【技术实现步骤摘要】
用于磁控溅射生产线的环靶
本技术涉及一种用于磁控溅射生产线的环靶,主要应用于装饰薄膜靶材、建筑玻璃、汽车玻璃、磁数据存储等行业。
技术介绍
目前磁控溅射的磁钢排布如图1所示，中间竖直设置一个第三磁钢113，有多个第四磁钢114竖直环形设置在第三磁钢113的四周，第二靶材111放置在第三磁钢113和第四磁钢114上，参见图2，磁力线从第三磁钢113的N级到第四磁钢114的S级，再从第四磁钢114的N级回到第三磁钢113的S级，形成磁力线回路，在溅射过程中，第二靶材111在磁力线的作用下发生碰撞只在磁力线的切向分量上，切向分量较小，第二靶材利用面积112也较小，靶材利用率很低，不超过30%，若使用传统的磁钢排布方法，还需用到高磁场强度的磁钢，造成成本很高，并且磁钢的安装也较为困难。
技术实现思路
本技术解决的技术问题是克服现有技术中存在的不足，而提供一种提高靶材使用率的用于磁控溅射生产线的环靶。本申请解决上述技术问题所采用的技术方案包括：一种用于磁控溅射生产线的环靶，包括第一磁钢、第二磁钢、靶材安装台、屏蔽罩和冷却水通入口，所述的靶材安装台设置在第一磁钢和第二磁钢上，所述的第一磁钢、第二磁钢和靶材安装台设置在屏蔽罩内，所述的冷却水通入口设置在靶材安装台上，其特征在于：所述的第一磁钢水平环形设置，所述的第二磁钢设置在两个第一磁钢之间，所述的第一磁钢和第二磁钢在同一水平面上，第一磁钢和第二磁钢的N级向心设置。优选的，还设置有放置第一磁钢和第二磁钢的凹槽。优选的，所述的第一磁钢和第二磁钢分别设置有八个。优选的，环形的所述的第一磁钢的内环端设置有倒角。本申请具有以下特点:提高...
【技术保护点】
1.一种用于磁控溅射生产线的环靶，包括第一磁钢、第二磁钢、靶材安装台、屏蔽罩和冷却水通入口，所述的靶材安装台设置在第一磁钢和第二磁钢上，所述的第一磁钢、第二磁钢和靶材安装台设置在屏蔽罩内，所述的冷却水通入口设置在靶材安装台上，其特征在于：所述的第一磁钢水平环形设置，所述的第二磁钢设置在两个第一磁钢之间，所述的第一磁钢和第二磁钢在同一水平面上，第一磁钢和第二磁钢的N级向心设置。
【技术特征摘要】
1.一种用于磁控溅射生产线的环靶，包括第一磁钢、第二磁钢、靶材安装台、屏蔽罩和冷却水通入口，所述的靶材安装台设置在第一磁钢和第二磁钢上，所述的第一磁钢、第二磁钢和靶材安装台设置在屏蔽罩内，所述的冷却水通入口设置在靶材安装台上，其特征在于：所述的第一磁钢水平环形设置，所述的第二磁钢设置在两个第一磁钢之间，所述的第一磁钢和第二磁钢在同一水平面...
【专利技术属性】
技术研发人员：金炯，杨林，姜琼，
申请(专利权)人：杭州赛威斯真空技术有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江,33
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