A polishing machine includes the base frame and the polishing machine body. The base frame comprises a base set on the floor, a hydraulic lifting frame set on the base, an upper platform set at the top of the hydraulic lifting frame, a round bar on both sides of the base, and a limit button set in the round rod on both sides of the upper platform, and a horizontal rotation at the inner center of the upper platform. A rotating motor, the rotating shaft of a horizontal rotating motor is connected up to the upper platform and slid in contact with the upper platform. A hydraulic lift column is fixed on the substrate, a pillar is provided on the hydraulic lift column, a top shelf is provided on the top of the pillar, a horizontal link on the top shelf is connected with a horizontal bar, the bottom of the bar has a T type groove with a scale, and a T slot inside. The slide block is connected with a hydraulic push rod at the bottom of the slide block, and the bottom end of the hydraulic push rod is connected with the body of the polishing machine. The side of the slide block is connected with the piston rod of the pushing oil cylinder fixed to the bottom of the bar. Instead of the traditional manual operation mode, it has multi-directional multi-level adjustment function, flexible operation and strong practicability.
【技术实现步骤摘要】
一种抛光机
本技术涉及抛光机,尤其与一种可多向多级调节的抛光机结构有关。
技术介绍
抛光机通过其内部的电机带动抛光盘高速旋转与待处理表面进行摩擦,以达到抛光效果。现有抛光机,多存在较大的局限性,手动操作型,虽然较为灵活,但需要耗费较大的人工,不利于批量化作业;也有部分抛光机能实现一定的自动化操作,但是无法适应较多的作业环境情况,需要加以改进。
技术实现思路
为解决上述问题,本技术提供一种抛光机,替代传统的手工作业方式,且具有多向多级调节功能,利于实际操作中适用于不同的作业环境和作业情况,操作灵活性提高,实用性强。为了实现本技术的目的,拟采用以下技术手段:一种抛光机,包括基架以及基架上设置的抛光机本体,其特征在于,基架包括设置于底板上的基座、设置于基座的液压升降架、设置于液压升降架顶端的上平台,基座两侧设有圆杆,上平台两侧设有套设于圆杆内的限位扣,限位扣外侧穿设有拧紧螺栓,上平台的内部中心处设有水平旋转电机,水平旋转电机的转轴向上连接位于上平台上且与上平台滑动接触的基板,基板上固定有液压升降柱,液压升降柱上设有支柱,支柱顶端设有顶架,顶架上水平连接有横杆,横杆与支柱之间设有斜撑,横杆底面设有带刻度的T型滑槽,T型滑槽内设有滑块,滑块底面连接有液压推杆,液压推杆底端连接抛光机本体,滑块的侧面与固定于横杆底面的顶推油缸活塞杆连接,其中,液压升降架、水平旋转电机、液压升降柱、顶推油缸、液压推杆、抛光机本体均连接PLC控制器。本技术有益效果:1、将抛光机与基架结合,实现了作业时候的多级多项调节功能。基架为可移动、升降、旋转的结构体,可通过万向轮进行行走移动;为万向轮增加动力 ...
【技术保护点】
1.一种抛光机,包括基架以及基架上设置的抛光机本体(72),其特征在于,基架包括设置于底板(0)上的基座(1)、设置于基座(1)的液压升降架(2)、设置于液压升降架(2)顶端的上平台(3),基座(1)两侧设有圆杆(21),上平台(3)两侧设有套设于圆杆(21)内的限位扣(31),限位扣(31)外侧穿设有拧紧螺栓(32),上平台(3)的内部中心处设有水平旋转电机(33),水平旋转电机(33)的转轴向上连接位于上平台(3)上且与上平台(3)滑动接触的基板(4),基板(4)上固定有液压升降柱(41),液压升降柱(41)上设有支柱(42),支柱(42)顶端设有顶架(5),顶架(5)上水平连接有横杆(6),横杆(6)与支柱(42)之间设有斜撑,横杆(6)底面设有带刻度的T型滑槽(61),T型滑槽(61)内设有滑块(7),滑块(7)底面连接有液压推杆(71),液压推杆(71)底端连接抛光机本体(72),滑块(7)的侧面与固定于横杆(6)底面的顶推油缸(62)活塞杆连接,其中,液压升降架(2)、水平旋转电机(33)、液压升降柱(41)、顶推油缸(62)、液压推杆(71)、抛光机本体(72)均连接PL ...
【技术特征摘要】
1.一种抛光机,包括基架以及基架上设置的抛光机本体(72),其特征在于,基架包括设置于底板(0)上的基座(1)、设置于基座(1)的液压升降架(2)、设置于液压升降架(2)顶端的上平台(3),基座(1)两侧设有圆杆(21),上平台(3)两侧设有套设于圆杆(21)内的限位扣(31),限位扣(31)外侧穿设有拧紧螺栓(32),上平台(3)的内部中心处设有水平旋转电机(33),水平旋转电机(33)的转轴向上连接位于上平台(3)上且与上平台(3)滑动接触的基板(4),基板(4)上固定有液压升降柱(41),液压升降柱(41)上设有支柱(42),支柱(42...
【专利技术属性】
技术研发人员:邓磊,杨耀光,
申请(专利权)人:绵阳诺达佳工业控制技术有限公司,
类型:新型
国别省市:四川,51
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