双面溅射真空卷绕连续镀膜设备制造技术

本实用新型专利技术公开的双面溅射真空卷绕连续镀膜设备，包括一个具有真空系统（１）的真空室（２）和能在真空室（２）内推进推出的工作小车（９）及平面靶（３），在工作小车（９）上设置有收、放卷辊（６、７）及多个导辊（４），收、放卷辊（６、７）以及各导辊（４）之间采用链条实现同步运动；其特征是所述平面靶（３）的内、外靶采用错位方式分别布置在工作小车（９）和真空室（２）的室体上。在真空室（２）的室体内设置有循环冷却水管（１０）。本实用新型专利技术与现有技术相比，具有以下优点：１．溅射区域内的温度分布均匀、平衡，并控制在２２０℃以下，保证了被镀基材能正常工作，提高了镀膜质量；２．采用水冷装置，大大提高了溅射效率和生产效能。（*该技术在2014年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及采用物理气相沉积技术，用真空磁控溅射方法，在各种柔性基材上连续沉积镍或其他金属薄膜的设备，特别是一种双面溅射真空卷绕连续镀膜设备。
技术介绍
以前电池行业和电子材料行业中，在柔性基材上，如网状聚氨脂泡沫塑料、化纤织物、聚酰亚胺薄膜、聚四氟薄膜镀上镍或其他金属，如铜、不锈钢、钛、银等，使其成为导电体多采用化学的方法，称之湿法，它工艺复杂，不利于环境保护，劳动条件也不好。为了解决上述问题，近几年来，一种采用物理气相沉积技术，用真空磁控溅射方法，在各种柔性基材上连续沉积镍或其他金属薄膜的设备开始投入使用。这种设备镀制的金属膜致密性好，厚度均匀，结合牢固，采用此设备不产生三废，劳动条件好，设备占地面积小。这类设备如公开号为CN2434311Y的中国专利“磁控溅射泡沫镍卷绕镀膜机”和公开号为CN2450227Y的中国专利“泡沫镍磁控溅射卷绕镀膜机”最为典型。它们基本上都是由一个真空室和设置在真空室内的收放卷辊以及磁控靶构成，收放卷辊上卷绕有被镀基材泡沫塑料。由于现有的镀膜机的磁控靶都是成对且相对设置的，这样使得溅射区域的温度偏高且散热困难，造成整个真空室内的工作温度不正常。
技术实现思路
本技术的专利技术目的是提供一种双面溅射真空卷绕连续镀膜设备，以解决现有磁控溅卷绕镀膜机存在的不足之处。为了实现上述专利技术目的，本技术采用的技术方案是双面溅射真空卷绕连续镀膜设备，包括一个具有真空系统的真空室和能在真空室内推进推出的工作小车及平面靶，在工作小车上设置有收、放卷辊及多个导辊，收、放卷辊以及各导辊之间采用链条实现同步运动；其特征是所述平面靶的内、外靶采用错位方式分别布置在工作小车和真空室的室体上。为了保证溅射时，真空室内能获得满意的真空度，本技术的真空系统设置在真空室的两旁。为了保证真空室内工作温度的正常，在本技术真空室的室体内设置有循环冷却水管。由于采用了如上的设计方案，本技术与现有技术相比，具有以下优点1、溅射区域内的温度分布均匀、平衡，并控制在220℃以下，保证了被镀基材能正常工作，提高了镀膜质量；2、采用水冷装置，大大提高了溅射效率和生产效能。附图说明图1是本技术的结构示意图。具体实施方式附图所示的双面溅射真空卷绕连续镀膜设备，包括几套具有强力抽速的真空系统1和真空室2，能在真空室2内推进推出的工作小车9及平面靶3，在工作小车9上设置有收、放卷辊6、7及多个导辊4，收、放卷辊6、7以及各导辊4之间采用链条实现同步运动；平面靶3的内、外靶采用错位方式分别布置在工作小车9和真空室2的室体上。真空系统1设置在真空室2的两旁。真空室2的室体内设置有循环冷却水管10。另外在工作小车9上设有多个冷却辊8。具体工作过程是在真空室2中，被镀基材5从放卷辊7经过多个导辊4和冷却辊8以及每对平面靶9的中间位置连续均匀地传送到收卷辊6上，在通过平面靶3时，平面靶3的金属靶材被充入的氩气电离后产生的氩离子轰击靶材而溅射出来，沉积在被镀基材5上而得到金属薄膜，完成溅射镀膜过程。权利要求1.双面溅射真空卷绕连续镀膜设备，包括一个具有真空系统(1)的真空室(2)和能在真空室(2)内推进推出的工作小车(9)及平面靶(3)，在工作小车(9)上设置有收、放卷辊(6、7)及多个导辊(4)，收、放卷辊(6、7)以及各导辊(4)之间采用链条实现同步运动；其特征是所述平面靶(3)的内、外靶采用错位方式分别布置在工作小车(9)和真空室(2)的室体上。2.根据权利要求1所述的双面溅射真空卷绕连续镀膜设备，其特征在于真空系统(1)设置在真空室(2)的两旁。3.根据权利要求1或2所述的双面溅射真空卷绕连续镀膜设备，其特征在于在真空室(2)的室体内设置有循环冷却水管(10)。4.根据权利要求1或2所述的双面溅射真空卷绕连续镀膜设备，其特征在于在工作小车(9)上还设有多个冷却辊(8)。5.根据权利要求3所述的双面溅射真空卷绕连续镀膜设备，其特征在于在工作小车(9)上还设有多个冷却辊(8)。专利摘要本技术公开的双面溅射真空卷绕连续镀膜设备，包括一个具有真空系统(1)的真空室(2)和能在真空室(2)内推进推出的工作小车(9)及平面靶(3)，在工作小车(9)上设置有收、放卷辊(6、7)及多个导辊(4)，收、放卷辊(6、7)以及各导辊(4)之间采用链条实现同步运动；其特征是所述平面靶(3)的内、外靶采用错位方式分别布置在工作小车(9)和真空室(2)的室体上。在真空室(2)的室体内设置有循环冷却水管(10)。本技术与现有技术相比，具有以下优点1.溅射区域内的温度分布均匀、平衡，并控制在220℃以下，保证了被镀基材能正常工作，提高了镀膜质量；2.采用水冷装置，大大提高了溅射效率和生产效能。文档编号C23C14/34GK2706479SQ20042003563公开日2005年6月29日 申请日期2004年4月14日 优先权日2004年4月14日专利技术者李云松, 李云辉, 李云程, 李云平 申请人:衡阳市真空机电设备有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
双面溅射真空卷绕连续镀膜设备，包括一个具有真空系统（１）的真空室（２）和能在真空室（２）内推进推出的工作小车（９）及平面靶（３），在工作小车（９）上设置有收、放卷辊（６、７）及多个导辊（４），收、放卷辊（６、７）以及各导辊（４）之间采用链条实现同步运动；其特征是所述平面靶（３）的内、外靶采用错位方式分别布置在工作小车（９）和真空室（２）的室体上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李云松，李云辉，李云程，李云平，
申请(专利权)人：衡阳市真空机电设备有限公司，
类型：实用新型
国别省市：43[中国|湖南]