AMS探测器校验装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种AMS探测器校验装置，包括：铅屏蔽体，其上端具有圆柱型凹槽，凹槽底面镶嵌有放射源，放射源偏离凹槽底面中心预设距离设置；转动体，其安装在铅屏蔽体的上表面，并且完全覆盖住放射源；以及反射体，其安装在铅屏蔽体的上表面，反射体覆盖部分的圆柱型凹槽，并且完全覆盖住放射源。由于在铅屏蔽体安装有反射体，反射体完全覆盖住放射源，完全屏蔽了放射源对人体的照射，并且校验探头安装在可旋转的转动体上，转动体可将安装孔旋转至反射体没有覆盖的区域用于安装校验探头，再将校验探头旋转至放射源的正上方进行校验，从而使得校验操作方便，并且极大降低了工作人员的吸收剂量和消除了误照射风险。

【技术实现步骤摘要】
AMS探测器校验装置
本专利技术涉及核电
，具体涉及一种AMS探测器校验装置。
技术介绍
核电站EPR机组堆芯仪表系统/气动小球测量子系统AMS(AeroballMeasurementSystem)，用于定期测量堆芯内中子通量。根据系统维修大纲，需要每18个月对AMS探测器(360个)进行校验，校验需要使用Co60放射源产生的γ射线。现有AMS探测器校验装置的Co60放射源上方无屏蔽部件，最大剂量率的工作区域为源正上方手柄处，剂量率为42mSv/h，校验工作需用手依次将360个探测器放入Co60源上，整个校验工作手部吸收剂量很大，约为17mSv；由于Co60源向上裸露，人体禁止靠近源上方位置，但因工作人员需要在放射源周围活动，仍存在很大的误照射风险。
技术实现思路
本申请提供一种可避免辐射的AMS探测器校验装置。一种实施例中提供一种AMS探测器校验装置，包括：铅屏蔽体，其上端具有圆柱型凹槽，凹槽底面镶嵌有放射源，放射源偏离凹槽底面中心预设距离设置；转动体，其为与圆柱型凹槽适配的圆柱体结构，转动体可转动的安装在圆柱型凹槽内，并且转动体的高度小于等于圆柱型凹槽的深度，转动体的上表面设有用于安装校验探头的安装孔，安装孔的偏心距与放射源相同；以及用于反射放射物质的反射体，其安装在铅屏蔽体的上表面，反射体覆盖部分的圆柱型凹槽，并且完全覆盖住放射源。进一步地，安装孔具有两个，沿着转轴中心对称设置。进一步地，安装孔上镶嵌有套筒，并且套筒上表面与转动体上表面齐平，套筒材质为碳素结构钢，套筒的上端具有开口，下端封闭，套筒的底部厚度为1mm，校验探头安装在套筒内。进一步地，转动体下端安装有辅助旋转的平面轴承或滚珠。进一步地，转动体的上表面还设有用于转动的把手。进一步地，铅屏蔽体上表面设有安装反射体的凸起，使得反射体与转动体之间具有预设间隙。进一步地，放射源为Co60放射源。进一步地，反射体和转动体由钨合金材质制成。进一步地，还包括支撑架，铅屏蔽体安装在支撑架上。进一步地，支撑架的下端安装有万向轮。依据上述实施例的AMS探测器校验装置，由于在铅屏蔽体安装有反射体，反射体完全覆盖住放射源，完全屏蔽了放射源对人体的照射，并且校验探头安装在可旋转的转动体上，转动体可将安装孔旋转至反射体没有覆盖的区域用于安装校验探头，再将校验探头旋转至放射源的正上方进行校验，从而使得校验操作方便，并且能够完全避免辐射的伤害。附图说明图1为一种实施例中AMS探测器校验装置的结构示意图；图2为一种实施例中AMS探测器校验装置的局部剖视图；图3为一种实施例中铅屏蔽体的结构示意图；图4为一种实施例中转动体的结构示意图；图5为一种实施例中转动体的剖视图；图6为一种实施例中套筒的结构示意图。具体实施方式下面通过具体实施方式结合附图对本专利技术作进一步详细说明。在本实施例中提供了一种AMS探测器校验装置，本校验装置主要用于对AMS探测器的校验，校验时能够有效避免放射源的辐射，本装置也可用于其他通过放射源校验的设备中。如图1和图2所示，本例的AMS探测器校验装置主要包括铅屏蔽体1、转动体2和反射体3。如图1和图3所示，铅屏蔽体1由纯铅材质制成，能够有效的屏蔽放射源辐射。铅屏蔽体1为圆柱型结构，上端设有圆柱型凹槽11，圆柱型凹槽11和铅屏蔽体1的中心线重合，在圆柱型凹槽11的底面设有安装孔，安装孔远离底面中心，靠近边缘位置，放射源4镶嵌安装在底面的安装孔中，并且放射源4不凸出于圆柱型凹槽11的底面，放射源4为Co60放射源，能够对AMS探测器进行校验。如图4所示，转动体2为圆柱体结构，转动体2与铅屏蔽体1的圆柱型凹槽11相适配，转动体2的外径略小于圆柱型凹槽11的内径，并且转动体2的高度小于等于圆柱体凹槽11的深度，转动体2可转动的安装在铅屏蔽体1的圆柱型凹槽11内。如图5所示，为了提高转动体2转动灵活度，在转动体2的下端安装轴承组件5，使得转动体2能够灵活转动，在其他实施例中，也可安装滚珠或平面轴承其辐射转动的作用。转动体2的上表面设有贯穿转动体2的安装孔21，本例中优先的，在转动体2上设有两个安装孔21，两个安装孔21沿着旋转中心对称设置，并且安装孔21的偏心距和圆柱型凹槽11的偏心距相同，使得安装孔21能够旋转至放射源4的正上方。如图4和图6所示，在安装孔21上还镶嵌有套筒6，套筒6为碳素结构钢材质，套筒6的上端具有用于安装的法兰盘，法兰盘上设有安装孔，套筒6的下端为封闭结构，套筒6下端底部的厚度为1mm，可吸收Co60衍生的β射线，防止其对探头校验产生的干扰。套筒6镶嵌在转动体2的安装孔21上了，为了让套筒6不凸出于转动体2的上表面，在安装孔21的上端设有下沉的圆形台阶面，套筒6通过螺钉固定在台阶面上。校验时，可将AMS探测器的校验探头安装到套筒6中。为了方便操作转动体2的转动，在转动体2的上表面安装有垂直的把手7，校验人员可通过把手7轻松的转动转动体2。为了更好的安装转动体2，铅屏蔽体1的圆柱型凹槽11设有台阶，即台阶上端的腔体内径大于下端的内径，相应的转动体2呈具有台阶的圆柱体，上端的外径大于下端的外径，台阶的设置，使得转动体2的安装更为稳定，旋转也更为稳定。反射体3和转动体2都由高比重钨合金97W2Ni1Fe材质制成。反射体3呈橄榄球状的板块，反射体3安装固定在铅屏蔽体1的上端，反射体3覆盖住部分的圆柱型凹槽11，并且完全覆盖安装在圆柱型凹槽11底部的放射源4，圆柱型凹槽11大半部分没有被反射体3覆盖，把手7位于没有被覆盖的区域，并且把手7高于反射体3，便于操作。为了方便把手7能够精确的将校验探头旋转至放射源4的正上方，在转动体3和铅屏蔽体1的对应位置设置对齐刻度，当刻度对齐时，即旋转到了指定位置可进行校验。如图1所示，为了使得反射体3和转动体2之间预留有转动和走线的空间，在铅屏蔽体1的上端设有预设高度凸起12，反射体3安装在凸起12上。本例的AMS探测器校验装置还包括支撑架8，铅屏蔽体1安装在支撑架8上端，并且在支撑架8的下端安装有五个万向轮9，五个万向轮9均匀分布在支撑架8下端的圆周上，万向轮9方便了整个装置的搬运。本例中的所有部件的外层由奥氏体不锈钢包裹，防止铅和钨对环境的污染，及便于组装。本例的转动体2具有两个安装孔21，校验时，可先将校验探头安装到其中一个安装孔21中，然后把手7转动转动体2将校验探头旋转至放射源4的正上方进行校验，在校验的过程中，另一个安装孔21露出在外侧，可将其他校验探头安装放置到安装孔21中，待第一个校验探头校验完毕后，转动体2旋转180°，校验第二个放置的校验探头，并取出第一个校验探头，再放置第三个校验探头，如此循环安装校验，节约了安装放置时间，提高校验效率。本例的AMS探测器校验装置，由于在铅屏蔽体1安装有反射体3，反射体3完全覆盖住放射源4，完全屏蔽了放射源4对人体的照射，并且校验探头安装在可旋转的转动体2上，转动体2可将安装孔21旋转至反射体3没有覆盖的区域用于安装校验探头，再将校验探头旋转至放射源4的正上方进行校验，从而使得校验操作方便，并且能够完全避免辐射的伤害。与现有技术对比，本例的校验装置的最大剂量的工作区域位于钨反射层内边缘处，剂量率为32μSv/h，整个校验工作手部剂量约为32μSv，远小于本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种AMS探测器校验装置，其特征在于，包括：铅屏蔽体，其上端具有圆柱型凹槽，所述凹槽底面镶嵌有放射源，所述放射源偏离凹槽底面中心预设距离设置；转动体，其为与所述圆柱型凹槽适配的圆柱体结构，所述转动体可转动的安装在所述圆柱型凹槽内，并且所述转动体的高度小于等于所述圆柱型凹槽的深度，所述转动体的上表面设有用于安装校验探头的安装孔，所述安装孔的偏心距与所述放射源相同；以及用于反射放射物质的反射体，其安装在所述铅屏蔽体的上表面，所述反射体覆盖部分的所述圆柱型凹槽，并且完全覆盖住所述放射源。

【技术特征摘要】
1.一种AMS探测器校验装置，其特征在于，包括：铅屏蔽体，其上端具有圆柱型凹槽，所述凹槽底面镶嵌有放射源，所述放射源偏离凹槽底面中心预设距离设置；转动体，其为与所述圆柱型凹槽适配的圆柱体结构，所述转动体可转动的安装在所述圆柱型凹槽内，并且所述转动体的高度小于等于所述圆柱型凹槽的深度，所述转动体的上表面设有用于安装校验探头的安装孔，所述安装孔的偏心距与所述放射源相同；以及用于反射放射物质的反射体，其安装在所述铅屏蔽体的上表面，所述反射体覆盖部分的所述圆柱型凹槽，并且完全覆盖住所述放射源。2.如权利要求1所述的AMS探测器校验装置，其特征在于，所述安装孔具有两个，沿着转轴中心对称设置。3.如权利要求1或2所述的AMS探测器校验装置，其特征在于，所述安装孔上镶嵌有套筒，并且所述套筒上表面与所述转动体上表面齐平，所述套筒材质为碳素结构钢，所述套筒的上端具有开口，下端封闭，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：周冰，陈海彦，李肖宁，
申请(专利权)人：台山核电合营有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44