真空处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种在通过型的真空处理装置中、能够充分地进行省空间化的技术。本发明专利技术的真空处理装置（1）具有形成有单一的真空气氛的真空槽（2）；第1以及第2处理区域（4、5），设置于真空槽（2）内，具有在基板（10）的平面的处理面上进行处理的处理源；以及输送驱动部件（33），构成以通过第1以及第2处理区域（4、5）的方式输送基板（10）的输送路径。该输送路径以相对于下述平面（铅垂面）投影时为一连串的环状的方式形成，该平面包括输送的基板（10）的处理面上的任意点的法线、以及直线地通过第1以及第2处理区域（4、5）时基板（10）的处理面上的任意点所描绘的轨迹线段。

Vacuum treatment device

The invention provides a technology for fully saving space in the vacuum treatment device of the pass type. The vacuum treatment device (1) of the present invention has a vacuum tank (2) having a single vacuum atmosphere; first and second processing areas (4, 5), set in a vacuum tank (2), having a processing source on a processing surface of a flat plate of a substrate (10), and a conveying drive unit (33), composed of first, And the 2 processing area (4, 5) conveyed the conveying path of the substrate (10). The transmission path is formed in a series of rings relative to the lower plane (vertical plane), which includes a normal line at any point on the processing surface of the conveyed substrate (10), and the trajectory depicted in a straight line at any point on the processing surface of the substrate (10) at the time of first and second processing areas (4, 5). Line segment.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】真空处理装置
本专利技术涉及在真空中在基板上进行成膜等真空处理的真空处理装置的技术，特别涉及一边使保持多个基板的基板保持器移动一边进行处理的通过型的真空处理装置的技术。
技术介绍
以往，已知一种真空处理装置，该真空处理装置一边将多个被处理基板载置于托盘等基板保持器并通过，一边进行成膜等处理。作为这样的真空处理装置，还已知一种具有环状的输送路径的装置，此外，在现有技术中，还示出了在移载被处理基板的工序中，将被处理基板导入输送路径（装载），将处理后的基板从输送路径排出（卸载）。在现有技术的结构中，从装载位置至卸载位置，被处理基板的处理面被水平地保持，一边在配置于水平面内的环状的输送路径中移动，一边进行各加工。其结果是，在这样的现有技术中，除了应处理的基板表面，包括移载的附带设备的面积也被加算在水平方向上（如果在与处理面平行的面内设置有环状轨道，则即使其是铅垂方向也被加算）。此外，在这样的现有技术中，由于以在托盘上载置多行×多列的基板的方式构成，因此处理区域以及附带设备全部需要能够完全覆盖该托盘表面积的大小，其结果是，包含上述问题在内成为缩小设置空间上的较大的障碍。然而，在假如存在单列地载置被处理基板的托盘的情况下，即使在将该托盘朝向输送方向载置多个的情况下，在开始对载置于托盘前方的基板的处理、完成对载置于托盘后端的基板的处理的过程中，必须设置覆盖以下双方的处理剩余区域：在托盘前方的基板开始处理时，从第二张至后端基板的长度；此外，在托盘后端的基板完成处理时，从托盘前方的基板至后端前基板的长度；由此存在不能够充分地进行省空间化这一问题。专利文献1：日本特开2007-31821号公报专利文献2：日本特开2002-288888号公报专利文献3：日本特开2004-285426号公报专利文献4：日本特开2002-176090号公报专利文献5：WO2008-50662号公报专利文献6：日本特开平8-96358号公报专利文献7：日本特开2004-285426号公报专利文献8：日本特开2013-131542号公报。
技术实现思路
本专利技术是考虑了这样的以往的技术问题而作出的，其目的在于提供一种在通过型的真空处理装置中、能够充分地进行省空间化的技术。为了实现上述目的而做出的本专利技术是一种真空处理装置，该真空处理装置具有：真空槽，其形成有单一的真空气氛；处理区域，其设置于前述真空槽内，具有在基板的平面的处理面上进行处理的处理源；以及输送路径，其设置于前述真空槽内，以通过前述处理区域的方式输送前述基板，前述输送路径以相对于下述平面投影时为一连串的环状的方式形成，所述平面包括关于在该输送路径中输送的前述基板的处理面上的任意点的法线以及直线地通过前述处理区域时前述基板的处理面上的任意点所描绘的轨迹线段。在本专利技术中，在下述情况下也是有效的，具备基板保持器输送机构，该基板保持器输送机构构成为，将排列地保持多个基板的基板保持器沿着前述输送路径输送。在本专利技术中，在下述情况下也是有效的，前述真空处理装置具备基板保持器输送机构，该基板保持器输送机构构成为将基板保持器沿着前述输送路径输送，所述基板保持器在相对于前述基板的输送方向正交的输送正交方向上排列地保持多个基板。在本专利技术中，在下述情况下也是有效的，在前述基板保持器输送机构中设置有基板保持器导入部和基板保持器排出部，所述基板保持器导入部用于将保持有处理前的基板的基板保持器交付至该基板保持器输送机构，所述基板保持器排出部用于将保持有处理后的基板的基板保持器从该基板保持器输送机构取出。在本专利技术中，在下述情况下也是有效的，前述基板保持器构成为在前述输送正交方向的两端部具有沿该输送正交方向延伸的支承轴，并且在前述基板保持器输送机构中，该基板保持器的支承轴以能够以沿前述输送正交方向延伸的旋转轴线为中心旋转的方式拆装自如地保持于保持驱动部，所述保持驱动部设置于构成前述输送路径的驱动部件。在本专利技术中，在下述情况下也是有效的，前述保持驱动部设置于前述驱动部件的外侧，并且设置有用于阻止该保持驱动部从前述驱动部件脱落的引导部件，该引导部件被构成使得前述基板保持器在前述基板保持器输送机构的基板保持器导入部处被保持于前述保持驱动部，并且前述基板保持器在前述基板保持器输送机构的基板保持器排出部处从前述保持驱动部脱离。在本专利技术中，在下述情况下也是有效的，前述基板保持器输送机构在前述输送路径的去路以及回路中分别具有前述处理区域。在本专利技术中，在下述情况下也是有效的，前述基板保持器输送机构具有输送折返部，所述输送折返部将前述基板保持器从前述输送路径的去路向回路折返地输送，该输送折返部构成为在维持前述基板保持器相对于该输送方向的前后关系的状态下输送该基板保持器。在本专利技术中，在下述情况下也是有效的，前述基板保持器输送机构具有输送折返部，所述输送折返部将前述基板保持器从前述输送路径的去路向回路折返地输送，该输送折返部构成为在使前述基板保持器相对于该输送方向的前后关系反转的状态下输送该基板保持器。在本专利技术中，在下述情况下也是有效的，前述基板保持器输送机构具有加热机构，所述加热机构在处理前对保持有前述基板的前述基板保持器进行加热。在本专利技术中，在下述情况下也是有效的，前述基板保持器输送机构一体地组装于相对于前述真空槽拆装自如的框架构造体。在本专利技术中，在下述情况下也是有效的，前述真空处理装置具有基板搬入搬出室，所述基板搬入搬出室构成为气氛能够相对于前述真空槽连通或者隔离，用于向该真空槽搬入基板并且从该真空槽搬出基板，并且在前述真空槽内具有：基板搬入搬出机构，其将保持有处理前的基板的基板保持器从前述基板搬入搬出室内搬入该真空槽内，并且将保持有处理后的基板的基板保持器搬入前述基板搬入搬出室；以及输送机器人，其将保持有前述处理前的基板的基板保持器从前述基板搬入搬出机构交付至前述基板保持器输送机构的基板保持器导入部，并且将保持有前述处理后的基板的基板保持器从前述基板保持器输送机构的基板保持器排出部取出而交付至前述基板搬入搬出机构。在本专利技术中，在下述情况下也是有效的，前述基板搬入搬出机构具有在基板保持器交付位置和基板保持器取出位置之间移动的基板保持器支承部，在所述基板保持器交付位置，将保持有处理前的基板的前述基板保持器交付至前述基板保持器输送机构的基板保持器导入部，在所述基板保持器取出位置，将保持有处理后的基板的前述基板保持器从前述基板保持器输送机构的基板保持器排出部取出，在该基板保持器支承部上配置有前述输送机器人。在本专利技术中，在下述情况下也是有效的，前述基板搬入搬出机构的基板保持器支承部构成为，能够移动至连通前述真空槽与前述基板搬入搬出室的位置，使该基板保持器支承部移动至前述连通的位置，借助该基板保持器支承部封堵前述真空槽与前述基板搬入搬出室的连通口，从而相对于前述真空槽，前述基板搬入搬出室的气氛被隔离。在本专利技术中，在下述情况下也是有效的，前述基板保持器交付位置相对于前述真空槽与前述基板搬入搬出室连通的位置的距离比前述基板保持器取出位置相对于前述真空槽与前述基板搬入搬出室连通的位置的距离小。在本专利技术中，在下述情况下也是有效的，前述输送路径以相对于铅垂面投影时为环状的方式形成。在本专利技术中，在形成有单一的真空气氛的真空槽内具有以通过处理区域的方式输送本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空处理装置，所述真空处理装置的特征在于，前述真空处理装置具有：真空槽，其形成有单一的真空气氛；处理区域，其设置于前述真空槽内，具有在基板的平面的处理面上进行处理的处理源；以及输送路径，其设置于前述真空槽内，以通过前述处理区域的方式输送前述基板，前述输送路径以相对于下述平面投影时为一连串的环状的方式形成，所述平面包括关于在该输送路径中输送的前述基板的处理面上的任意点的法线、以及直线地通过前述处理区域时前述基板的处理面上的任意点所描绘的轨迹线段。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.12.17 JP 2015-2467791.一种真空处理装置，所述真空处理装置的特征在于，前述真空处理装置具有：真空槽，其形成有单一的真空气氛；处理区域，其设置于前述真空槽内，具有在基板的平面的处理面上进行处理的处理源；以及输送路径，其设置于前述真空槽内，以通过前述处理区域的方式输送前述基板，前述输送路径以相对于下述平面投影时为一连串的环状的方式形成，所述平面包括关于在该输送路径中输送的前述基板的处理面上的任意点的法线、以及直线地通过前述处理区域时前述基板的处理面上的任意点所描绘的轨迹线段。2.如权利要求1所述的真空处理装置，其特征在于，前述真空处理装置具备基板保持器输送机构，所述基板保持器输送机构构成为，将排列地保持多个基板的基板保持器沿着前述输送路径输送。3.如权利要求2所述的真空处理装置，其特征在于，前述真空处理装置具备基板保持器输送机构，所述基板保持器输送机构构成为，将基板保持器沿着前述输送路径输送，所述基板保持器在相对于前述基板的输送方向正交的输送正交方向上排列地保持多个基板。4.如权利要求3所述的真空处理装置，其特征在于，在前述基板保持器输送机构中设置有基板保持器导入部和基板保持器排出部，所述基板保持器导入部用于将保持有处理前的基板的基板保持器交付至该基板保持器输送机构，所述基板保持器排出部用于将保持有处理后的基板的基板保持器从该基板保持器输送机构取出。5.如权利要2至4中任意一项所述的真空处理装置，其特征在于，前述基板保持器构成为，在前述输送正交方向的两端部具有沿该输送正交方向延伸的支承轴，并且在前述基板保持器输送机构中，该基板保持器的支承轴以能够以沿前述输送正交方向延伸的旋转轴线为中心旋转的方式拆装自如地保持于保持驱动部，所述保持驱动部设置于构成前述输送路径的驱动部件。6.如权利要求5所述的真空处理装置，其特征在于，前述保持驱动部设置于前述驱动部件的外侧，并且设置有用于阻止该保持驱动部从前述驱动部件脱落的引导部件，该引导部件被构成使得前述基板保持器在前述基板保持器输送机构的基板保持器导入部处被保持于前述保持驱动部，并且前述基板保持器在前述基板保持器输送机构的基板保持器排出部处从前述保持驱动部脱离。7.如权利要求2所述的真空处理装置，其特征在于，前述基板保持器输送机构在前述输送路径的去路以及回路中分别具有前述处理区域。8.如权利要求7所述的真空处理装置，其特征在于，前述基板保持器输送机构具有输送折返部，所述输送折返部将前述基板保持器从前述输送路径的去路向回路折返地输送，该输送折返部构成为在维持前述基板保持器相对于该...

【专利技术属性】
技术研发人员：中尾裕利，
申请(专利权)人：株式会社爱发科，
类型：发明
国别省市：日本,JP