料膜形成；转印部，其形成于所述基底；以及导膜，其能够分离地形成于基底，且形成有中孔以使所述转印部能够露出，且形成所述转印部的外周面晕开并固化而形成的异物，所述转印部由树脂形成，且形成有凹凸状的图案。2.一种纳米压印用复制模，其特征在于，包括：基底，其由塑料膜形成；转印部，其形成于所述基底；以及导膜，其能够分离地形成于基底，且形成有中孔以使所述转印部能够露出，且形成所述转印部的外周面晕开并固化而形成的异物，所述转印部通过向形成于所述导膜的中孔填充树脂而形成。3.根据权利要求1或2所述的纳米压印用复制模，其特征在于，在所述基底的一面形成有具有弹性的垫层。4.一...

【专利技术属性】
技术研发人员：权相民，具滋鹏，丘璜燮，金铉济，郑熙锡，
申请(专利权)人：吉佳蓝科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR