一种抛光垫及用于制备抛光垫的方法技术

本发明专利技术提供一种抛光垫及用于制备抛光垫的方法，抛光垫的制备方法包括如下步骤：将液体预聚物、固化剂与中空微元件在50～85℃混合，以形成可固化混合物，所述可固化混合物的粘度为3000‑20000cps，凝胶后固化，即得；所述液体预聚物为由多元醇和异氰酸酯为原料反应而成的聚氨酯预聚物；该凝胶模具采用在模具上布设实时温度传感器和第一数字控制系统、在抽风罩上布设红外测温仪和第二数字控制系统实现对模具中反应物料温度的调控。本发明专利技术提供的制备方法中给出了浇注及凝胶过程中最优的工艺条件，该凝胶模具能够准确、实时调控凝胶化温度变化，本发明专利技术的抛光垫从上到下的均匀性高，条纹少，密度和性能均一，产品的良率接近100％。 1

A polishing pad and a method for preparing polishing pad

The invention provides a polishing pad and a method for preparing a polishing pad. The preparation method of the polishing pad comprises the following steps: a liquid prepolymer, a curing agent and a hollow microelement are mixed at 50~85 C to form a curable mixture, the viscosity of the curable mixture is 3000 20000cps, after the gel is solidified, or obtained. The liquid prepolymer is a polyurethane prepolymer which is composed of polyol and isocyanate as raw material. The gel mold is used to set the real-time temperature sensor and the first digital control system on the mold, the infrared thermometer is set on the exhaust hood and the second digital control system is used to control the temperature of the reaction material in the mold. The preparation method provided by the invention provides the optimal process conditions in the process of pouring and gel. The gel mold can accurately and realtime regulate the change of gelation temperature. The invention has high uniformity, little stripes, uniform density and performance, and the yield of the product is close to 100%. One

【技术实现步骤摘要】
一种抛光垫及用于制备抛光垫的方法
本专利技术涉及化学机械平面化处理的抛光
，更具体地，涉及一种抛光垫及用于制备抛光垫的方法。
技术介绍
在集成电路和其他电子设备制造中，需要将沉积在半导体晶片表面的多层导电材料、半导体材料和介电材料去除。化学机械平面抛光或化学机械抛光(CMP)是目前用于工件表面抛光最常用的技术。CMP是将化学侵蚀和机械去除结合的技术，也是对半导体晶片之类平面化最常用的技术。目前，常规的CMP过程中，安装在设备的支架组件上，同时设置抛光过程中与抛光垫接触的位置。晶片在抛光过程中被施加了可控压力，压向抛光垫，通过外驱力使抛光垫相对于晶片转动。转动过程中有持续性滴入的抛光液，从而通过抛光垫表面的机械作用以及抛光液的化学作用，对晶片表面进行平坦化。美国专利US5578362R提供了一种已知技术的抛光垫，该抛光垫包含有许多分散的微球体的聚合物基质。所述的微球体通常混入一种液体聚合物基质，然后与另外的固化原料混合，最后移入模具中固化，然后将模制的物件切割成抛光垫。可惜的是，用这种方法形成的抛光垫可能有缺陷性条纹，密度分布不均和良率低的问题。缺陷性条纹是聚合物基质中微球体的堆本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种抛光垫的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

【技术特征摘要】
1.一种抛光垫的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：将液体预聚物、固化剂与中空微元件在50～85℃混合，以形成可固化混合物，所述可固化混合物的粘度为3000-20000cps，凝胶后固化，即得；所述液体预聚物为由多元醇和异氰酸酯为原料反应而成的聚氨酯预聚物。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，还包括将所述可固化混合物转移到模具中进行凝胶化；所述模具初始的温度为30-70℃，控制凝胶化过程中反应物料的温度与所述模具的温差为5-25℃；优选为，所述模具初始的温度为35-65℃，控制凝胶化过程中反应物料的温度与所述模具的温差为8-20℃。3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在凝胶化过程中控制反应物料的升温速率为0-6℃/min；优选为0-5℃/min。4.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述模具包括基底和中空柱体结构的外壁，所述基底和外壁之间、且位于所述基底上方的空间构成模腔；所述基底和外壁上均设有用于实时记录反应物料温度的实时温度传感器和用于根据所述反应物料温度进行调整所述模具加热状态的第一数字控制系统。5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述模腔为圆...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱顺全，李翔，刘敏，
申请(专利权)人：湖北鼎龙控股股份有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42