The invention relates to the field of semiconductor photolithography production, in particular to a fast cleaning device for semiconductor photolithography. A fast cleaning device for semiconductor photolithographic plate includes a housing rack assembly and a feeding mechanism, a rotating grabbing device, a positioning lifting conveying roller device, a conveying roller device, a linear moving grabbing mechanism, a cleaning device and a second conveying roller device arranged in turn in the housing rack assembly. Mobile grabbing mechanism includes vacuum sucker device, linear moving transmission shaft, lifting device and longitudinal moving device. The device uses linear moving grabbing mechanism for grabbing and cleaning, which improves the efficiency of cleaning, has high degree of automation, and has strong batch processing ability. It can be widely used in industrial production.
【技术实现步骤摘要】
一种半导体光刻板快速清洗装置
本专利技术涉及一种半导体光刻板生产领域，尤其涉及一种半导体光刻板快速清洗装置。
技术介绍
光刻是制造半导体器件和集成电路微图形结构的关键工艺。其工艺质量直接影响着器件成品率、可靠性、器件性能以及使用寿命等参数指标。光罩是光刻工艺中的一个重要环节，光刻板必须非常洁净，所有硅片上的电路元件都来自版图。如果光刻板不洁净，存在污染颗粒，这些颗粒就会被复制到硅片表面的光刻胶上，造成器件性能的下降。然而，光刻板在使用过程中不可避免的会粘上灰尘、光刻胶等污染物，这些污染物的存在直接影响到光刻的效果。为了保证光刻板洁净，必须定期对光刻板进行清洗，而清洗的效果与清洗工艺以及各清洗工艺在设备上的合理配置有着密切的联系。中国专利技术专利（公开号CN105590879A）公开了一种全自动光刻板清洗机，由上下料单元、清洗单元、翻转单元、光刻版传输单元、定位单元、药液供给与循环单元和温度控制单元组成。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种半导体光刻板快速清洗装置，该装置采用直线移动抓取机构进行抓取和清洗，提高了清洗的效率，自动化程度高，批量处理能力强，可以广泛用...
【技术保护点】
1.一种半导体光刻板快速清洗装置，该装置包括外罩机架组件以及依次设置在外罩机架组件内的上料机构、旋转抓取装置、定位顶升输送滚轮装置、输送滚轮装置、直线移动抓取机构、清洗装置和第二输送滚轮装置；所述的上料机构上的光刻板通过旋转抓取装置放置至定位顶升输送滚轮装置，定位顶升输送滚轮装置连接第一输送滚轮装置，第一输送滚轮装置上的光刻板通过直线移动抓取机构放置至清洗装置并由直线移动抓取机构取出放置至第二输送滚轮装置；其特征在于，所述的直线移动抓取机构包括真空吸盘装置、直线移动传动轴、升降装置和纵向移动装置；所述的真空吸盘装置包括真空连接板、真空吸盘调节架和真空吸盘，真空连接板固定连接...
【技术特征摘要】
1.一种半导体光刻板快速清洗装置，该装置包括外罩机架组件以及依次设置在外罩机架组件内的上料机构、旋转抓取装置、定位顶升输送滚轮装置、输送滚轮装置、直线移动抓取机构、清洗装置和第二输送滚轮装置；所述的上料机构上的光刻板通过旋转抓取装置放置至定位顶升输送滚轮装置，定位顶升输送滚轮装置连接第一输送滚轮装置，第一输送滚轮装置上的光刻板通过直线移动抓取机构放置至清洗装置并由直线移动抓取机构取出放置至第二输送滚轮装置；其特征在于，所述的直线移动抓取机构包括真空吸盘装置、直线移动传动轴、升降装置和纵向移动装置；所述的真空吸盘装置包括真空连接板、真空吸盘调节架和真空吸盘，真空连接板固定连接着数根真空吸盘调节架，每个真空吸盘调节架上方设置有导向槽，多个吸盘调节架通过调节螺母固定设置在导向槽上，真空吸盘安装板固定安装有吸盘连接杆，吸盘连接杆的底端连接着真空吸盘；滑轨底板的上下两侧各有滑轨，上下滑轨上各装有个滑块，上面两个滑块正对下面两个滑块上各装有一个升降装置，滑轨底板的中间部位上下装有两个传动轴，两个传动轴上都装有轴承连接座，传动轴的一端连接有电机，轴承连接座通过轴套连接在传动轴上，轴承连接座连接在升降装置上，控制升降装置的直线移动，传动轴对应的滑轨底板上有通槽，方便轴承连接座的移动，另外一根转动轴上连接着另一个升降装置，电机与电机的位置相对放置，转动轴的连接、移动情况与传动轴一样；升降装置的上下移动部分的底座顶部侧板下固定有电机，底座内部装有旋转丝杠，电机的传动轴部分和旋转丝杠穿过顶部侧板的一个通孔，电机的传动轴上和旋转丝杠上各装有一个同步带轮，两个同步带轮通过皮带连接着，顶部侧板下有一块导轨连接板，导轨连接板通过轴承套连接在旋转丝杠上，导轨连接板的两侧下方各装有导轨，每个导轨上都装有两个滑块；升降装置的纵向移动部分与两根导轨底部固定连接在一起，连接板上面部分装有电机，电机连接着连接板底面的旋转轴，旋转轴的两侧各有导轨，每个滑轨上装有滑块，旋转轴上装有轴套，滑块和轴套连接在真空连接板上。2.根据权利要求1所述的一种半导体光刻板快速清洗装置，其特征在于，上料机构和卸料机构结构相同，均包括放料座、辊道和上料小车；可移动式放料座用于放置待加工的光刻板，放料座底面平整，上部设置V型储料槽，V型储料槽的出料一边低于靠料一边；所述的辊道安装在两侧的辊道侧板中，辊道侧板固定安装在机架上，辊道与上料小车相互衔接，放料座能在辊道和上料小车上移动；所述的辊道的末端设置有料座锁紧装置，并在辊道的外侧设置有小车锁紧装置。3.根据权利要求2所述的一种半导体光刻板快速清洗装置，其特征在于，料座锁紧装置包括旋转气缸和锁紧板，旋转气缸设置在辊道靠近设备里面的一端，锁紧板的一端安装在旋转气缸上，不旋转时，锁紧板一侧与辊道水平，旋转气缸旁还安装有接近传感器，辊道侧板两侧也各有一个接近传感器，旋转气缸两旁还装有两个限位块。4.根据权利要求2所述的一种半导体光刻板快速清洗装置，其特征在于，小车锁紧装置包括两个气缸、导向杆和锁紧板，在辊道靠近外面的一侧下方有一固定安装在机架上的挡板，挡板内测安装有两个气缸，气缸旁还有两个导向杆...
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