【技术实现步骤摘要】
本技术涉及离子源，这种离子源适用于离子注入机，特别涉及一种用于重金属引出的坩埚蒸发器离子源。
技术介绍
在半导体制造工艺离子注入工艺中，要求离子注入机设备不但能使用气体注入B、P、AS等离子，还要求能注入Sb、In等重金属离子，由于Sb、In等重金属元素不能通过气态化合物分子直接送气，而只能使用卤化物固体气化工作，这样必须使用固体坩埚蒸发器。
技术实现思路
本技术是针对现有离子源技术中离子源只能使用气体工作的局限，提出一种用于离子源重金属离子引出的坩埚蒸发器，使ELS离子源能使用固体原料工作引出Sb、In等重金属离子，解决了现有技术中的一般离子源使用固态原料工作稳定性差的问题。本技术的技术方案是采用双坩埚设计以避免交叉污染；坩埚采用石墨材料；加热方式采用石英灯辐射加热方式工作；温度测量采用热电偶测量；同时采用新型设计的加热温控系统，使用计算机闭环自动控制和调节坩埚蒸发器的工作温度；一种用于离子源重金属离子引出的坩埚蒸发器包括支撑座、加热灯、温度传感器、石墨坩埚、送气杆、支撑板，其特征在于所述的支撑座固定支撑加热灯、温度传感器、石墨坩埚及支撑板；所述的加热灯为石英碘钨灯，给石墨坩埚辐射加热；所述的温度传感器为热电偶，精确测量石墨坩埚加热温度；所述的石墨坩埚为石墨材料，内装固体蒸发原料；所述的送气管将石墨坩埚蒸发的固体蒸气送入弧室；所述的支撑板固定支撑加热灯、温度传感器和石墨坩埚。本技术具有如下显著优点1.使用特疏的非金属石墨坩埚，减少温度上升的降低时间；2.使用石英灯加热方式，有效减少石墨坩埚温度余热效应； 3.采用双坩埚结构，减少原料污染，提高离子纯度；4...
【技术保护点】
一种用于离子源重金属离子引出的坩埚蒸发器包括：支撑座、加热灯、温度传感器、石墨坩埚、送气杆、支撑板，其特征在于：所述的支撑座固定支撑加热灯、温度传感器、石墨坩埚及支撑板；所述的石墨坩埚为石墨材料，内装固体蒸发原料；所 述的支撑板固定支撑加热灯、温度传感器和石墨坩埚。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：戴习毛，
申请(专利权)人：北京中科信电子装备有限公司，
类型：实用新型
国别省市：11[中国|北京]
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