一种关于硅片的自动清洗烘干设备制造技术

技术编号:18323125 阅读:83 留言:0更新日期:2018-07-01 00:59
本发明专利技术公开了一种关于硅片的自动清洗烘干设备,涉及电子设备领域,包括设备主体,所述设备主体包括烘干间和清洗间,所述烘干间位于清洗间的上方,所述设备主体的上方设置有气压缸,所述气压缸的伸缩杆端部设置有内部中空的长方体状放置箱;所述放置箱的一侧面设置有超声波发生器,其相邻的侧面设置有开口,所述放置箱的内部平行设置有多层放置架,所述放置架内部中空,其一端设置有开口,另一端设置有挡板,所述挡板中部活动设置有抽块,解决了现有技术中的硅片清洗时黏在一起使清洗不够彻底,且取出时易损坏硅片的技术问题。

An automatic cleaning and drying equipment for silicon wafers

The invention discloses an automatic cleaning and drying device for a silicon chip, which includes an apparatus body. The main body of the equipment includes a drying room and a cleaning room. The drying room is located above the cleaning room. The upper part of the device is provided with a pressure cylinder, and the end of the telescopic rod is provided with the inside of the pressure cylinder. An ultrasonic generator is arranged on one side of the box, and an opening is arranged on the adjacent side. The inner of the placing box is arranged in parallel with a multilayer placement frame, the inside of the placing frame is hollow, one end is provided with an opening, and the other end is provided with a baffle. The middle of the baffle is movable in the middle. The utility model solves the technical problem that the silicon wafer in the prior art is sticky together to make the cleaning not thorough enough and easy to damage the silicon wafer when taking out.

【技术实现步骤摘要】
一种关于硅片的自动清洗烘干设备
本专利技术涉及电子设备
,尤其涉及一种关于硅片的自动清洗烘干设备。
技术介绍
单晶硅是一种比较活泼的非金属元素,是晶体材料的重要组成部分,处于新材料发展的前沿。其主要用途是用作半导体材料和利用太阳能光伏发电、供热等。由于太阳能具有清洁、环保、方便等诸多优势,近三十年来,太阳能利用技术在研究开发、商业化生产、市场开拓方面都获得了长足发展,成为世界快速、稳定发展的新兴产业之一。在太阳能硅片生产过程中,需要利用清洗机对太阳能硅片进行清洗,接着清洗好的太阳能硅片进入分选机进行烘干,现有的清洗设备和烘干设备均为独立的个体,清洗完毕后需要人工操作夹出后再放入烘干装置内,硅片薄且脆,在反复夹取的过程中易损坏硅片,且工作效率低下,导致生产成本较高,且如果将硅片叠放入清洗装置内室,硅片会黏在一起,导致清洗不干净,同时烘干效率也低。
技术实现思路
基于以上技术问题,本专利技术提供了一种关于硅片的自动清洗烘干设备,解决了现有技术中的硅片清洗时黏在一起使清洗不够彻底,且取出时易损坏硅片的技术问题。为解决以上技术问题,本专利技术采用的技术方法如下:一种关于硅片的自动清洗烘干设本文档来自技高网...
一种关于硅片的自动清洗烘干设备

【技术保护点】
1.一种关于硅片的自动清洗烘干设备,其特征在于,包括设备主体,所述设备主体包括烘干间(1)和清洗间(2),所述烘干间(1)位于清洗间(2)的上方,所述烘干间(1)和清洗间(2)的上方均设置有开口(11),所述烘干间(1)的两侧面对称设置有出风机(3)和吸风机(4),所述清洗机的两侧面对称设置有出水装置(5)和汲水装置(6),所述设备主体的上方设置有气压缸(7),所述气压缸(7)的伸缩杆(8)端部设置有内部中空的长方体状放置箱(9);所述放置箱(9)的一侧面设置有超声波发生器(10),其相邻的侧面设置有开口(11),所述放置箱(9)的内部平行设置有多层放置架(12),所述放置架(12)内部中空,...

【技术特征摘要】
1.一种关于硅片的自动清洗烘干设备,其特征在于,包括设备主体,所述设备主体包括烘干间(1)和清洗间(2),所述烘干间(1)位于清洗间(2)的上方,所述烘干间(1)和清洗间(2)的上方均设置有开口(11),所述烘干间(1)的两侧面对称设置有出风机(3)和吸风机(4),所述清洗机的两侧面对称设置有出水装置(5)和汲水装置(6),所述设备主体的上方设置有气压缸(7),所述气压缸(7)的伸缩杆(8)端部设置有内部中空的长方体状放置箱(9);所述放置箱(9)的一侧面设置有超声波发生器(10),其相邻的侧面设置有开口(11),所述放置箱(9)的内部平行设置有多层放置架(12),所述放置架(12)内部中空,其一端设置有开口(11),另一端设置有挡板(13),所述挡板(13)中部活动设置有抽块(14)。2.根据权利要求书1所述的一种关于硅片的自动清洗烘干设备,其特征在于,所述放置箱(9)的底面、放置架(12)的上面、放置架(12)的下面以及挡板(13)的材料均为网状钢材。3.根据权利要求书1所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员:郑国君
申请(专利权)人:郑州金恒电子技术有限公司
类型:发明
国别省市:河南,41

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