一种用于对平的基片(3)连续进行镀膜的设备,具有两个主要是平面磁控管型的溅镀用阴极(4、5),这两个阴极并排地设在一个共同的、真空镀膜室(6)内,其靶子(7、8)固定在一个与基片(3)的运输平面(9)平行的平面上并由相同的材料构成。该设备还为每个阴极(4、5)设置一个气体喷入装置(10、11),分别有一种确定的循环气体通过这两个喷入装置被送入配属的靶子(7、8)的范围内。(*该技术在2017年保护过期,可自由使用*)
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种用于对平的基片,特别是对用于平的荧光屏玻璃板连续进行镀膜的设备。该设备具有两个主要是平面磁控管形的溅镀用阴极,这两个阴极并排地设在一个共用的真空镀膜室内,其靶子固定在一个与基片的运输平面平行的平面上,且这两个阴极由相同的材料构成。该设备还为每个阴极设置一个气体喷入装置,循环气体可分别通过这两个喷入装置被送入配属的靶子的范围内。其中,循环气体一者是由一种通常为氧气的活性气体构成,再者是由一种通常为氩气的惰性气体构成。该设备还具有设在气体输送管道内的阀门,这些阀门可控制由气体容器到气体喷入装置的给气量。EP 0219273 B1公开一种此类型的设备,其中,在真空室内设有多个前后相继的溅镀阴极。为了进行镀膜,基片相继地通过所有的阴极并据此被镀敷一个多层系统。溅镀用阴极为平面磁控管型,其中,镀膜区为来自不同气源的气流所冲刷,据此,金属层和氧化物层均可被镀到基片上。US 3 945 903也描述也一种类似的设备,但区别在于,气流自上而下地来自一排阴极的首、尾处的气源,并在中间的阴极范围内气流可自下而上地进入作业室且靶子是被遮挡箱包封的。EP 0 411 359 A2也公开了一种用于测量薄层厚度的装置,在对通过作业室的工件进行镀膜时这些薄层可同时被镀在这些工件上或检测基片上。其中,厚度测量是通过对该薄层的透射特性、反射特性或阻力特性的检测或者通过对该薄层的机械测量进行的。其中,前后相继地设有多个具有待溅射靶子的阴极装置,并且遮挡板固定在靶子和工件之间,这些遮挡板除分别具有供镀膜料流通过的中心孔外,在料流的范围内还分别具有一个另外的、窗口形的开口,这些窗口形的开口是相互错置地横向于基片的运输方向设置的并据此在通过阻极装置的工件上或特别是在检测基片上生成相邻的检测条纹,这些检测条纹分别相当于在基片或工件上生成的镀层区的一层。在该公开的装置中,虽然为惰性气体和活性气体各设了一个入口,但这些气体在整个作业室内及在紧靠两个前后相继设置的阴极靶子前被遮挡板包封的腔内仍是均匀分布的。最后,US-PS 5 169 509曾建议一种用以活性地镀膜电绝缘材料,譬如镀膜二氧化硅的设备。该设备包括一个交流电源,该交流电源与包含设在真空镀膜室内的磁铁的阴极相连,这些阴极在电气上与靶子协同作用。这些靶子被溅射并且其被溅射的粒子落在基片上,其中,循环气体和活性气体,如氩气和氧气可被置入镀膜室。其中,交流电源的,特别是一个交流变压器的次级绕组的两个不接地的输出端与每一个载有一个靶子的阴极,特别是磁控管阴极相连。其中,镀膜室内的两个阴极并排地设在一个等离子腔内,这两个阴极距对面的基片具有大致相等的空间距离。包封两个阴极靶子的共用遮挡板在其侧壁上配有开口,据此,两个阴极与一个唯一的气体喷入装置协同作用,循环气体可经过该气体喷入装置进入被遮挡板或遮挡包封的区域。这些公开的设备的一个主要的缺点在于,气流的混合是不可避免的,因此不能精确地保证镀层的质量和镀层的厚度。本专利技术的任务在于提供一种下述类型的设备,该设备适于把一个包括一个金属层和一个金属氧化物层以及一个由两种材料构成的中间层或过镀的多层系统镀敷到基片上,其中,镀层的厚度,镀层的成分和镀层的均匀性应当尽可能精确地,特别是利用气流来控制。按照本专利技术,解决以上任务的技术方案在于,紧靠靶子之下的区域是分别被槽形的遮挡板或遮挡箱划分的。其中,遮挡板在其构成底部的部件上分别具有限定镀膜区域的开口,并且两个中的每个遮挡板在其自身垂直于靶子平面延伸的侧壁上均有一个空档或一系列的孔,这些孔分别对准配属的气体喷入装置的出口。本专利技术的优点是气体喷入装置由一个至少是部分地被槽形遮挡板包封的管子构成,该管在其面对遮挡板侧壁上空档的分段上配有气源出口,这些气流出口可使气流直接进入被遮挡板包封的腔室内。有利的是每个气体喷入装置由被弯成U形的、被分为三个分段的管子构成,并且在这三个分段中的中部分段上具有循环气体的气流出口。其中,两个气体喷入装置的具有气流出口的中部分段分别设在两个槽形遮挡板的相互背离的侧面上。在一个优选的实施方案中,设在槽形遮挡板的侧壁上的空档分别被凸缘形的或舌形的金属板所填补,该钢板的一端与侧壁固定连接,其另一端斜伸入被遮挡板包封的腔室内。本专利技术提供了不同的实施可能性,在附图中详细地示出了其中的一种实施可能性。附图所示为附图说明图1设备的侧视图,其中部分是纵断面图,图2图1所示的气体喷入装置的俯视图,图3一个双层系统的曲线图。如图1所示,两个溅镀用阴极4、5如此地装在一个未详细示出的真空室的盖子2上,使阴极的靶子7、8直接对准其上放有基片3的、沿箭头方向A运动的基片支座1。槽形的、具有矩形轮廓的遮挡板14、15分别用螺钉固定在两个阴极4、5的底上。遮挡板14、15在其底部14′、15′上配有开口16、17,这两个开口可使来自靶子7、8的粒子流通往沿箭头方向运动的基片3。两个遮挡板14、15中的每个遮挡板被气体喷入装置10、11中的一个包封,每个气体喷入装置由一个弯成U形的管段构成。其中,从基片的运动方向看,每个中间分段10″(和11″,图中未详细示出)是平行于第一个侧壁部分和最后的侧壁部分14″和15″设置的。两个气体喷入装置(见图2)中间分段10″、11″中的每一个在范围B中具有为数很多的出口喷嘴25、25′、25″和26、26′、26″,这些喷嘴均设在U形管的中间分段10″的内侧上。此外,出口喷嘴25、25′、25″…是对准槽形遮挡板14、15的侧壁部分14″、15″上的开口或空档18、19而开的,据此,由喷嘴25、25′、25″……和26、26′、26″……流出的气体可直接进入紧靠靶子7、8下方的、被两个遮挡板14、15包封的两个腔室或者区域12、13内。如果两个阴极4、5带有由铬制作的靶子7、8,并且经由气体喷入装置11喷入一种惰性气体及经由另一气体喷入装置10喷入一种活性气体,且基片同时沿箭头方向A从两个阴极方通过,则在基片3上生成一个底层区,譬如Cr/Cr Ox NY。当然,也可经由气体喷入装置11把一种活性气体喷入腔室13及经由气体喷入装置10把一种惰性气体喷入腔室12,据此,可生成一个壁如Cr Ox Ny/Cr Nx或Cr Ox Ny/Cr的底层区。尚须提及的是,如图2所示,两个外分段10′、10和11′、11分别越过一个窄桥23而连接起来,这个窄桥用于在挡板箱范围内更好地固定气体喷入装置。循环气体本身经过接头24被导入三个分段之一中。图3以图线的形式描述了一个在实际中生成的镀层系统的例子。符号表1 基片支座2 盖子3 基片4、5阴极6 镀膜室7、8靶子9 运输平面10、11 喷入装置12、13 腔室、区域14、15 遮挡板16、17 开口18、19 空档21、22 钢板23 窄桥24 接头25、25′、25″ 喷嘴26、26′、26″ 喷嘴权利要求1.用于对平的基片(3),为平的荧光屏玻璃板连续进行镀膜的设备,具有两个主要是平面磁控管型的溅镀用阴极(4、5),这两个阴极并排地设在一个共用的、真空镀膜室(6)内,其靶子(7、8)固定在一个与基片(3)的运输平面(9)平行的平面上,且这两个阴极由相同的材料构成,该设备本文档来自技高网...
【技术保护点】
用于对平的基片(3),为平的荧光屏玻璃板连续进行镀膜的设备,具有两个主要是平面磁控管型的溅镀用阴极(4、5),这两个阴极并排地设在一个共用的、真空镀膜室(6)内,其靶子(7、8)固定在一个与基片(3)的运输平面(9)平行的平面上,且这两个阴极由相同的材料构成,该设备还为每个阴极(4、5)设置一个气体喷入装置(10、11),循环气体可分别通过这两个喷入装置被送入配属的靶子(7、8)的范围内,其中,循环气体一者是由一种通常为氧气的活性气体构成,再者是由一种通常为氩气的惰性气体构成。该设备还具有设在气体输送管道内的阀门,这些阀门可控制由气体容器到气体喷入装置(10、11)的给气量,其特征在于,紧靠靶子(7、8)之下的腔室或区域(12、13)是分别被槽形的遮挡板(14、15)包封的,其中遮挡板(14、15)分别在其构成底部(14′、15′)的部件中具有限定粒子流的开口(16、17),每个遮挡板(14、15)在其垂直于靶子平面延伸的侧壁(14″和15″)上具有一个空档(18、19)或一系列的孔,这些孔分别对准配属的气体喷入装置(10和11)的气流出口(25、25′…26、26′…)。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:J施托伦韦克,P罗伊斯,KH克雷奇默,
申请(专利权)人:鲍尔泽斯加工系统有限公司,
类型:发明
国别省市:DE[德国]
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