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本发明涉及一种半导体光刻板生产领域，尤其涉及一种半导体光刻板快速清洗装置。一种半导体光刻板快速清洗装置，该装置包括外罩机架组件以及依次设置在外罩机架组件内的上料机构、旋转抓取装置、定位顶升输送滚轮装置、输送滚轮装置、直线移动抓取机构、清洗装...
该专利属于王加骇所有，仅供学习研究参考，未经过王加骇授权不得商用。

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