表面处理装置制造方法及图纸

一种表面处理装置，可大幅度缩短从第一表面处理工序结束到第二表面处理工序开始为止放置在空气中的时间。上部开放舱室（１０）的中间被中间隔断（５０）隔开的下方一侧形成第一表面处理槽（２０），其上方一侧形成喷淋室（３０）。在中间隔断（５０）上设有工件（Ｗ）可沿上下方向通过的开口部（５１）和可开闭该开口部（５１）的开闭盖（５５）。在将工件（Ｗ）浸渍在第一表面处理槽（２０）储存的第一处理液（２８）内的状态下，并且在开闭盖（５５）关闭的状态下实行第一表面处理工序，同时可在开闭盖（５５）关闭的状态下，并且在喷淋室（３０）内一边向工件（Ｗ）喷淋第二处理液（３８）一边实行第二表面处理工序。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种表面处理装置，顺序实行采用第一处理液对工件进行表面处理的第一表面处理工序和采用第二处理液对第一表面处理结束后的工件进行表面处理的第二表面处理工序。
技术介绍
如图6所示，顺序实行采用第一处理液28P对工件(被处理物)W进行表面处理的第一表面处理工序，和采用第二处理液38P对第一表面处理结束后的工件W进行表面处理的第二表面处理工序的表面处理装置是众所周知的。具体地说，在图6中，全工序浸渍方式装置的第一表面处理槽20P和第二表面处理槽30P是沿工件W的输送(H…H1，H2，H3)方向串连设置的。另外，在第一表面处理槽20P的上游侧(图中左侧)还串连设置有前处理槽(后处理槽)和其他的槽。工件W在从前置处理槽(图中省略)向H1方向的水平输送结束后向D1方向下降，浸渍在储存有第一处理液28P的第一表面处理槽20P中并实行第一表面处理工序。在第一表面处理工序结束后，工件W向U1方向上升，然后向H2方向水平输送。接着，工件W向D2方向下降，浸渍在储存有第二处理液38P的第二表面处理槽30P中并实行第二表面处理工序。在第二表面处理工序结束后，工件W向U2方向上升，并向H3方向水平输送，以便实行其他的处理工序或后处理工序。但是，在高品质产品(例如电子部件等)的制造现场，第一表面处理工序结束后的工件W要尽可能快地实行第二表面处理工序。可是，由于技术、设备成本、布局等诸多原因，在缩短向U1方向的上升送出、向H2方向的水平输送和向D2方向的下降送入的各时间上是有限制的。这样一来，在第一表面处理是例如蚀刻处理、而第二表面处理是例如水洗处理的情况下，当从第一表面处理工序结束后到第二表面处理工序开始为止放置在空气中的时间长于所需的时间时，由于药液的反应速度很快，因附着、残存在工件W的表面上的蚀刻处理液而产生过剩蚀刻或产生斑痕、生成氧化膜等不良情况(品质恶化)。换言之，不能进一步提高品质。而且，由于在向H2方向的水平输送中附着、残存的第一处理液从工件W上飞散，有可能污染周围的环境并因液性状而对人带来危险。另外，由于第一处理液的组成不同而从上部为开放状态的第一表面处理槽中产生大量的气体或雾气，所以操作环境恶化而要求改善。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种表面处理装置，能够大幅度缩短从第一表面处理工序结束到第二表面处理工序开始为止放置在空气中的时间。本专利技术所涉及的表面处理装置具有使工件浸渍在第一处理液中、实施对工件进行表面处理的第一表面处理工序的表面处理槽，对该第一表面处理结束后的工件喷淋第二处理液、实施对工件进行表面处理的第二表面处理工序的喷淋室，设在配置于下侧的上述表面处理槽和配置于上侧的上述喷淋室之间的带开闭盖的上下隔断结构，使工件从上方外部通过喷淋室和开放的开闭盖，下降送入上述表面处理槽内，并可在下降送入后关闭开闭盖的状态下实行第一表面处理工序，同时可使第一表面处理工序结束后的工件通过开放的开闭盖，上升到上述喷淋室内，并且可在上升后关闭开闭盖的状态下实行第二表面处理工序，可将第二表面处理工序结束后的工件从喷淋室向上方外部上升送出。在本专利技术中，使工件从上方外部送入喷淋室内，并使其通过开放的开闭盖，下降送入第一表面处理槽内。下降送入后关闭开闭盖。然后，在关闭开闭盖的状态下，并在将工件浸渍在表面处理槽储存的第一处理液内的状态下，实行第一表面处理工序。第一表面处理工序结束后开闭盖打开，使工件立即通过开放的开闭盖，上升到喷淋室内。上升后开闭盖关闭。然后，在开闭盖关闭的状态下，并在将第二处理液喷淋在工件表面上的同时实行第二表面处理工序。第二表面处理工序结束后的工件从喷淋室向上方外部上升送出。因此，可大幅度缩短从第一表面处理工序结束到第二表面处理工序开始为止放置在空气中的时间，同时实现品质提高和作业环境的改善。由于不会有大量的气体或雾气从表面处理槽中泄漏，并且不会向外部飞散，所以可进一步保持良好的作业环境。而且，在本专利技术中，可具有使表面处理槽和喷淋室一体化的上部开放舱室。在该上部开放舱室的中间设置带上述开闭盖的隔断结构，隔着上述开闭盖隔断结构，上述上部开放舱室的下侧形成上述表面处理槽，其上侧形成上述喷淋室。这样一来，由于喷淋室和第一表面处理槽是由一体结构的舱室构成的，所以可进一步保持液密性，同时实现结构简单、成本降低。而且，在本专利技术中，上述第一处理液为药剂溶融液，上述第二处理液为水。由于第一处理液为药剂溶融液，而接着进行表面处理的第二处理液是水，所以能够迅速地用水冲洗实行第一表面处理工序后的工件上附着、残存的药剂溶融液，因而可使实行第一表面处理工序后的各工件表面品质稳定，并良好地保持。另外，在本专利技术中，上述第一处理液为蚀刻处理液或剥离处理液，上述第二处理液为水。由于第一处理液是反应速度快的蚀刻处理液(或者剥离处理液)，接着进行表面处理的第二处理液是水，所以能够迅速地用水冲洗实行第一表面处理工序后的各工件上附着、残存的蚀刻处理液(或者剥离处理液)。因此，不会发生实行蚀刻处理(或剥离处理)后的工件被过剩处理(过剩蚀刻或过剩剥离)，不会产生斑痕，实现了进一步的高品质化。附图说明图1为用于说明本专利技术的实施方式的结构图。图2为用于说明本专利技术的实施方式所涉及的驱动控制单元的框图。图3为用于说明本专利技术的实施方式的动作、处理工序实行顺序的附图。图4为用于说明本专利技术的实施方式的动作、处理工序实行顺序的流程图(1)。图5为用于说明本专利技术的实施方式的动作、处理工序实行顺序的流程图(2)。图6为用于说明现有例子的附图。具体实施例方式以下，参照附图对本专利技术的实施方式加以详细说明。本表面处理装置如图1～图5所示，基本的功能与现有例子的情况(图6)相同，可顺序地实行对工件W进行第一表面处理的第一表面处理工序，和对第一表面处理工序结束后的工件W进行第二表面处理的第二表面处理工序。另外，本表面处理装置可在浸渍在第一表面处理槽(表面处理槽)20中储存第一处理液28内的状态下实行第一表面处理，并可在喷淋室30内一边对工件(被处理物)W喷淋第二处理液38一边实行第二表面处理工序。在本表面处理装置中，将第一表面处理槽20配置在下侧，并将喷淋室30配置在上侧，同时在第一表面处理槽20和喷淋室30之间设有带开闭盖55的上下隔断结构(50)。这样，可使工件W从上方外部通过喷淋室30和开放的开闭盖55下降送入到第一表面处理20内，并可在下降送入后关闭了开闭盖55的状态下实行第一表面处理工序。另外，可使第一表面处理工序结束后的工件W通过开放的开闭盖55上升到喷淋室30内，并可在上升后关闭了开闭盖55的状态下实行第二表面处理工序，并可将第二表面处理工序结束后的工件W从喷淋室30上升送出到上方外部。具体地说，在该实施方式中，上部开放舱室10的中间由中间隔断50隔开的下方一侧形成第一表面处理槽20，上方一侧形成喷淋室30，在中间隔断50上设有工件W可沿上下方向通过的开口部51和可开闭该开口部51的开闭盖55，可在将工件W浸渍在第一表面处理槽20中储存的第一表面处理液28内的状态下、并且在开闭盖55关闭的状态下实行第一表面处理工序，同时可在开闭盖55关闭的状态下在喷淋室30内一边对工件W喷淋第二处理液38一边实行第二表面处理工序。图1中，舱室10为上部开放、有底的一体本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种表面处理装置，具有：使工件浸渍在第一处理液中、实施对工件进行表面处理的第一表面处理工序的表面处理槽，对该第一表面处理结束后的工件喷淋第二处理液、实施对工件进行表面处理的第二表面处理工序的喷淋室，设在配置于下侧的上述表面处理槽和配置于上侧的上述喷淋室之间的带开闭盖的上下隔断结构， 使工件从上方外部通过喷淋室和开放的开闭盖，下降送入上述表面处理槽内，并可在下降送入后关闭开闭盖的状态下实行第一表面处理工序，同时可使第一表面处理工序结束后的工件通过开放的开闭盖，上升到上述喷淋室内，并且可在上升后关闭开闭盖的状态下实行第二表面处理工序，可将第二表面处理工序结束后的工件从喷淋室向上方外部上升送出。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：渡部昌秀，薄田仁志，
申请(专利权)人：日本爱铝美克斯株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]