The present invention discloses a magnetron sputtering device and a shield board component, in which the shield board assembly includes a first shielded baffle and a second shield board, the first shield and / or second baffles are arranged as an arc, and the center of the first shield and the core of the second shield are respectively set on both sides of the baffle assembly. As the first shield and second baffles are arranged in a curved structure in advance, it is beneficial to the release of the internal force of the shield, thus reducing the risk of the deformation of the shield.
【技术实现步骤摘要】
磁控溅射设备及其遮挡板组件
本专利技术涉及磁控溅射设备。尤其与遮挡板组件有关。
技术介绍
薄膜晶体管行业中磁控溅射设备中的装载托盘通常承载基板在高温高真空腔体内镀膜。为防止等离子体污染腔体，通常需要使用遮挡板对等离子体进行隔离。遮挡板一般是铝合金材质，在高温的腔体内使用时经常出现变形现象，变形后的遮挡板容易在交叠的位置摩擦产生颗粒，摩擦产生的颗粒通常会在腔体内不断聚集，而后在放电过程中会射到基板上，造成产品端由于短路或者断路而造成的产品不良高发，从而降低产品良率。并且，变形后的遮挡板应力聚集在螺丝固定的位置，使得拆除极其费力，影响作业效率。特别的，在薄膜晶体管中栅极和源漏极一般采用金属钼或者钼合金，在使用过程中，钼或者钼合金将沉积在腔体内的遮挡板上，导致遮挡板应力增大，使用过程中经常出现变形的情况，这种变形的情况出现后一般会维修或者严重的直接报废，造成了极大损失。另外，当遮挡板发生变形时，设备不能提示报警，无法获知腔体内的摩擦和颗粒情况。因此，如何提供一种遮挡板，以防止自身变形，是本领域技术人员亟需解决的技术问题。
技术实现思路
本专利技术的一个主要目的在于克服上述变...
【技术保护点】
1.一种遮挡板组件，包括相互搭接的第一遮挡板和第二遮挡板，其特征在于，所述第一遮挡板和/或所述第二遮挡板设置为弧形结构，所述第一遮挡板的圆心与所述第二遮挡板的圆心分别设置于所述遮挡板组件的两侧。
【技术特征摘要】
1.一种遮挡板组件，包括相互搭接的第一遮挡板和第二遮挡板，其特征在于，所述第一遮挡板和/或所述第二遮挡板设置为弧形结构，所述第一遮挡板的圆心与所述第二遮挡板的圆心分别设置于所述遮挡板组件的两侧。2.如权利要求1所述的遮挡板组件，其特征在于，所述第一遮挡板具有第一弧度，所述第一弧度为0.7π-0.9π，所述第一遮挡板的弧长为0.3-0.5m，以及/或者所述第二遮挡板具有第二弧度，所述第二弧度为0.7π-0.9π，所述第二遮挡板的弧长为0.3-0.5m。3.如权利要求1所述的遮挡板组件，其特征在于，所述遮挡板组件还包括滚珠组件，所述滚珠组件设置于所述第一遮挡板和所述第二遮挡板的搭接位置，所述滚珠组件设置于所述第一遮挡板和所述第二遮挡板两者中的一者上，所述滚珠组件的滚珠朝向所述第一遮挡板和所述第二遮挡板两者中的另一者的搭接面。4.如权利要求3所述的遮挡板组件，其特征在于，所述滚珠组件还包括固定件以及用于连接所述滚珠和所述固定件的连接件，所述固定件具有通孔，所述连接件设置于所述通孔内，所述滚珠可转动地设置于所述通孔的一端，所述固定件固定设置于所述第一遮挡板或者所述第二遮挡板预设的凹槽内，所述滚珠的滚珠面突出于所在遮挡板的搭接面。5.如权利要求3所述的遮挡板组件，其特征在于，所述搭接面设置于所述第一遮挡板或者所述第二遮挡板...
【专利技术属性】
技术研发人员：毛瑞锋，金相起，程贯杰，李阳阳，宋朱晓，杨磊，王宜申，候建新，李智，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11
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