一种旋转靶材制造技术

本实用新型专利技术涉及磁控溅射靶材技术领域，具体到一种旋转靶材，旨在解决旋转靶材两端的背衬管易弯折的问题，其技术要点在于，一种旋转靶材，包括背衬管和套设于背衬管外的靶材体，所述背衬管和靶材体间通过焊料层相互接合，所述背衬管两端分别延伸于靶材体外侧，所述背衬管伸出靶材体的两端分别套设有套管，所述套管与背衬管螺纹连接，所述套管与靶材体抵接。套管增加了背衬管两端的整体厚度，有效提高背衬管的强度，防止背衬管弯折，并且，套管套设于背衬管外，防止背衬管两端在运输过程中受到撞击产生磨损。

【技术实现步骤摘要】
一种旋转靶材
本技术涉及磁控溅射靶材
，更具体地说，它涉及一种旋转靶材。
技术介绍
磁控溅射镀膜是目前镀膜行业应用广泛的镀膜沉积工艺。溅射镀膜的原理是在真空条件下，通过电子枪氩离子对靶材表面进行轰击，靶材表面材料以分子、原子、离子或电子等形式被溅射出来，飞溅到基板上沉积成膜。目前镀膜行业使用的磁控溅射旋转靶材，包括衬管，其两端端部上均设有内凹的密封槽，用于放置密封圈以达到安装后的密封性。由于旋转靶材衬管一般由铝、铝合金、铜或铜合金制成，使得其自身强度不是很高，旋转靶材端部管壁较薄，在端部上设置密封槽，进一步减薄了端部管壁厚度，使得旋转靶材在运输和安装过程中容易出现变形而安装不上等情况，从而需要更换新的旋转靶材，造成极大的浪费。现有公告号为CN204224696U的中国专利提供了一种磁控溅射旋转靶材，包括衬管及设置在衬管端部外周上的环形密封凸起，密封凸起与衬管为一体结构。该技术的磁控溅射旋转靶材，通过在衬管端头上设置密封凸起，在不减薄衬管端部厚度的情况下，增强端部的强度，在安装过程中不易变形，降低安装难度，提高合格率。上述技术方案中仅在端部增加环形密封凸起，环形密封凸起对背衬管端本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种旋转靶材，包括背衬管（1）和套设于背衬管（1）外的靶材体（3），所述背衬管（1）和靶材体（3）间通过焊料层（2）相互接合，其特征在于：所述背衬管（1）两端分别延伸于靶材体（3）外侧，所述背衬管（1）伸出靶材体（3）的两端分别套设有套管（4），所述套管（4）与背衬管（1）螺纹连接，所述套管（4）与靶材体（3）抵接。

【技术特征摘要】
1.一种旋转靶材，包括背衬管（1）和套设于背衬管（1）外的靶材体（3），所述背衬管（1）和靶材体（3）间通过焊料层（2）相互接合，其特征在于：所述背衬管（1）两端分别延伸于靶材体（3）外侧，所述背衬管（1）伸出靶材体（3）的两端分别套设有套管（4），所述套管（4）与背衬管（1）螺纹连接，所述套管（4）与靶材体（3）抵接。2.根据权利要求1所述的一种旋转靶材，其特征在于：所述套管（4）周壁为两个同心管连接而成的双层结构，且所述套管（4）沿背衬管（1）轴线方向的截面上其周壁成“U”形，所述套管（4）与背衬管（1）外壁螺纹连接。3.根据权利要求2所述的一种旋转靶材，其特征在于：所述靶材体（3）内壁设有若干凸...

【专利技术属性】
技术研发人员：常代展，王雷，
申请(专利权)人：南通安泰新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32