【技术实现步骤摘要】
一种应用于玻璃制品的磁控镀膜生产线
本技术涉及磁控镀膜的
,特别涉及一种应用于玻璃制品的磁控镀膜生产线。
技术介绍
磁控溅射镀膜是指将涂层材料做为靶阴极，利用氩离子轰击靶材，产生阴极溅射，把靶材原子溅射到工件上形成沉积层的一种镀膜技术。传统的玻璃镀膜大多只采用一个真空腔室，而一个真空腔室容易造成真空环境的不稳定，从而影响玻璃镀膜的质量，另外再现有的磁控镀膜生产设备上的传送装置，大多采用铝合金或者是碳钢制成的输送辊，而玻璃在传送装置不断与输送辊相接触，从而造成玻璃制品在铝合金或碳钢制成的输送辊上发生形变，影响玻璃制品的质量。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供了一种设计合理、可防止玻璃制品变形和真空环境稳定的应用于玻璃制品的磁控镀膜生产线。本技术所采用的技术方案是：本技术包括输送装置，所述输送装置上设置有真空腔室，所述真空腔室内设置有四个隔离通道，所述隔离通道上均设置有玻璃输送通道，四个所述隔离通道将所述真空腔室依次分割成第一低真空室、第一高真空室、镀膜室、第二高真空室和第二低真空室，所述镀膜室内设置有磁控溅射靶，所述输送装置上的输送辊为...
【技术保护点】
1.一种应用于玻璃制品的磁控镀膜生产线，包括输送装置（1），所述输送装置（1）上设置有真空腔室（2），其特征在于：所述真空腔室（2）内设置有四个隔离通道（3），所述隔离通道（3）上均设置有玻璃输送通道，四个所述隔离通道（3）将所述真空腔室（2）依次分割成第一低真空室（4）、第一高真空室（5）、镀膜室（6）、第二高真空室（7）和第二低真空室（8），所述镀膜室（6）内设置有磁控溅射靶，所述输送装置（1）上的输送辊为陶瓷输送辊（9），所述第一低真空室（4）和所述第二低真空室（8）的两端分别设置有第一抽真空器（10）和第一抽风器（11），所述第一高真空室（5）和所述第二高真空室（7...
【技术特征摘要】
1.一种应用于玻璃制品的磁控镀膜生产线，包括输送装置（1），所述输送装置（1）上设置有真空腔室（2），其特征在于：所述真空腔室（2）内设置有四个隔离通道（3），所述隔离通道（3）上均设置有玻璃输送通道，四个所述隔离通道（3）将所述真空腔室（2）依次分割成第一低真空室（4）、第一高真空室（5）、镀膜室（6）、第二高真空室（7）和第二低真空室（8），所述镀膜室（6）内设置有磁控溅射靶，所述输送装置（1）上的输送辊为陶瓷输送辊（9），所述第一低真空室（4...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈金成，刘俊，卿新卫，
申请(专利权)人：珠海市斗门区鸿茂玻璃有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44
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