立式双室双面镀磁控溅射卷绕镀膜机制造技术

技术编号:1811260 阅读:226 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术公开了一种双室双面镀磁控溅射卷绕镀膜机,其特征是:整体机体设置成一个倒“U”形真空室体结构,两个收放料室(8、8a)位于下方两端,两收放料室(8、8a)上方分别连接有两个立式隧道式镀膜室(6、6a),两镀膜室(6、6a)由上方的连接通道(1)连通。本实用新型专利技术是一种处理能力高、能实现不同材质的多层膜组合且操作和维护方便的双室双面镀磁控溅射卷绕镀膜机。(*该技术在2014年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种磁控溅射卷绕镀膜机,特别是涉及一种双室双面镀磁控溅射卷绕镀膜机。
技术介绍
现有技术中,柔性基材如布料、尼龙、聚脂、聚酰亚胺膜等的金属化处理设备一般是立式单室双面磁控溅射卷绕镀,设置二至四对靶位,其不足之处是1、由于靶位太少,生产能力受限制,很难完成不同材质多层膜的组合;2、单室结构靶位设置不能太多,否则高度方向太大,造成操作、维护诸多不便,对厂房造价也不利。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是提供一种处理能力高、能实现不同材质的多层膜组合且操作和维护方便的双室双面镀磁控溅射卷绕镀膜机。为了解决上述技术问题,本技术采用的技术方案是一种双室双面镀磁控溅射卷绕镀膜机,其特征是整体机体设置成一个倒“U”形真空室体结构,两个收放料室位于下方两端,两收放料室上方分别连接有两个立式隧道式镀膜室,两镀膜室由上方的连接通道连通。采用上述技术方案的双室双面镀磁控溅射卷绕镀膜机,被镀物料从左侧的收放料室经左侧的镀膜室镀膜,再经过连接通道进入右侧的镀膜室镀膜,直至右侧的收放料室收卷。整卷物料镀完后,根据产品要求,也可以不限次数的往返运行。本技术为一种立式双室双面镀磁控溅射卷绕镀膜机,是一个倒置的“U”形结构,这种双室镀膜机结构,允许设置更多的靶位,生产能力成倍提高,容易实现不同材质的多层膜组合。由于整个工艺过程是在真空状态下完成的,产品质量好,工艺稳定,操作方便,生产过程无毒、无害、不污染环境。综上所述,本技术是一种处理能力高、能实现不同材质的多层膜组合且操作和维护方便的双室双面镀磁控溅射卷绕镀膜机。附图说明附图是本技术结构截面示意图。具体实施方式参见附图,本技术是一个由两个收放料室8、8a,两个立式隧道式镀膜室6、6a,一个连接通道1组成的密封倒置“U”形真空室体结构,两个收放料室8、8a位于下方两端,两收放料室8、8a上方分别连接有两个立式隧道式镀膜室6、6a,两镀膜室6、6a由上方的连接通道1连通。每个立式隧道式镀膜室6、6a左右两侧对称设置二至四对磁控溅射阴极5、5a,每个阴极的溅射功率由外部电源馈入,靶材则根据产品要求配置。每个阴极5、5a上下两侧均有阳极板4、4a。在收放料室8、8a设有收放料辊9、9a。为了保证物料7(布料、尼龙、聚脂、聚酰亚胺膜)往返运行,在镀膜室6、6a里设置有导向辊2、2a,在连接通道1里,设有导向辊1a。镀膜室6、6a在0.1-0.5Pa氩气压强下,在阴极5、5a馈入直流(或高频、中频)电源后,在阴极5、5a附近就会形成辉光放电,阴极5、5a在电场和磁场的共同作用下,由于离子的撞击,阴极5、5a上的物质就以原子或分子态的形式逃逸(溅射),并沉积在被镀物料7上。被镀物料7在收放料辊9牵引驱动下,从收放料辊9a依次通过压紧辊3a和导向辊2a、1a、2进入另一镀膜室6,被镀物料7再次被沉积上阴极5溅射出来的物质,最后收放料辊9卷绕,一直到整卷被镀物料镀完。如需要可往返多次,实现被镀物料的金属化处理和多种材质的多层膜组合。由上可知,本技术为一种立式双室双面镀磁控溅射卷绕镀膜机,是一个倒置的“U”形结构,这种双室镀膜机结构,允许设置更多的靶位,生产能力成倍提高,容易实现不同材质的多层膜组合。由于整个工艺过程是在真空状态下完成的,产品质量好,工艺稳定,操作方便,生产过程无毒、无害、不污染环境。权利要求一种双室双面镀磁控溅射卷绕镀膜机,其特征是整体机体设置成一个倒“U”形真空室体结构,两个收放料室(8、8a)位于下方两端,两收放料室(8、8a)上方分别连接有两个立式隧道式镀膜室(6、6a),两镀膜室(6、6a)由上方的连接通道(1)连通。专利摘要本技术公开了一种双室双面镀磁控溅射卷绕镀膜机,其特征是整体机体设置成一个倒“U”形真空室体结构,两个收放料室(8、8a)位于下方两端,两收放料室(8、8a)上方分别连接有两个立式隧道式镀膜室(6、6a),两镀膜室(6、6a)由上方的连接通道(1)连通。本技术是一种处理能力高、能实现不同材质的多层膜组合且操作和维护方便的双室双面镀磁控溅射卷绕镀膜机。文档编号C23C14/56GK2700342SQ20042003554公开日2005年5月18日 申请日期2004年4月7日 优先权日2004年4月7日专利技术者唐砾, 胡文彬, 彭建武, 施勤 申请人:长沙鑫邦工程新材料技术有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种双室双面镀磁控溅射卷绕镀膜机,其特征是:整体机体设置成一个倒“U”形真空室体结构,两个收放料室(8、8a)位于下方两端,两收放料室(8、8a)上方分别连接有两个立式隧道式镀膜室(6、6a),两镀膜室(6、6a)由上方的连接通道(1)连通。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:唐砾胡文彬彭建武施勤
申请(专利权)人:长沙鑫邦工程新材料技术有限公司
类型:实用新型
国别省市:43[中国|湖南]

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1