【技术实现步骤摘要】
本专利技术提供了一种高压电解电容器用高纯铝箔的退火工艺。高压电解电容器用高纯铝箔表面｛100｝晶面的占有率是衡量这种铝箔质量的关键指标。采用通常的退火工艺所获得的｛100｝晶面的占有率比较低，而且不稳定，因而损害铝箔的电学性能。采用1986年8月27日公开的专利“电解电容器用硬态高纯铝箔的快速退火”(国际专利分类号C22F1/04，申请号85100347)所提供的工艺对冷轧态高纯铝箔进行处理，亦不能获得很高的｛100｝晶面占有率，而且所获得的｛100｝晶面占有率也不稳定。我国中，高压铝电解电容器的年产量达数千万只。随电子工业，尤其是计算机工业的发展，铝电解电容器的需求量会迅猛增长。目前我国这类产品所用高纯铝箔基本上依靠进口。国外有关铝公司(如西德VAW铝业联合公司)也在积极开展改善高纯铝箔生产和加工工艺方面的研究工作。本专利技术的目的在于解决高压电解电容器用高纯铝箔生产中的关键技术难题，即｛100｝晶面占有率低的问题。本专利技术的内容是提供了一种高压电解电容器用高纯铝箔生产的热处理工艺。即对经适当冷轧的高纯铝箔进行分段退火处理。具体方式为200至250℃保温...
【技术保护点】
一种生产高压电解电容器用高纯铝箔的退火工艺，其特征在于对高纯铝箔进行分阶段退火处理，即在２００－２５０℃保温５－１０分钟，然后在３００－３５０℃保温１０－１５分钟，最后在４００－５００℃保温１－５分钟快冷至室温。
【技术特征摘要】
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