【技术实现步骤摘要】
一种适用于磁控溅射镀膜生产中柱状磁缸的磁场测量装置
本技术涉及玻璃生产
,具体涉及一种适用于磁控溅射镀膜生产中柱状磁缸的磁场测量装置。
技术介绍
在玻璃镀膜生产中磁控溅射镀膜采用的阴极靶材主要有两种,一种是旋转靶,采用的是柱状磁缸;另一种是平面靶,采用的是平面磁缸。溅射膜层的厚度均匀性,主要与磁场的均匀性相关,因此需要测量磁缸磁场的均匀性,以便分析调节。目前测量柱状磁缸磁场均匀性的方法为通过高斯仪测量磁缸正下方一条直线的磁感应强度,通过一条直线上的磁感应强度,认为代表此根磁缸的磁场分布情况。但磁缸正下方位置并不是磁控溅射的溅射区域,并且磁控溅射的区域是一条非绝对直线的条形区域,并不是一条直线。磁控溅射旋转靶溅射采用的柱状磁缸,单根旋转靶的主要溅射区域在磁缸正下方离磁缸中心约±20°左右,故现有技术测得的柱状磁缸的磁感应强度并不能准确反映其磁场分布情况。
技术实现思路
本技术提供一种适用于磁控溅射镀膜生产中柱状磁缸的磁场测量装置,通过设置多点位测量点从而准确的测量柱状磁缸的磁场分布。为达到上述目的,本技术采用的技术方案是:一种适用于磁控溅射镀膜生产中柱状磁缸的磁场测量装置,包括用以支撑待测柱状磁缸的支架、沿所述待测柱状磁缸的轴向滑动设置的安装座,所述安装座设于所述待测柱状磁缸的正下方,所述安装座至少包括与所述待测柱状磁缸的周部相配合的圆弧状主体部,所述主体部上沿其周向间隔设有多个用以安装高斯仪探针的安装孔,所述安装孔沿所述主体部的径向延伸。进一步的,所述安装座的内壁与所述待测柱状磁缸的外壁相贴触或具有间隙。进一步的,所述主体部的圆弧角度为10°~90°。进 ...
【技术保护点】
一种适用于磁控溅射镀膜生产中柱状磁缸的磁场测量装置,其特征在于: 包括用以支撑待测柱状磁缸的支架、可滑动的设置于所述支架上的安装座,所述安装座设于所述待测柱状磁缸的正下方且其运动方向平行所述待测柱状磁缸的轴心线方向,所述安装座至少包括与所述待测柱状磁缸的外侧周部相配合的圆弧状主体部,所述主体部上沿其弧形延伸方向间隔设有多个用以安装高斯仪探针的安装孔,所述安装孔沿所述主体部的径向延伸。
【技术特征摘要】
1.一种适用于磁控溅射镀膜生产中柱状磁缸的磁场测量装置,其特征在于:包括用以支撑待测柱状磁缸的支架、可滑动的设置于所述支架上的安装座,所述安装座设于所述待测柱状磁缸的正下方且其运动方向平行所述待测柱状磁缸的轴心线方向,所述安装座至少包括与所述待测柱状磁缸的外侧周部相配合的圆弧状主体部,所述主体部上沿其弧形延伸方向间隔设有多个用以安装高斯仪探针的安装孔,所述安装孔沿所述主体部的径向延伸。2.根据权利要求1所述的一种适用于磁控溅射镀膜生产中柱状磁缸的磁场测量装置,其特征在于:所述安装座的内壁与所述待测柱状磁缸的外壁相贴触或具有间隙。3.根据权利要求1所述的一种适用于磁控溅射镀膜生产中柱状磁缸的磁场测量装置,其特征在于:所述主体部的圆弧角度为10°~90°。4.根据权利要求3所述的一种适用于磁控溅射镀膜生产中柱状磁缸的磁场测量装置,其特征在于:所述主体部的圆弧角度为90°。5.根据权利...
【专利技术属性】
技术研发人员:宋保柱,王栋权,武瑞军,
申请(专利权)人:吴江南玻华东工程玻璃有限公司,中国南玻集团股份有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏,32
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