湿法链式刻蚀槽进液结构制造技术

技术编号:18765780 阅读:51 留言:0更新日期:2018-08-25 11:41
本发明专利技术涉及一种湿法链式刻蚀槽进液结构,其特征是:包括设置于湿刻槽槽体底部的进液盒,进液盒设置于远离硅片进料方向的一侧;在所述进液盒朝向硅片进料方向的一侧设置有一排出液排孔,进液盒的底部设置进液口,进液盒通过进液口与进液管路连接。本发明专利技术能够提高槽体进液的稳定性,避免硅片表面产生气泡印而生的降低,减少或杜绝不良片的产生。

【技术实现步骤摘要】
湿法链式刻蚀槽进液结构
本专利技术涉及一种用于太阳能光伏湿法链式刻蚀机,尤其是一种湿法链式刻蚀槽进液结构。
技术介绍
太阳能电池制造经过扩散形成PN结后,需要通过刻蚀工序去掉硅片背面和硅片侧面的PN结,达到正面与背面绝缘的目的。目前,太阳能光伏湿法链式刻蚀机在使用中存在以下问题:现有的湿光链式刻蚀机的湿刻槽一般采用进液管的方式进行进液,如图1-1、图1-2所示,在湿刻槽槽体1a的底部连接多个进液管路2a,进液管路2a通过阀门3a连接多个进液管支路4a,进液管支路4a连接进液管5a的进口端,进液管5a设置于液刻槽槽体1a内侧底部,在进液管5a的下方排列有多个圆孔出液孔6a。上述的湿刻槽主要有以下缺陷:液体从进液管5a上的出液孔6a流出,管路易聚集气体从出液孔6a流出,硅片在刻蚀液中行走过程中,气泡浮出液面炸开会使硅片的正面粘液,造成硅片表面产生气泡印,造成硅片降级或形成不良片。
技术实现思路
本专利技术的目的是克服现有技术中存在的不足,提供一种湿法链式刻蚀槽进液结构,能够提高槽体进液的稳定性,避免硅片表面产生气泡印而生的降低,减少或杜绝不良片的产生。按照本专利技术提供的技术方案,所述湿法链本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种湿法链式刻蚀槽进液结构,其特征是:包括设置于湿刻槽槽体(1)底部的进液盒(2),进液盒(2)设置于远离硅片进料方向的一侧;在所述进液盒(2)朝向硅片进料方向的一侧设置有一排出液排孔(3),进液盒(2)的底部设置进液口(6),进液盒(2)通过进液口(6)与进液管路(7)连接。

【技术特征摘要】
1.一种湿法链式刻蚀槽进液结构,其特征是:包括设置于湿刻槽槽体(1)底部的进液盒(2),进液盒(2)设置于远离硅片进料方向的一侧;在所述进液盒(2)朝向硅片进料方向的一侧设置有一排出液排孔(3),进液盒(2)的底部设置进液口(6),进液盒(2)通过进液口(6)与进液管路(7)连接。2.如权利要求1所述的湿法链式刻蚀槽进液结构,其特征是:在所述进液盒(2)的内部设置有内衬板(4),内衬板(4)的底部与进液盒(2)的下部密封连接,内衬板(4)的顶端与进液盒(2)的上部之间具有出液间隙(5)。3.如权利要求1所述的湿法链式刻蚀槽进液结构,其特征是:在所述出液排孔(3)的上方设置挡板...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈玉唐麟
申请(专利权)人:无锡尚德太阳能电力有限公司
类型:发明
国别省市:江苏,32

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1