一种低本底屏蔽铅室制造技术

本实用新型专利技术涉及铅室屏蔽技术领域，具体涉及一种低本底屏蔽铅室，包括屏蔽室，屏蔽室内设置有探测器，屏蔽室上端盖设有顶盖，屏蔽室外侧壁上设置有放射源校准装置；放射源校准装置包括壳体，以及设置在壳体中的遮挡块和放射源，遮挡块与壳体滑动连接，且遮挡块开设有横向贯穿遮挡块的第一通孔，放射源正对探测器，屏蔽室正对探测器的位置开设有横向贯穿屏蔽室侧壁的第二通孔。在平时测量中，放射源被遮挡块屏蔽隔离，不影响正常测量；需要校准时，移动遮挡块，使得遮挡块的第一通孔与屏蔽室的第二通孔连通，使探测器能够探测到放射源，通过探测器探测得到的数据来判断探测系统是否稳定，从而判断之前测量数据的有效性，提高监测系统的可靠性。

【技术实现步骤摘要】
一种低本底屏蔽铅室
本技术属于铅室屏蔽
，具体涉及一种低本底屏蔽铅室。
技术介绍
放射性污染是指放射性物质的放射性水平高于天然本底或者超过规定的卫生标准。放射性污染物主要是各种放射性核素，其放射性与化学状态无关，每一放射性核素都能发射出一定能量的射线。而水体中放射性污染物主要包括天然来源和人工来源两种方式。其中天然来源是由岩石、土壤以及大气相互作用而带入水体的，由于放射性矿物质和岩石的浸析和溶解过程，地面水包含了铀、镭、氡等放射性元素。而人工放射性污染物主要来源于：①天然矿的开采和选矿、精炼厂、放射性同位素应用时产生的废水；②对铀矿的加工中，矿石的化学处理、离子交换沉淀法和萃取法从溶液中有选择地提取铀，铀衰变的放射性产物基本上随着矿石化学处理后的废液流失夹带出来。水体中的放射性核素可通过多种途径进入人体，使人受到放射性伤害，因此采用水体放射性监测系统对水体放射性进行实时在线监测。水体放射性监测系统的探测系统包括低本底屏蔽铅室和高纯锗探测器，高纯锗探测器位于屏蔽铅室的中心，屏蔽铅室可以屏蔽天然放射性核素对水体中放射性核素监测的影响。但是现有的探测系统在长期自动连续测量中，高纯锗探测器可能会不稳定，导致该期间测量的数据均为无效数据，影响该监测系统的可靠性。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种可以提高水体放射性监测系统可靠性的低本底屏蔽铅室。为达到上述要求，本技术采取的技术方案是：提供一种低本底屏蔽铅室，包括屏蔽室，屏蔽室内设置有探测器，屏蔽室上端盖设有顶盖，屏蔽室外侧壁上设置有放射源校准装置；放射源校准装置包括壳体，以及设置在壳体中的遮挡块和放射源，遮挡块与壳体滑动连接，且遮挡块开设有横向贯穿遮挡块的第一通孔，放射源正对探测器，屏蔽室正对探测器的位置开设有横向贯穿屏蔽室侧壁的第二通孔。与现有技术相比，本技术具有以下优点：(1)在平时测量中，第一通孔和第二通孔错位，放射源被遮挡块屏蔽隔离，不影响正常测量；当需要校准时，则移动遮挡块，使得遮挡块的第一通孔与屏蔽室的第二通孔连通，从而使探测器能够探测到放射源，通过探测器探测得到的数据来判断探测系统是否稳定，从而判断之前测量数据的有效性，提高监测系统的可靠性；(2)在屏蔽室内设置有清洗装置，通过外部的增压泵将水增压后泵入清洗管中，水通过清洗管中的出水孔喷洒在屏蔽室的内壁上，对屏蔽室的内壁进行冲洗，保证探测系统在长时间运行时屏蔽铅室内壁不被污染。附图说明此处所说明的附图用来提供对本申请的进一步理解，构成本申请的一部分，在这些附图中使用相同的参考标号来表示相同或相似的部分，本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的不当限定。在附图中：图1为本技术的结构示意图。具体实施方式为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚，以下结合附图及具体实施例，对本申请作进一步地详细说明。为简单起见，以下描述中省略了本领域技术人员公知的某些技术特征。如图1所示，本实施例提供一种低本底屏蔽铅室，包括由铅制成的屏蔽室14，此处铅的内径为50cm，外径为60cm；屏蔽室14内设置有探测器5，屏蔽室14上端盖设有顶盖1，屏蔽室14外侧壁上设置有放射源8校准装置；放射源8校准装置包括壳体7，以及设置在壳体7中的遮挡块6和137Cs放射源8，壳体7和遮挡块6均由铅制成；遮挡块6开设有横向贯穿遮挡块6的第一通孔9，放射源8正对探测器5，屏蔽室14正对探测器5的位置开设有横向贯穿屏蔽室14侧壁的第二通孔10；遮挡块6与壳体7滑动连接，具体可以为遮挡块6沿壳体7的顶部左右滑动，也可以为沿壳体7的侧壁上下滑动；总之，遮挡块6在滑动到某一位置时，遮挡块6的第一通孔9与屏蔽室14的第二通孔10连通，此时探测器5可以探测到放射源8。屏蔽室14外围由1cm厚的不锈钢钢板15包覆，第二通孔10横向贯穿不锈钢钢板15。屏蔽室14内壁包覆一层2mm厚无氧铜层13，第二通孔10横向贯穿无氧铜层13。屏蔽室14的开口处盖设有尼龙盖板2，尼龙盖板2底部中间设置有尼龙套筒3，探测器5设置于尼龙套筒3中，并且探测器5位于屏蔽室14的中心位置。尼龙盖板2底部设置有清洗装置，清洗装置包括圆环型的清洗盘4和四根清洗管11，清洗盘4安装在尼龙盖板2底部，并且尼龙套筒3穿过清洗盘4的中空部分；清洗管11沿清洗盘4的圆周方向均匀固定设置，并且清洗管11上均匀分布有若干出水孔；顶盖1开设有清洗水口，清洗管11经清洗水口引出后与外部的增压泵连通。此处的清洗水口也可以用作屏蔽室14的溢水口，复用一个开口可以减少屏蔽室14开口数量。考虑到定期清洗及安装方便，屏蔽室14内设置有不锈钢内胆12，该不锈钢内胆12位于无氧铜层13内侧，第二通孔10横向贯穿不锈钢内胆12。顶盖1设置有进水口，用于引进待检测的液体；屏蔽室14底部设置有排水口，用于排除屏蔽室14内的液体；排水口和进水口均与屏蔽室14连通。以上实施例仅表示本技术的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能理解为对本技术范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本技术构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本技术保护范围。因此本技术的保护范围应该以权利要求为准。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种低本底屏蔽铅室，其特征在于，包括屏蔽室，屏蔽室内设置有探测器，屏蔽室上端盖设有顶盖，屏蔽室外侧壁上设置有放射源校准装置；放射源校准装置包括壳体，以及设置在壳体中的遮挡块和放射源，遮挡块与壳体滑动连接，且遮挡块开设有横向贯穿遮挡块的第一通孔，放射源正对探测器，屏蔽室正对探测器的位置开设有横向贯穿屏蔽室侧壁的第二通孔。

【技术特征摘要】
1.一种低本底屏蔽铅室，其特征在于，包括屏蔽室，屏蔽室内设置有探测器，屏蔽室上端盖设有顶盖，屏蔽室外侧壁上设置有放射源校准装置；放射源校准装置包括壳体，以及设置在壳体中的遮挡块和放射源，遮挡块与壳体滑动连接，且遮挡块开设有横向贯穿遮挡块的第一通孔，放射源正对探测器，屏蔽室正对探测器的位置开设有横向贯穿屏蔽室侧壁的第二通孔。2.根据权利要求1所述的低本底屏蔽铅室，其特征在于，所述放射源为137Cs放射源。3.根据权利要求1或2所述的低本底屏蔽铅室，其特征在于，所述壳体和遮挡块均由铅制成。4.根据权利要求1所述的低本底屏蔽铅室，其特征在于，所述屏蔽室由铅制成。5.根据权利要求1或4所述的低本底屏蔽铅室，其特征在于，所述屏蔽室外围由不锈钢钢板包覆，所述第二通孔横向贯穿不锈钢钢板。6.根据权利要求5所述的低本底屏...

【专利技术属性】
技术研发人员：曾国强，葛良全，郭生良，赖茂林，
申请(专利权)人：成都新核泰科科技有限公司，
类型：新型
国别省市：四川,51