一种隔离阀装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种隔离阀装置，包括面密封板、执行机构及气缸，气缸提供执行机构的动力，执行机构及气缸之间设有密封圈，面密封板固定于执行机构的端部，隔离阀装置还包括：密封箱，密封箱套设于执行机构，密封箱的底部与气缸气密连接，顶部与执行机构气密连接并与执行机构同步移动，且密封圈显露于密封箱内；本实用新型专利技术隔离阀装置通过密封箱对气缸内驱动气体进行二次密封，降低气缸内驱动气体泄漏进气相沉积设备腔体中的概率，从而减小工艺异常的问题；通过测试设备对气缸内泄露的驱动气体进行量化；通过报警设备直观的提醒工作人员异常情况，从而及时提醒工作人员采取措施，解决资源浪费的问题。

Isolation valve device

The utility model provides an isolation valve device, which comprises a face sealing plate, an actuator and a cylinder, the cylinder provides the power of the actuator, a sealing ring is arranged between the actuator and the cylinder, the face sealing plate is fixed at the end of the actuator, and the isolation valve device also comprises a sealing box, a sealing box sleeve is arranged on the actuator and a sealing box. The bottom of the valve is tightly connected with the cylinder, the top is tightly connected with the actuator and moves synchronously with the actuator, and the sealing ring is exposed in the sealing box; the isolation valve device of the utility model carries out the secondary sealing of the driving gas in the cylinder through the sealing box, thereby reducing the probability of the driving gas leaking into the chamber of the gas inlet deposition equipment in the cylinder. In order to reduce the problem of abnormal process; through testing equipment to quantify the leakage of driving gas in the cylinder; through the alarm equipment to alert staff intuitively abnormal situation, thus promptly remind staff to take measures to solve the problem of waste of resources.

【技术实现步骤摘要】
一种隔离阀装置
本技术属于半导体加工设备领域，涉及一种隔离阀装置。
技术介绍
气相沉积技术是在气相中发生物理、化学反应的过程，在工件表面形成功能性或装饰性的金属、非金属或化合物涂层。半导体薄膜制造工艺中使用最为广泛的制造技术包括物理气相沉积技术(PhysicalVaporDeposition，PVD)及化学气相沉积技术(ChemicalVaporDeposition，CVD)。其中，化学气相沉积是将基片置于工艺腔中，抽真空并加热至900～1100℃，根据工艺需求在工艺腔内通入气体并与金属发生反应产生化合物，而后沉积在基片上表面。物理气相沉积是通过蒸发，电离或溅射等过程，产生金属粒子并与反应气体反应形成化合物沉积在基片表面。现有的气相沉积设备一般包括传送腔、缓冲腔及工艺腔。所述腔体之间设置有通道，以便于晶圆的传输。因此，气相沉积设备所述腔体中设置有隔离阀，所述隔离阀控制所述通道的开与关的状态，从而控制所述腔体的连通状态。图1显示为现有技术中的一种隔离阀装置的结构示意图。所述隔离阀装置包括面密封板100、执行机构200及气缸300。所述执行机构200连接所述面密封板100及所述气缸300，所述气缸内具有驱动气体，所述执行机构200通过所述气缸300内的驱动气体驱动其进行移动，从而控制所述面密封板100的移动。所述面密封板100随所述执行机构200的移动控制所述通道的开关状态。由于所述气缸内具有驱动气体，因此，所述执行机构200与所述气缸300之间连接有密封圈(未图示)，用以对所述气缸300内的驱动气体进行密封。现有的气相沉积设备中所述缓冲腔一般包括7个所述隔离阀装置，而所述传送腔一般也包括8个所述隔离阀装置。因此，实际生产中，由于隔离阀装置中的密封圈的老化、磨损等原因，常常会导致气缸内的驱动气体泄漏进腔体中，最终造成工艺异常的问题。基于以上所述，提供一种可有效预防气缸内驱动气体泄漏的隔离阀装置实属必要。
技术实现思路
鉴于以上所述现有技术的缺点，本技术的目的在于提供一种隔离阀装置，用于解决现有技术中的隔离阀装置中的密封圈老化、磨损所造成的气缸内驱动气体泄漏进腔体中，最终造成工艺异常的问题。为实现上述目的及其他相关目的，本技术提供一种隔离阀装置，包括面密封板、执行机构及气缸，所述气缸提供所述执行机构的动力，所述执行机构及所述气缸之间设有密封圈，所述面密封板固定于所述执行机构的端部，所述隔离阀装置还包括：密封箱，所述密封箱套设于所述执行机构，所述密封箱的底部与所述气缸气密连接，顶部与所述执行机构气密连接并与所述执行机构同步移动，且所述密封圈显露于所述密封箱内。优选地，还包括测试设备，所述测试设备连接于所述密封箱，用于检测所述执行机构与所述气缸之间的气体泄漏。优选地，所述测试设备包括真空泵、测压计、流量计中的一种。优选地，所述密封箱及所述测试设备之间连接有排气管。优选地，所述密封圈位于所述气缸上表面。优选地，所述密封箱位于所述气缸上表面，覆盖部分或全部覆盖所述气缸上表面。优选地，所述密封箱包覆部分或全部包覆所述气缸侧壁。优选地，所述密封箱包括波纹管。优选地，所述隔离阀装置还包括报警设备。优选地，所述报警设备包括声光报警器、声报警器及光报警器中的任意一种优选地，所述密封圈位于所述气缸上表面。如上所述，本技术的隔离阀装置，具有以下有益效果：隔离阀装置通过密封箱对气缸内驱动气体进行二次密封，降低气缸内驱动气体泄漏进气相沉积设备腔体中的概率，从而减小工艺异常的问题；隔离阀装置通过测试设备可对气缸内泄露的驱动气体进行量化；隔离阀装置通过报警设备直观的提醒工作人员异常情况，从而及时提醒工作人员采取措施，解决资源浪费的问题。附图说明图1显示为现有技术中的一种隔离阀装置的结构示意图。图2显示为实施例一中的隔离阀装置的结构示意图。图3显示为图2中沿A-A’向的剖视结构意示图。图4显示为实施例二中的隔离阀装置的纵截面剖视结构示意图。元件标号说明100、101、201面密封板200、102、202执行机构300、103、203气缸104、204密封圈105、205密封箱106、206测试设备107排气管108、208报警装置具体实施方式以下由特定的具体实施例说明本技术的实施方式，熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本技术的其他优点及功效。请参阅图2至图4。须知，本说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本技术可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本技术所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本技术所揭示的
技术实现思路
得能涵盖的范围内。同时，本说明书中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中间”及“一”等的用语，亦仅为便于叙述的明了，而非用以限定本技术可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质变更
技术实现思路
下，当亦视为本技术可实施的范畴。实施例一如图2所示，显示为本实施例中的隔离阀装置的结构示意图。本技术中的隔离阀装置包括：面密封板101、执行机构102、气缸103、密封箱105、测试设备106、排气管107及报警装置108。具体的，所述面密封板101固定于所述执行机构102的端部，所述气缸103内部具有驱动气体，所述气缸103内的驱动气体包括压缩空气及氮气中的一种，所述驱动气体为所述执行机构102提供移动所需的动力，促使所述执行机构102带动所述面密封板101进行移动，从而对气相沉积设备腔体间的用于传输晶圆的通道进行开与关的控制。具体的，所述气缸103内部具有收容空间，所述收容空间为所述执行机构102的移动提供空间。具体的，所述执行机构102及所述气缸103之间设有密封圈104，如图3所示，显示为图2中沿A-A’向的剖视结构示意图。作为示例，所述密封圈104位于所述气缸103上表面处，包覆所述收容空间上端口且与所述执行机构102侧壁相接触，从而防止所述气缸103内的驱动气体的泄露。具体的，所述密封箱105套设于所述执行机构102，所述密封箱105的底部与所述气缸103气密连接，顶部与所述执行机构102气密连接并与所述执行机构102同步移动，且所述密封圈104显露于所述密封箱105内，所述密封箱105对所述密封圈104实行二次密封。从而，降低所述气缸103内驱动气体泄漏进气相沉积设备腔体中的概率，减小工艺异常的问题。作为示例，所述密封箱105位于所述气缸103上表面，覆盖部分或全部覆盖所述气缸103上表面。本实施例中，所述密封箱105位于所述气缸103上表面，覆盖部分所述气缸103上表面，在另一实施例中，所述密封箱105也可全部覆盖所述气缸103上表面，此处不作要求。作为示例，所述密封箱105包括波纹管。所述波纹管具有可折叠皱纹片，所述折叠皱纹片可沿折叠伸缩方向移动，所述波纹管为管状弹性敏感元件，可作为压力测量仪表的测量元件，其可将压力转换成位移或力。具体的，所述波纹管包括金属波纹管及金属软管中的一种。其中，所述金属波纹管是一种具有规则的波浪状的管材，适用于需要不规则转弯或伸缩的管道。本实施例中，所述波纹管优选为可进行不本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种隔离阀装置，其特征在于，包括面密封板、执行机构及气缸，所述气缸提供所述执行机构的动力，所述执行机构及所述气缸之间设有密封圈，所述面密封板固定于所述执行机构的端部，所述隔离阀装置还包括：密封箱，所述密封箱套设于所述执行机构，所述密封箱的底部与所述气缸气密连接，顶部与所述执行机构气密连接并与所述执行机构同步移动，且所述密封圈显露于所述密封箱内。

【技术特征摘要】
1.一种隔离阀装置，其特征在于，包括面密封板、执行机构及气缸，所述气缸提供所述执行机构的动力，所述执行机构及所述气缸之间设有密封圈，所述面密封板固定于所述执行机构的端部，所述隔离阀装置还包括：密封箱，所述密封箱套设于所述执行机构，所述密封箱的底部与所述气缸气密连接，顶部与所述执行机构气密连接并与所述执行机构同步移动，且所述密封圈显露于所述密封箱内。2.根据权利要求1所述的隔离阀装置，其特征在于，还包括测试设备，所述测试设备连接于所述密封箱，用于检测所述执行机构与所述气缸之间的气体泄漏。3.根据权利要求2所述的隔离阀装置，其特征在于，所述测试设备包括真空泵、测压计、流量计中的一种。4.根据权利要求2所...

【专利技术属性】
技术研发人员：李国强，林宗贤，吴孝哲，
申请(专利权)人：德淮半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32