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本申请公开了一种用于磁控溅射生产线的环靶，包括第一磁钢、第二磁钢、靶材安装台、屏蔽罩和冷却水通入口，所述的靶材安装台设置在第一磁钢和第二磁钢上，所述的第一磁钢、第二磁钢和靶材安装台设置在屏蔽罩内，所述的冷却水通入口设置在靶材安装台上，其特征...
该专利属于杭州赛威斯真空技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过杭州赛威斯真空技术有限公司授权不得商用。

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