一种用于磁控溅射设备的旋转样品台制造技术

本实用新型专利技术涉及一种用于磁控溅射设备的旋转样品台，包括样品架（1），在样品架（1）上设有旋转座（2），在旋转座（2）上转动配合连接伸缩杆（3），伸缩杆（3）通过球头（4）连接支撑杆（5），在支撑杆（5）上固定连接托盘（6）。本实用新型专利技术的优点：本装置用于磁控溅射时多个靶材之间进行灵活转换，能够360°无死角旋转样品台，克服了传统样品台不可同时进行多元素薄膜制备的缺陷，以达到同时制备多种掺杂薄膜的目的，有效避免了使用多种掺杂量的靶材，节约了成本，同时也提高了磁控溅射设备的使用效率，为多元素薄膜的实验研发起到了一定的推动作用。

A rotating sample table for magnetron sputtering equipment

The utility model relates to a rotating sample table for a magnetron sputtering device, including a sample frame (1), a rotating seat (2) on the sample rack (1), and a connecting connecting telescopic rod (3) on the rotating seat (2), the telescopic rod (3) connected to the support bar (5) through the ball head (4), and a fixed connection on the support rod (5). Pallet (6). The advantage of the utility model is that the device is used for flexible conversion between multiple targets during magnetron sputtering, and can rotate the sample table without dead angle at 360 degrees, and overcomes the defects that the traditional sample table can not simultaneously prepare the multi element film, so as to achieve the simultaneous preparation of many kinds of doped thin films, effectively avoiding the use of various doping amounts. The target material saves cost and improves the efficiency of magnetron sputtering equipment. It promotes the research and development of multi-element thin films.

【技术实现步骤摘要】
一种用于磁控溅射设备的旋转样品台
本技术涉及磁控溅射
，特别涉及一种用于磁控溅射设备的旋转样品台。
技术介绍
在镀膜技术飞速发展的今天，多元素复合薄膜的制备得到快速发展，也是目前最热门的研究领域之一。众所周知，多元素薄膜的制备：a、采用共掺杂的技术；b、采用事先一定值掺杂量的靶材进行镀膜，然后制备多元素薄膜。但对于上述情况a只能进行一种掺杂元素薄膜的制备，对于b靶材掺杂只能进行一定值的掺杂量，对于后续的研究存在很多障碍，不能灵活运用，如需进行不同量的掺杂，则需要更多的靶材，浪费大量资金，而对于二种以上的元素掺杂则不能进行。上述情况一定程度上限制了多元素薄膜的制备方法和研究进程。
技术实现思路
本技术的目的是为了解决现阶段磁控溅射设备不能同时进行多元素薄膜制备的缺点，而提出的一种用于磁控溅射设备的旋转样品台。为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：一种用于磁控溅射设备的旋转样品台，其特征在于：包括样品架，在样品架上设有旋转座，在旋转座上转动配合连接伸缩杆，伸缩杆通过球头连接支撑杆，在支撑杆上固定连接托盘。在上述技术方案的基础上，可以有以下进一步的技术方案：所述样品架为杆状结构，所述旋转座包括与样品架套接的转筒，在转筒上通过铰接座连接所述伸缩杆。所述转筒通过第一锁紧件锁紧固定在所述样品架上，所述伸缩杆通过第二锁紧件锁紧固定在所述铰接座上。所述伸缩杆包括底杆，在底杆上套接调节杆，在调节杆的一侧设有套接在底杆上的套筒，调节杆连接所述球头。所述底杆和所述调节杆之间通过第三锁紧件锁紧固定。所述伸缩杆包括下杆，在下杆上连接螺纹套筒，螺纹套筒还连接上杆，上杆连接所述球头。在所述下杆和所述上杆上均连接一个锁紧螺母，两个锁紧螺母均与所述螺纹套筒对应锁紧配合。传统样品台是不可移动，不可360°无死角旋转，现样品台改进为由一个托盘，一个支撑杆，一个能360°旋转的的球头，一个能够上、下180°旋转的伸缩杆，一个样品架组成。这样在制备薄膜的过程中，如无需掺杂，则伸缩杆直接垂直靶材，和常规样品台无差别，如需要进行两种或以上的靶材同时进行镀膜，只需要调整伸缩杆的长度和上下的角度，使靶材起辉时，样品台旋转过程中能经过靶材正上方即可，达到了可同时进行多种元素薄膜制备的目的。本技术的优点在于：本装置用于磁控溅射时多个靶材之间进行灵活转换，能够360°无死角旋转样品台，克服了传统样品台不可同时进行多元素薄膜制备的缺陷，以达到同时制备多种掺杂薄膜的目的，有效避免了使用多种掺杂量的靶材，节约了成本，同时也提高了磁控溅射设备的使用效率，为多元素薄膜的实验研发起到了一定的推动作用。附图说明图1是本技术的基本结构示意图；图2是图1的使用状态示意图；图3是伸缩杆的另一结构示意图。具体实施方式为了使本技术更加清楚明白，以下结合附图对本装置详细说明，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。如图1和图2所示，本技术提供的一种用于磁控溅射设备的旋转样品台，包括样品架1，样品架1为圆形杆状结构，在样品架1的上方端部套接一个旋转座2，所述旋转座2包括与样品架1套接的转筒7，在转筒7的顶部设有铰接座8，转筒7能够绕样品架1在水平面上转动，转筒7通过第一锁紧件9锁紧固定在样品架1上，第一锁紧件9采用锁紧螺钉。铰接座8通过销轴连接伸缩杆3，伸缩杆3通过第二锁紧件10锁紧固定在铰接座8上，第二锁紧件10采用锁紧螺钉，伸缩杆3能够绕销轴在竖直平面内转动，伸缩杆3通过球头4连接支撑杆5，在支撑杆5上固定连接托盘6。所述伸缩杆3包括底杆11，在底杆11上套接调节杆12，在调节杆12的一侧设有套接在底杆11上的套筒13，调节杆12连接所述球头4。底杆11和调节杆12之间通过第三锁紧件14锁紧固定，第三锁紧件14采用锁紧螺钉。结合图3所示，所述伸缩杆3还可以采用以下结构：它包括下杆15，在下杆15上连接螺纹套筒16，螺纹套筒16还连接上杆17，上杆17连接所述球头4，在下杆15和所述上杆17上均连接一个锁紧螺母18，两个锁紧螺母18均与所述螺纹套筒16对应锁紧配合。球头4为现有技术，通过球头4能够实现托盘6进行360°无死角的旋转，样品架1固定在伸缩杆3末端，并且始终可调整到与靶材成垂直状态，只要对伸缩杆进行一定角度的调节，即可调整靶基距。当需要进行两种以上元素掺杂时，通过伸缩杆长度和上下角度的调节，使在整个镀膜过程中，在伸缩杆360°旋转时，使样品架能经过每个靶材，这样即可顺利完成镀膜。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于磁控溅射设备的旋转样品台，其特征在于：包括样品架（1），在样品架（1）上设有旋转座（2），在旋转座（2）上转动配合连接伸缩杆（3），伸缩杆（3）通过球头（4）连接支撑杆（5），在支撑杆（5）上固定连接托盘（6）。

【技术特征摘要】
1.一种用于磁控溅射设备的旋转样品台，其特征在于：包括样品架（1），在样品架（1）上设有旋转座（2），在旋转座（2）上转动配合连接伸缩杆（3），伸缩杆（3）通过球头（4）连接支撑杆（5），在支撑杆（5）上固定连接托盘（6）。2.根据权利要求1所述的一种用于磁控溅射设备的旋转样品台，其特征在于：所述样品架（1）为杆状结构，所述旋转座（2）包括与样品架（1）套接的转筒（7），在转筒（7）上通过铰接座（8）连接所述伸缩杆（3）。3.根据权利要求2所述的一种用于磁控溅射设备的旋转样品台，其特征在于：所述转筒（7）通过第一锁紧件（9）锁紧固定在所述样品架（1）上，所述伸缩杆（3）通过第二锁紧件（10）锁紧固定在所述铰接座（8）上。4.根据权利要求1所述的一种用于磁控溅射设备的旋转样品台，其特征在于：所述伸...

【专利技术属性】
技术研发人员：沈洪雪，金克武，姚婷婷，杨勇，李刚，
申请(专利权)人：中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽,34