一种显示用基板的制备方法、显示用基板及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供一种显示用基板的制备方法、显示用基板及显示装置，涉及显示技术领域，可解决现有技术在对遮光薄膜进行曝光时，由于遮光薄膜覆盖曝光对位标记图案使得检测不到曝光对位标记图案导致的形成的遮光图案位置不精确的问题。所述方法包括：在形成有第一对位标记图案的衬底基板上形成透光的第一光阻层；将掩模板上的第二对位标记图案与第一对位标记图案对位后，对第一光阻层进行曝光、显影后形成辅助图案；在辅助图案上形成遮光的第二光阻层，第二光阻层位于辅助图案上的部分与位于辅助图案镂空区域的部分相互断开；剥离辅助图案，第二光阻层位于辅助图案镂空区域的部分保留，以在衬底基板上形成遮光图案。

【技术实现步骤摘要】
一种显示用基板的制备方法、显示用基板及显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种显示用基板的制备方法、显示用基板及显示装置。
技术介绍
现有的显示装置在制作时常需要在衬底基板上制作遮光图案，例如黑矩阵图案(BlackMatrix，简称BM)或像素界定层(PixelDefinitionLayer，简称PDL)，遮光图案在制作时一般采用前烘、曝光、显影及后烘工艺等工艺步骤形成。其中，曝光工艺采用曝光设备来完成，通过曝光设备自动实时检测在衬底基板上预先制作的曝光对位标记图案(Mark)，将曝光对位标记图案与掩模板的对位标记图案对准，进而进行曝光。然而，在衬底基板上制作遮光薄膜后，遮光薄膜会覆盖曝光对位标记图案，这样一来，对位曝光时由于对位所用的光线无法穿透遮光薄膜，曝光设备可能会检测不到衬底基板上预先制作的曝光对位标记图案，从而使得在衬底基板上预先制作的曝光对位标记图案与掩模板的对位标记图案对位不准，进而导致形成的遮光图案位置不精确。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种显示用基板的制备方法、显示用基板及显示装置，可解决现有技术在对遮光薄膜进行曝光时，由于遮光薄膜覆盖曝光对位标记图本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示用基板的制备方法，其特征在于，包括：在形成有第一对位标记图案的衬底基板上形成透光的第一光阻层；将掩模板上的第二对位标记图案与所述第一对位标记图案对位后，对所述第一光阻层进行曝光、显影后形成辅助图案；在所述辅助图案上形成遮光的第二光阻层，所述第二光阻层位于所述辅助图案上的部分与位于所述辅助图案镂空区域的部分相互断开；剥离所述辅助图案，所述第二光阻层位于所述辅助图案镂空区域的部分保留，以在所述衬底基板上形成遮光图案。

【技术特征摘要】
1.一种显示用基板的制备方法，其特征在于，包括：在形成有第一对位标记图案的衬底基板上形成透光的第一光阻层；将掩模板上的第二对位标记图案与所述第一对位标记图案对位后，对所述第一光阻层进行曝光、显影后形成辅助图案；在所述辅助图案上形成遮光的第二光阻层，所述第二光阻层位于所述辅助图案上的部分与位于所述辅助图案镂空区域的部分相互断开；剥离所述辅助图案，所述第二光阻层位于所述辅助图案镂空区域的部分保留，以在所述衬底基板上形成遮光图案。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述辅助图案上形成遮光的第二光阻层之后，剥离所述辅助图案之前，所述制备方法还包括：对所述第二光阻层进行固化。3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述第一光阻层的材料和所述第二光阻层的材料互为光固化型和热固化型；或者，所述第一光阻层的材料和所述第二光阻层的材料均为热固化型，且所述第一光阻层的固化温度大于所述第二光阻层的固化温度。4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：李伟，张星，谢蒂旎，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11