【技术实现步骤摘要】
一种硅片清洗设备
本专利技术涉及半导体制造设备领域，特别涉及到一种硅片清洗设备。
技术介绍
半导体器件生产中硅片须经严格清洗，微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物，这些杂质严重影响少数载流子寿命和表面电导，引起漏电等各种缺陷。对硅片的清洗极其复杂，特别是对单片硅片的清洗，在不损坏硅片的情况下进行清洗，更不能引入新的污染，这需要精密的设备和仪器。现有技术中对单片硅片的清洗难度大，一般是人工清洗或操作，耗时耗力，效率低，无法满足生产要求。
技术实现思路
本专利技术的主要目的是提供一种硅片清洗设备，以解决现有技术中人工清洗操作耗时耗力、效率低的问题。为达到上述目的之一，本专利技术采用以下技术方案：一种硅片清洗设备，包括两运输装置，用于硅片的长距离的直线运输，两运输装置上下平行；一传送装置，用于硅片的短距离的直线和曲线运输，传送装置位于运输装置右侧；一清洗装置，用于对硅片进行全面清洗，清洗装置位于传送装置下侧；一干燥装置，用于去除清洗后的硅片上残留的清洗液，干燥装置位于传送装置右侧；运输装置包括；一固定杆，固定杆位于运输装置左端；一运输...
【技术保护点】
1.一种硅片清洗设备，包括两运输装置，两运输装置上下平行，所述运输装置包括；一固定杆，所述固定杆位于所述运输装置左端；一运输带，所述运输带左端与所述固定杆连接；一夹持器，所述夹持器与所述运输带连接，可随运输带左右移动；一转动电机，所述转动电机与所述运输带右端端连接；一传送装置，所述传送装置位于所述运输装置右侧；一清洗装置，所述清洗装置位于所述传送装置下侧；一干燥装置，所述干燥装置位于所述传送装置右侧。
【技术特征摘要】
1.一种硅片清洗设备，包括两运输装置，两运输装置上下平行，所述运输装置包括；一固定杆，所述固定杆位于所述运输装置左端；一运输带，所述运输带左端与所述固定杆连接；一夹持器，所述夹持器与所述运输带连接，可随运输带左右移动；一转动电机，所述转动电机与所述运输带右端端连接；一传送装置，所述传送装置位于所述运输装置右侧；一清洗装置，所述清洗装置位于所述传送装置下侧；一干燥装置，所述干燥装置位于所述传送装置右侧。2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗设备，其中，所述夹持器包括一夹持电机，所述夹持电机上端嵌入所述运输带内，下端设有螺纹杆；两夹持板，所述夹持板为T字形，呈上下平行分布，所述两夹持板上均设有螺纹孔；一挡板，所述挡板为U字形，两端与所述运输带连接，将所述两夹持板保护在内侧。3.根据权利要求2所述的一种硅片清洗设备，其中，所述夹持电机底部设有一挡块，所述挡块与所述挡板连接。4.根据权利要求1所述的一种硅片清洗设备，其中，所述传送装置包括三传送带，所述三传送带互相平行，并列传送，每条传送带上均设有四个机械手，每条传送带边缘均被金属稳定片包裹；三传送电机，所述传送电机位于所述传送带内，用于给所述传送带提供动力。5.根据权利要求4所述的一种硅片清洗设备，其中，传送电机一位于传送带一内，用于控制传送带二的运转；传送电机二和传送电机三位...
【专利技术属性】
技术研发人员：牟恒，
申请(专利权)人：江苏德尔科测控技术有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。