沉积成膜装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种沉积成膜装置。上述的沉积成膜装置包括成膜腔室、主排气管道与前级真空计；沉积成膜装置还包括旁路排气管道与粒子计数装置；主排气管道设置真空阀与蝶阀，主排气管道的一端与成膜腔室连通，主排气管道的另一端设置连接位，连接位用于连接干式真空泵；旁路排气管道设置旁路排气阀，旁路排气管道的一端与成膜腔室连通且设置于成膜腔室的底部，旁路排气管道的另一端连接主排气管道，且旁路排气管道的另一端位于蝶阀与连接位之间；上述的沉积成膜装置提高了整个成膜腔室的洁净度，使得成膜腔室的洁净度明确并可控，保证了成膜质量，提高了良品率，提高了生产效率。

Deposition and film forming device

The utility model relates to a deposition and film forming device. The deposition forming device includes the film chamber, the main exhaust pipe and the front stage vacuum gauge; the deposition forming device also includes the bypass exhaust pipe and the particle counting device, the main exhaust pipe is equipped with a vacuum valve and a butterfly valve, one end of the main exhaust pipe is connected with the film chamber, and the other end of the main exhaust pipe is connected and connected. It is used to connect the dry vacuum pump; the bypass exhaust pipe sets the bypass vent valve, one end of the bypass exhaust pipe is connected to the film chamber and is set at the bottom of the film chamber, the other end of the bypass exhaust pipe connects the main exhaust pipe, and the other end of the bypass exhaust pipe is between the butterfly valve and the connection position; the above deposition film is formed. The device improves the cleanliness of the whole film chamber, makes the cleanliness of the film chamber clear and controllable, ensures the quality of the film forming, improves the good product rate, and improves the production efficiency.

【技术实现步骤摘要】
沉积成膜装置
本技术涉及薄膜
，特别是涉及一种沉积成膜装置。
技术介绍
传统的沉积成膜装置没有标准能够判断成膜腔室的清洁是否彻底干净，主要原因是腔室内的颗粒物太多，没有达到要求的洁净度，这样影响了生产。另外在成膜腔室的下部有很大的空间在远程清洁过程中不能保证清洁的到位，这使得成膜腔室的下部空间具有存在异物的隐患，这样降低了产品的质量。
技术实现思路
基于此，有必要针对成膜腔室的下部空间的清洁不到位以及难以判断成膜腔室的洁净度的问题，提供一种沉积成膜装置。一种沉积成膜装置，包括成膜腔室、主排气管道与前级真空计，其特征在于，所述沉积成膜装置还包括旁路排气管道与粒子计数装置；所述主排气管道设置真空阀与蝶阀，所述主排气管道的一端与所述成膜腔室连通，所述主排气管道的另一端设置连接位，所述连接位用于连接干式真空泵；所述旁路排气管道设置旁路排气阀，所述旁路排气管道的一端与所述成膜腔室连通且设置于所述成膜腔室的底部，所述旁路排气管道的另一端连接所述主排气管道，且所述旁路排气管道的另一端位于所述蝶阀与所述连接位之间；所述前级真空计连接于所述旁路排气管道的另一端与所述连接位之间；所述粒子计数装置连接于所述主排气管道的一端与所述真空阀之间。在其中一个实施例中，所述粒子计数装置用于连接所述干式真空泵并与所述干式真空泵联动设置。在其中一个实施例中，所述粒子计数装置设置有延时启动组件，用于在所述干式真空泵启动之后延时第一预设时间再启动所述粒子计数装置。在其中一个实施例中，所述粒子计数装置设置有启动装置，所述启动装置用于在达到预设真空度时启动所述粒子计数装置。在其中一个实施例中，所述沉积成膜装置还设置有报警装置，所述报警装置与所述粒子计数装置连接，还用于与所述干式真空泵连接，所述报警装置用于在所述干式真空泵运行超过第二预设时间且所述粒子计数装置的计数值大于设定值时进行报警。在其中一个实施例中，所述沉积成膜装置还设置有发送装置，所述发送装置与所述报警装置连接，用于在所述报警装置进行报警时发送远程报警信号。在其中一个实施例中，所述沉积成膜装置中的所述旁路排气管道的数量为多个。在其中一个实施例中，所述主排气管道还设置主路排气阀，所述主路排气阀位于所述前级真空计的连接位置与所述连接位之间。在其中一个实施例中，所述沉积成膜装置还包括所述干式真空泵。在其中一个实施例中，所述沉积成膜装置为等离子体增强化学气相沉积装置。上述的沉积成膜装置，包括成膜腔室、主排气管道与前级真空计，主排气管道的一端与成膜腔室连通，主排气管道的另一端设置连接位，连接位用于连接干式真空泵，利用干式真空泵从成膜腔室内抽气，成膜腔室内的气体通过主排气管道进入干式真空泵；前级真空计用于计算成膜腔室的真空度，从而监控成膜腔室的压力；主排气管道设置真空阀与蝶阀，真空阀用于控制主排气管道的开启和关闭，从而控制排气，即控制干式真空泵对成膜腔室的抽真空；蝶阀用于控制主排气管道打开的幅度，控制排气的速度，从而更精确地控制成膜腔室的真空度；沉积成膜装置包括旁路排气管道，旁路排气管道的一端与成膜腔室连通且设置于成膜腔室的底部，旁路排气管道的另一端连接主排气管道，增加的旁路排气管道使得气体会从成膜腔室的下部空间通过旁路排气管道排出，这样使得成膜腔室的下部空间中的颗粒物随着气体的排出而被带出，从而清洁了成膜腔室的下部空间，提高了整个成膜腔室的洁净度，降低了产品产生异物的可能性，保证了成膜质量，提高了良品率；旁路排气管道设置旁路排气阀，旁路排气阀用于控制旁路排气管道开启和关闭，当成膜腔室的真空度达到设定值时，打开旁路排气阀，利用旁路排气管道对成膜腔室抽真空，使成膜腔室具有更高的洁净度，当不需要旁路排气管道工作时，关闭旁路排气阀；沉积成膜装置还包括粒子计数装置，粒子计数装置设置于主排气管道，粒子计数装置用于测试成膜腔室内的粒子数，使得成膜腔室的洁净度处于被监控状态，即使得成膜腔室的洁净度被明确并可控，从而可以确定开始加工产品的时间，既提高了生产效率，又保证了成膜质量，提高了良品率。附图说明图1为一实施例沉积成膜装置的结构示意图；图2为另一实施例沉积成膜装置的结构示意图；图3为又一实施例沉积成膜装置的结构示意图；图4为又一实施例沉积成膜装置的结构示意图。具体实施方式为了便于理解本技术，下面将参照相关附图对沉积成膜装置进行更全面的描述。附图中给出了沉积成膜装置的首选实施例。但是，沉积成膜装置可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对沉积成膜装置的公开内容更加透彻全面。需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在沉积成膜装置的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本技术。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。例如，一种沉积成膜装置包括成膜腔室、主排气管道与前级真空计；例如，所述沉积成膜装置还包括旁路排气管道与粒子计数装置；例如，所述主排气管道设置真空阀与蝶阀，所述主排气管道的一端与所述成膜腔室连通，所述主排气管道的另一端设置连接位，所述连接位用于连接干式真空泵；例如，所述旁路排气管道设置旁路排气阀，所述旁路排气管道的一端与所述成膜腔室连通且设置于所述成膜腔室的底部，所述旁路排气管道的另一端连接所述主排气管道，且所述旁路排气管道的另一端位于所述蝶阀与所述连接位之间；例如，所述前级真空计连接于所述旁路排气管道的另一端与所述连接位之间；例如，所述粒子计数装置连接于所述主排气管道的一端与所述真空阀之间。例如，一种沉积成膜装置包括成膜腔室、主排气管道与前级真空计；所述沉积成膜装置还包括旁路排气管道与粒子计数装置；所述主排气管道设置真空阀与蝶阀，所述主排气管道的一端与所述成膜腔室连通，所述主排气管道的另一端设置连接位，所述连接位用于连接干式真空泵；所述旁路排气管道设置旁路排气阀，所述旁路排气管道的一端与所述成膜腔室连通且设置于所述成膜腔室的底部，所述旁路排气管道的另一端连接所述主排气管道，且所述旁路排气管道的另一端位于所述蝶阀与所述连接位之间；所述前级真空计连接于所述旁路排气管道的另一端与所述连接位之间；所述粒子计数装置连接于所述主排气管道的一端与所述真空阀之间。如图1所示，一实施例的沉积成膜装置10包括成膜腔室100、主排气管道200与前级真空计300；所述沉积成膜装置10还包括旁路排气管道400与粒子计数装置500；所述主排气管道200设置真空阀210与蝶阀220，所述主排气管道200的一端与所述成膜腔室100连通，所述主排气管道200的另一端设置连接位230，所述连接位230用于连接干式真空泵；所述旁路排气管道400设置旁路排气阀410，所述旁路排气管道400的一端与所述成膜腔室100连通且设置于所述成膜腔本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种沉积成膜装置，包括成膜腔室、主排气管道与前级真空计，其特征在于，所述沉积成膜装置还包括旁路排气管道与粒子计数装置；所述主排气管道设置真空阀与蝶阀，所述主排气管道的一端与所述成膜腔室连通，所述主排气管道的另一端设置连接位，所述连接位用于连接干式真空泵；所述旁路排气管道设置旁路排气阀，所述旁路排气管道的一端与所述成膜腔室连通且设置于所述成膜腔室的底部，所述旁路排气管道的另一端连接所述主排气管道，且所述旁路排气管道的另一端位于所述蝶阀与所述连接位之间；所述前级真空计连接于所述旁路排气管道的另一端与所述连接位之间；所述粒子计数装置连接于所述主排气管道的一端与所述真空阀之间。

【技术特征摘要】
1.一种沉积成膜装置，包括成膜腔室、主排气管道与前级真空计，其特征在于，所述沉积成膜装置还包括旁路排气管道与粒子计数装置；所述主排气管道设置真空阀与蝶阀，所述主排气管道的一端与所述成膜腔室连通，所述主排气管道的另一端设置连接位，所述连接位用于连接干式真空泵；所述旁路排气管道设置旁路排气阀，所述旁路排气管道的一端与所述成膜腔室连通且设置于所述成膜腔室的底部，所述旁路排气管道的另一端连接所述主排气管道，且所述旁路排气管道的另一端位于所述蝶阀与所述连接位之间；所述前级真空计连接于所述旁路排气管道的另一端与所述连接位之间；所述粒子计数装置连接于所述主排气管道的一端与所述真空阀之间。2.根据权利要求1所述的沉积成膜装置，其特征在于，所述粒子计数装置用于连接所述干式真空泵并与所述干式真空泵联动设置。3.根据权利要求2所述沉积成膜装置，其特征在于，所述粒子计数装置设置有延时启动组件，用于在所述干式真空泵启动之后延时第一预设时间再启动所述粒子计数装置。4.根据权利要求1所述沉积成膜装置，其特征在于，所述粒子计数装置...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢志强，任思雨，苏君海，李建华，
申请(专利权)人：信利惠州智能显示有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44